【課題】露光時の重合硬化性を高め、低温加熱もしくは無加熱処理でのパターン構造物や保護膜の形成を可能とする。
【解決手段】樹脂と、下記構造部分（Ｉ）を有する重合性化合物〔構造部分（Ｉ）中、Ｘは、水素原子又はメチル基を表す。＊は、結合手を表す。〕と、光重合開始剤とを含む感光性樹脂組成物である。前記重合性化合物は、分子中に構造部分（Ｉ）を２つ又は３つ以上有することが好ましい。
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【課題】光触媒機能を利用すべき印刷用版材において、版材の耐久性、とくに光触媒機能を有する層の基材自体の層への密着性を格段に高め、それによって版材全体の耐久性を大幅に高めて、その版材を実際の印刷工程に問題なく使用できるようにするとともに、高精細な印刷を可能とし、しかも、問題なく容易に再生できるようにする。
【解決手段】基材（２）自体の表層が、陽極酸化処理した後加熱処理することにより光触媒機能を有する酸化層（３）に改質されており、その酸化層（３）の上に、疎水性の化合物を含み光触媒機能により分解可能な層（４）が被覆されていることを特徴とする印刷用版材（１）、およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】光触媒の作用により親水・撥水パターンを形成可能な平版印刷原版であって、親水性部分と撥水性部分とが十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる平版印刷原版を提供する。
【解決手段】基材上に、光触媒含有層と、撥水性薄膜層と、を順次積層した平版印刷原版であって、前記撥水性薄膜層の表面自由エネルギーが８ｍＪ／ｍ^２以上２０ｍＪ／ｍ^２以下である平版印刷原版である。これによれば、活性線を照射して、撥水性薄膜層を選択的に除去すると共に当該部分を親水化することにより、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトレジストの膜厚を略均一にすることで、良好なパターン形状を円筒状の外表面に形成することができる円筒外表面の加工方法およびパターンシートの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ワーク３の円筒状の外表面３ａに凹凸パターンを形成する円筒外表面の加工方法であって、液槽２内の塗布液１中にワーク３を浸漬させる浸漬工程と、ワーク３を中心軸ＣＡ回りに回転させながら引き上げる取出工程と、ワーク３の外表面３ａに塗布された塗布液１を乾燥させてフォトレジスト層５を形成する乾燥工程と、フォトレジスト層５に光を照射することで凹部パターンを形成する光照射工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】フタロシアニン色素骨格を有するフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。


一般式(I)中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、ハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基を表し、Ｒ³は水素原子または一価の置換基を表し、Φは置換または無置換のアリール基または芳香族ヘテロ環基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびΦのうちの何れか二つ以上が互いに結合して環を形成していてもよい。 （もっと読む）

【課題】 熱架橋剤としてエポキシ化合物を含み、保存安定性に優れる感光性組成物等の提供。
【解決手段】 本発明の感光性組成物は、バインダーと、光重合開始剤と、不飽和二重結合を少なくとも１つ有する重合性化合物と、熱架橋剤と、を含み、イオン交換樹脂を用いてイオン交換処理が施されていることを特徴とする。前記光重合開始剤は、例えば、オキシム誘導体からなる。前記イオン交換樹脂は、例えば、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を混合してなるイオン交換樹脂からなる。該イオン交換処理は、例えば、バッチ法により行う。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】メロシアニン色素骨格を有するフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】シアニン色素およびスチリル色素からなる群から選択された化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】アゾ化合物または該化合物と金属イオンとの錯体化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】新規なフォトレジスト用化合物、前記化合物を用いたフォトレジスト液、当該フォトレジスト液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】下記一般式(I)または(II)で表される化合物であるフォトレジスト用化合物。前記化合物を含むフォトレジスト液。当該レジスト液を使用するエッチング方法。


X¹およびＸ²は、それぞれ独立にＯ、Ｓ、ＳＯ₂またはＮＲを表し、RはＨまたは置換基を表し、Y¹およびY²は、それぞれ独立にＯ、ＳまたはCL¹L²を表し、L¹およびL²は、それぞれ独立に置換基を表し、R¹、〜R⁸は、Ｈまたは置換基を表す。 （もっと読む）

