【課題】レジストパターンを形成するために、所定の組成を有するレジスト層に対して高い解像度をもたらす。
【解決手段】基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】 塗布欠陥、塗布膜厚均一性、ＰＥＢＳ性能に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する構造部位（Ｓ１）と、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液中への溶解速度が増大する構造部位（Ｓ２）とを備えた繰り返し単位（Ａ）を含む樹脂（Ｐ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、前記溶剤として、下記Ｘ群およびＹ群に列挙された溶剤のうち少なくとも１種を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
（Ｘ群）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、乳酸アルキルエステル類、アルコキシ酢酸アルキル類、アルコキシプロピオン酸アルキル類、ピルビン酸アルキル類、酢酸アルキルエステル；
（Ｙ群）環状ラクトン類、アルキレンカーボネート類。 （もっと読む）

【課題】 ポジ型の化学増幅型レジストからなる多重レジストパターンの形成方法、及びその多重レジストパターンを用いた機能性材料層の加工方法、並びに多重レジストパターン構造体を提供すること。
【解決手段】 光酸発生剤と、酸の作用で溶解性が変化する樹脂成分とを含有するポジ型化学増幅型レジストからなる、第１のレジストパターン４を形成する。次に、その表面に、パターン内に浸透し、酸の作用下でレジスト樹脂成分と架橋反応を行い得る架橋剤と、その浸透を促進する浸透促進剤とを含有する改質材水溶液６を被着させる。次に、架橋剤が浸透した第１のレジストパターン４に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、樹脂成分と架橋剤とを反応させ、少なくともその表層部７に、硬化層９を形成する。次に、第１のレジストパターン間を埋めるように第２のレジスト層１１を形成し、選択的に露光、現像して、第２のレジストパターン１２を形成する。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して高解像度をもたらしつつも、必要露光量の大幅な増加を抑える。
【解決手段】基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト組成物を用い、パターニングを２回以上行って支持体上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法において、２回目のパターニングが、１回目のパターニングで形成した第一のレジストパターンに与えるダメージを低減できるレジストパターン形成方法、および該レジストパターン形成方法における第一のレジストパターン形成用として有用なレジスト組成物の提供。
【解決手段】１回目のパターニングの際、化学増幅型レジスト組成物として、熱塩基発生剤を含有するレジスト組成物を使用して第一のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニングを行う前に、第一のレジストパターンを、前記熱塩基発生剤から塩基が発生するベーク条件にてベークするハードベーク工程を行う。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、かつ、加熱処理（ポストベーク工程）前後のコンタクトホール径の寸法安定性に優れた硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）酸分解性基で保護されたカルボキシ基及び／又は酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有する構成単位（１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（２）と、を含有する共重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、（成分Ｃ）下記式（I）で表される熱酸発生剤、並びに、（成分Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び現像マージン（現像寛容度）に優れ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するモノマー単位（１）、カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位、又は、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）、並びに、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】スキャンスピードが高速（例えば、７００ｍｍ／ｓ）であっても水残りを抑制でき、さらに液浸液と上層膜との界面におけるバブルの発生をも抑制することのできる液浸上層膜を形成できる上層膜形成用組成物の提供。
【解決手段】液浸上層膜形成用組成物は、下記一般式（１−１）で表される繰り返し単位および（１−２）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも一種、炭化水素基を有する繰り返し単位およびフッ素置換炭化水素基を有する繰り返し単位を含有する重合体（Ａ）と溶剤（Ｓ）とを含む。


（一般式（１−１）及び（１−２）中、Ｒ^１は水素原子等を示す。Ｒ^２及びＲ^３は互いに独立に単結合又は炭化水素基を示し、Ｒ^４はフッ素原子置換炭化水素基を示す。） （もっと読む）

