【課題】硬化後のフレキシブルプリント基板との積層体の反りを低減することができる感光性カバーレイを提供すること。
【解決手段】少なくとも（Ａ）下記一般式（１）で表されるエポキシ化合物、（Ｂ）可溶性ポリイミド、（Ｃ）光重合性化合物および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性カバーレイ。
【化１】


（上記一般式（１）中、Ｘは２価の連結基を示す。ｎおよびｍはそれぞれ１〜１０の範囲を示す。ただし、ｎ＋ｍ≧４である。） （もっと読む）

【課題】キュア形状に優れ、高感度な感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリベンズオキサゾール前駆体及び可溶性ポリイミドより選ばれる少なくとも一種のアルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、（Ｃ）下記一般式（３）：


で表される有機ケイ素化合物１〜４０質量部、及び（Ｄ）架橋性化合物１〜４０質量部を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、Ｔ_PEB≦８５℃且つ０℃＜Ｔ_PB−Ｔ_PEB＜２５℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、８５℃＜Ｔ_PEB、Ｔ_PEB＜Ｔ_PB、且つＴ_PB＜１００℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、基板上に多種類の高分子を形成できるバイオチップの製造に好適な酸転写樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）に示す構造単位を有する重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有する酸転写樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し；Ｒ²は置換基を有していてもよいアリーレン基を示し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリル基又はフェニル基を示すか、あるいはＲ³及びＲ⁴が窒素原子と一緒になって環状アミノ基を形成してもよい。ｎは０〜８の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 光学系用途としての十分に高い透明性及び屈折率を有し、マイクロレンズアレイを形成する際のレンズ形成能に十分に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 所定の構造を有する硫黄含有化合物と不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物とをモノマー単位として含む重合体、（Ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）活性光線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）アルミニウム粉末を３０〜５重量％および（Ａ２）アルミニウム合金粉末および亜鉛粉末から選ばれる少なくとも１種を７０〜９５重量％含有する導電成分（Ａ）、
アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）、
多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）ならびに
光重合開始剤（Ｅ）を含有することを特徴とする感光性ペースト組成物。 （もっと読む）

【課題】 薄膜でありながら高い遮光性と耐傷性を有し、且つ従来よりも光学濃度のばらつきが小さい感熱マスク層を持つ感光性凸版印刷原版を提供する。
【解決手段】少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）感熱マスク層が順次積層されてなる水現像可能な感光性凸版印刷原版であって、（Ｃ）感熱マスク層がカーボンブラックと、分散バインダーで構成され、分散バインダーがブチラール樹脂、カチオン性ポリアミド及びアニオン性高分子化合物とを含有することを特徴とする感光性凸版印刷原版。 （もっと読む）

【課題】本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（A）カルボキシル基含有量が酸当量で１００〜６００であり、特定のモノマーを共重合成分として５０質量％以上含有し、かつ、重量平均分子量が５０００〜５０００００であるバインダー用樹脂：１０〜９０質量％、（ｂ）光重合性不飽和化合物：５〜７０質量％、（ｃ）光重合開始剤０．０１〜２０質量％を含有してなる光重合性樹脂組成物であって、該（ｂ）光重合性不飽和化合物が、特定の化合物を含有することを特徴とする光重合性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】無電解メッキ面への密着が良好で、かつアルカリ性条件下での光硬化したメッキレジストの除去が容易で、再付着しない微細配線可能なメッキレジストを提供する。
【解決手段】下記一般式で表される有機基（ａ）を１分子中に２個以上含有するラジカル重合性化合物（Ａ）、多官能チオール化合物（Ｂ）、親水性ポリマー（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）及び酸発生剤（Ｅ）を必須成分として含有し、光照射とアルカリ現像によりパターン形成可能で、該光照射した部分を１００℃以上の加熱処理を行うことでアルカリ溶解性にすることを特徴とした感光性樹脂組成物（Ｑ）。
（もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ透明性及び解像性に優れるシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 （ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：上記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステルと、を含有する感光性樹脂組成物を用いてシリカ系被膜を形成する方法であって、上記感光性樹脂組成物からなる塗膜を３００℃未満の温度で加熱硬化する加熱工程を有する、シリカ系被膜の形成方法。
【化１】