【課題】 酸性から中性領域で現像可能であり、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した保護層成分（現像カス）の分散安定性の問題を克服した平版印刷版の製版方法及び平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】 親水性支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、レーザーで画像露光した後、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、保護層および非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法において、該保護層が、酸変性ポリビニルアルコールを保護層中の全固形分に対し５０質量％以上含有し、前記（Ｄ）バインダーポリマーが、親水性基として、カルボン酸基、スルホン酸基及びリン酸基から選択された少なくとも１つをアンモニウム塩の形で含有する平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】微小網点の現像ラチチュードが広く、耐傷性、特に現像ブラシにより発生する傷に対する耐性に優れた直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂が重量平均分子量の異なる２種類のノボラック樹脂を含有し、ノボラック樹脂のＧＰＣ法による分子量分布が、一方は５百以上５千以下に、他方は１万以上５万以下に極大を有し、かつ、該シリコーンゴム層が特定のポリシロキサンを含有することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版原版の現像処理の残存現像液が少なく一定に保たれ、版面べとつきのない一定品質の平版印刷版を生産することができる平版印刷版の処理方法及び平版印刷版の自動現像機を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版を現像液に浸漬させ、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理するとともに表面保護膜を形成する保護処理を同時に行い、現像処理された平版印刷版原版に付着した現像液を絞る現像絞りローラとして極性ゴムローラを用いる。 （もっと読む）

【課題】 レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な機上現像性またはガム現像性が得られる平版印刷版原版および製版方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、露光後、印刷インキと湿し水とを供給するか、ガム液を供給することにより、未露光部分を除去できる画像記録層を有する平版印刷版原版において、画像記録層および／または下塗り層に一般式（Ｉ）または（II）で表されるベタイン化合物を含有することを特徴とする平版印刷版原版。
【化１】


式中、Ｒ¹〜Ｒ³はそれぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基等を表す。これらの基は、ヒドロキシル基等で置換されていてもよい。Ｚは炭素数１〜４のアルキレン基を表し、ヒドロキシル基で置換されていてもよい。Ｒ¹〜Ｒ³およびＺの少なくとも２つが結合して複素環を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】露光時の重合硬化性を向上し、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できるようにする。
【解決手段】樹脂と、双極子モーメントが３．５０Ｄｅｂｙｅ以上の重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】２００℃以下の低温硬化においても、優れた硬化膜特性を有する低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】２８０℃以下の加熱処理により硬化膜とするために用いる低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物であって、低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物は、（ａ）分岐状の構造を有する、ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリイミド（ＰＩ）又はそれらの前駆体と、（ｂ）光により酸を発生する化合物とを含有する。さらに、ポジ型感光性樹脂組成物は、(ｃ)成分として、熱により（ａ）成分と架橋しうる、あるいはそれ自身が重合しうる化合物を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版原版の現像処理の残存現像液が少なく一定に保たれ、版面べとつきのない一定品質の平版印刷版を生産することができる平版印刷版の処理方法及び平版印刷版の自動現像機を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版を現像液に浸漬させ、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理するとともに表面保護膜を形成する保護処理を同時に行い、現像処理された平版印刷版原版に付着した現像液を絞るためにローラ表面の硬度が２０度〜４０度であって、ローラ表面の粗さが最大高さ（Rｙ）で８．０μm〜１５．０μmの現像絞りローラを用いる。 （もっと読む）

【課題】高い感放射線感度を有し、高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた重合体膜の形成に有用なポジ型感光性重合体組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基と末端がアルコキシであるポリアルキレングリコール基とを有するラジカル重合性モノマー（ａ１）を含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、モノマー（ａ１）を含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】非画像部の汚れ防止性とその持続性、及び画像部と支持体との密着性に起因する耐刷性のいずれにも優れた平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】平均開口径０．５〜５μｍの中波構造と平均開口径０．０１〜０．２μｍの小波構造とを重畳した構造の砂目形状を表面に有する支持体上に、側鎖にカルボキシル基およびカルボン酸エステル基を有する高分子化合物を含有する中間層と、重合開始剤、重合性化合物、及びバインダーポリマーを含有する画像形成層と、を順次積層してなることを特徴とする平版印刷版原版である。 （もっと読む）