【課題】 ポジ型の化学増幅型レジストからなるパターンの耐溶剤性や耐露光・現像性などを向上させる、化学増幅型レジストパターンの改質方法、及びその改質工程で用いられる化学増幅型レジストパターンの改質材、並びに改質されたレジストパターン構造体を提供すること。
【解決手段】 まず、光酸発生剤と、酸の作用によって溶解性が変化する樹脂成分とを含有するポジ型化学増幅型レジストからなるレジストパターン２の表面に、レジストパターン２内に浸透し、酸の作用下で樹脂成分と架橋反応を行い得る水溶性架橋剤と、架橋剤の浸透を促進する浸透促進剤とを水に溶解させた改質材水溶液３を被着させ、レジストパターン２に架橋剤を浸透させた後、余剰の架橋剤を除去する。次に、レジストパターン５に紫外光を照射して酸を発生させ、加熱して、酸の作用下で樹脂成分と架橋剤とを反応させ、レジストパターン２の少なくとも表層部４に硬化層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸によりカルボキシ基を生成する式（Ia）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（Ib）で表される構造を有するモノマー単位（ａ１）、酸によりカルボキシ基を生成する式（IIa）で表される構造又は酸によりフェノール性水酸基を生成する式（IIb）で表される構造を有するモノマー単位（ａ２）、並びに、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ３）、を含有する重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】感光性樹脂組成物の保存安定性、感度及び溶剤除去工程の寛容度に優れ、かつ、透明性及び耐溶剤性に優れた硬化膜を与える感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物により形成された硬化膜を層間絶縁膜として具備する、信頼性と生産性の高い、有機ＥＬ表示装置、及び、液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（Ａ）カルボキシ基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（１）と、フェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（２）と、３員環及び／又は４員環の環状エーテル残基を有するモノマー単位（３）と、を含有する共重合体、（Ｂ）光酸発生剤、並びに、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ポジ型画像記録層を備える平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、画像露光した平版印刷版原版を、下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物の少なくとも一方を含有するｐＨ８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程を、この順で含む平版印刷版の作製方法。 一般式（１）中、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３は、各々独立にアルキル基を表し、Ｒ^１４はアルキレン基を表し、Ｒ^１５は単結合又はヘテロ原子を含む２価の連結基を表す。一般式（２）中、Ｒ^２１、Ｒ^２２及びＲ^２３は、各々独立にアルキル基を表す。
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【課題】大量処理した際の現像カスの発生が抑制され、且つ、経時した平版印刷版原版を用いても安定に現像できる平版印刷版の製版方法、及び、前記製版方法により製版された平版印刷版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（成分Ａ）（メタ）アクリロニトリルに由来する構成単位と、スチレンに由来する構成単位とを含むコポリマー、（成分Ｂ）水不溶性かつアルカリ可溶性の樹脂、及び、（成分Ｃ）赤外線吸収剤、を含有し、露光又は加熱によりアルカリ水溶液に対する溶解性が向上するポジ型記録層を設けた赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、並びに、ベタイン系界面活性剤を含有し、ｐＨが８．５〜１０．８のアルカリ水溶液を用いて現像する現像工程、をこの順で含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、前記第一のレジストパターンを溶解しない有機溶剤を含有するパターン反転用組成物を塗布してパターン反転用膜を形成し、アルカリ現像することにより、前記第一のレジストパターンを除去してパターンを形成する工程とを有し、前記化学増幅型ポジ型レジスト組成物は、酸発生剤成分（Ｂ）と、酸解離性溶解抑制基を有する基材成分（Ａ）とを含有し、前記パターン反転用組成物は、前記（Ａ）成分中の酸解離性溶解抑制基を解離し得る酸成分（Ｈ）と、酸解離性溶解抑制基を有さない基材成分（Ａ”）とを含有し、前記パターン反転用膜は、アルカリ現像液に対する溶解速度が０．３〜３．５ｎｍ／秒であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】第一に、現像ラチチュード、溶解識別性に優れ、高い耐刷性を有し、第二に、露光後の経時による現像性の低下が少なく、焼きだめ性が良好な赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、アルカリ可溶性基を有するグラフト共重合体を含む下層と、露光によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する上層と、を順次積層してなり、下層及び／又は上層に赤外線吸収剤を含み、下層の前記グラフト共重合体がエチレン性不飽和単量体に由来する構成単位をグラフト鎖として有するポリウレタンであることを特徴とする赤外線レーザー用ポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】解像力に優れ、露光ラチチュード（ＥＬ）が広く、また線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さいパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。
【解決手段】化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記化学増幅型レジスト組成物が、（Ａ）樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、及び、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法。式（Ｉ）中、Ａは、環状の有機基を表す。その他の各符号は所定の構造を表す。
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【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。 （もっと読む）