［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】 より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、（１）基板上に有機下層膜を成膜し、有機下層膜上にフォトレジストパターンを形成する工程と、（２）フォトレジストパターンに、アルカリ性物質を含むアルカリ性溶液を保持させ、その後過剰なアルカリ性溶液を除去する工程と、（３）フォトレジストパターンに、アルカリ性物質の作用により架橋可能なシロキサンポリマー溶液を塗布して、フォトレジストパターン近傍で架橋させて架橋部を形成する工程と、（４）未架橋のシロキサンポリマー及びフォトレジストパターンを除去する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】遮光性を有し、解像度及び基板への密着性が良好な画像表示装置用の隔壁を、簡便に作業性よく形成することができる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、画像表示装置の隔壁の形成方法及び画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】画像表示装置の隔壁を形成するための感光性樹脂組成物であって、前記感光性樹脂組成物が、（Ａ）（メタ）アクリル酸ブチル及び（メタ）アクリル酸を単量体単位として有するバインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）黒色顔料を含み、前記（Ｃ）光重合開始剤が、アクリジン系化合物、及びベンジルアルキルケタール系化合物を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】（１）露光光に対して高感度で、かつ低温焼成が可能な感放射線性組成物であり、しかも（２）薄膜であっても低い誘電正接および高い誘電率を有し、かつ解像度および電気絶縁性に優れた誘電体を形成可能な感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｃ１）アルキルエーテル化されたアミノ基を分子中に少なくとも２つ有する化合物、（Ｃ２）オキシラニル基含有化合物、（Ｄ）溶剤、および（Ｅ）誘電性無機粒子を含有し、前記化合物（Ｃ１）１００重量部に対して、前記化合物（Ｃ２）を５０〜２００重量部の量で含有する誘電体形成用感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】アニオン再生剤を含有しないことによる、形成されたフォトレジストの物性低下防止。
【解決手段】カルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に有するポリマーに、ジアゾナフトキノン化合物などの光酸発生剤のみを混合して成膜し、紫外線を照射して現像すると、従来よりも低い露光量で、従来と同様のネガ型フォトレジストを形成することができる。即ち、本発明は、基板上に、ヘテロ原子に結合したカルボニル基（Ｃ＝Ｏ）を主鎖に含む縮合型ポリマー及び光酸発生剤を含み、アニオン再生剤を含まないフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクする段階、このパターン面に紫外線を照射する段階、及び該フォトレジスト層を現像液で処理する現像段階から成り、該現像液がテトラ置換アンモニウムヒドロキシド、低分子アルコール及び水を含む溶媒から成る反応現像画像形成法である。 （もっと読む）

【課題】異物を効率よく除去することができ、混入異物の極めて少ない感放射線性樹脂組成物を得ることが可能な感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物の予備組成物を、フィルター部分で、フィルター有効濾過面積当たりの濾過量を３０Ｌ／ｍ^２以下に保持して２回以上繰り返し濾過する工程を含む感放射線性樹脂組成物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】十分な解像度を持つと共に、レジスト剥離液等に対する高い耐性を持ち、かつ優れた放射線感度と加熱時の高い遮光性を併せ持つ感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物、並びに（ａ２）フェノール骨格含有不飽和化合物、ビスフェノール骨格含有化合物、及びナフタレン骨格含有化合物よりなる群から選択される化合物を含む単量体を共重合してなる共重合体のアルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物、及び［Ｃ］感熱色素を含有する隔壁及び絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】画像部の耐薬品性と現像性との双方に優れる赤外線感応性のポジ型感光性平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下記一般式（１）で示される構造単位を有するアルカリ可溶性または膨潤性のポリマー、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、並びに芳香族基を有するスルホニウム塩及びヨードニウム塩から選ばれる少なくとも１種を含有する記録層を設けたポジ型感光性平版印刷版原版。


…（１）

（式中、Ｒ¹は水素原子もしくはメチル基を表し、Ｘは単結合、−ＣＯＯ−、又は−ＣＯＮＨ−を表し、Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ置換基を有してもよい芳香族基又は複素芳香族基を表し、Ｙは−ＳＯ₂ＮＨ−、又は−ＮＨＳＯ₂−を表す。） （もっと読む）

【課題】過酷条件で長期間の保存を行った場合にも、良好な耐刷性を維持しつつ、且つ、良好な汚れ防止性を達成しうる平版印刷版原版用中間層塗布液、及びそれを用いた平版印刷版原版の製造方法及び平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、中間層及び画像記録層をこの順に有する平版印刷版原版用の中間層塗布液であって、該中間層塗布液が、一般式（I）で表される化合物、及びアルミニウム支持体吸着性の官能基を少なくとも１種有する化合物を含有することを特徴とする、平版印刷版原版用中間層塗布液。


（式中、Ｒ¹は炭素数２〜１０の有機置換基を表し、Ｒ²〜Ｒ⁷はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜１０の有機置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】電子線用レジストの現像ローディング評価パターンにおいて、電子線露光時のfoggingの影響と現像ローディングの影響が発生する密なパターン領域を持つフォトマスクから、現像ローディングの影響のみを、工程を増やさず抽出することが出来、現像条件の最適化を行うことが出来る現像ローディング評価パターン、それを用いた評価方法、現像ローディング評価用マスク、および現像方法を提供することを課題とする。
【解決手段】電子線露光量に対応したパターン密度を有する複数個のダミーパターン部Ｂ、Ｃと、ダミーパターン部に近接して設けられた寸法測定パターン部Ａ、Ａ´と、を備えたことを特徴とする現像ローディング評価パターン。 （もっと読む）