【課題】
体積位相型ホログラム記録用感光性組成物、ホログラム記録媒体とその製法、およびホログラム記録法の提供。
【解決手段】
ラジカル重合系(A)、カチオン重合系(B)、およびバインダーポリマー(C)からなり、光を干渉させることによって得られる干渉縞の明暗の強度分布を屈折率の変化として記録するのに使用される体積位相型ホログラム記録材料用組成物において、
カチオン重合系(B)の一構成要素であるカチオン重合開始剤(b2)が、アルキルスルホニウム塩であることを特徴とする体積位相型ホログラム記録用感光性組成物。
なし。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。
【解決手段】 本発明では、ネガ型レジスト上に導電膜を塗布し、電子線露光後、１回目の露光後ベーク（２回目の露光後ベークより低い温度で処理し、難溶化層を薄く形成する）を行ってから、水洗で導電膜を除去し、２回目の露光後ベーク（通常のＰＥＢと同じ温度で処理）を行い、現像するというシーケンスを採用する。あるいは、ネガ型レジスト上に第１の導電膜を形成した後、その表面に第２の導電膜を形成する。この際に、第１の導電膜の酸性度を第２の導電膜の酸性度より弱いものを用いる。
これにより、レジストパターン（ライン）が矩形でありドライエッチング耐性が良好、かつ、ラインエッジラフネスの小さいレジストパターンの形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 画像露光時の感度を低下させることなく、白灯安全性に優れた画像記録材料を提供する。
【解決手段】 （Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、および（Ｃ）加熱することで、重合反応を抑制する化学種を発生する化合物を含有する画像記録材料。特に、支持体上に、（Ａ）重合開始剤、（Ｂ）重合性化合物、および（Ｃ）加熱することで、重合反応を抑制する化学種を発生する化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版として好適に使用可能である。 （もっと読む）

本発明は、カルボン酸を含有するモノマーを少なくとも５０ｍｏｌ％含有し得るフォトレジストの現像を改善するために界面活性剤を含有する、現像剤として用いられる組成物に関する。本発明はまた、この組成物の使用方法である。 （もっと読む）

【要約書】改良された熱現像装置を使用して、未硬化感光性樹脂をフレキソ印刷要素の画像形成表面から除去する。本装置は、概して、フレキソ印刷要素の画像形成表面と接触可能な１つ以上の加熱ロールと、該１つ以上の加熱ロールとフレキソ印刷要素の画像形成表面との接触を維持する手段とを含む。１つ以上の加熱ロールが加熱されてフレキソ印刷要素の画像形成表面の少なくとも一部の上を移動し、並びにフレキソ印刷要素の画像形成表面上の未架橋ポリマーは、１つ以上の加熱ロールにより溶融・除去される。 （もっと読む）

本発明は、水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基を有する少なくとも一種の繰り返し単位と、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基を有する少なくとも一種の繰り返し単位とを含んでなるポリマー、末端ビニルエーテル基を有する架橋剤、場合によっては及び光酸発生剤及び／または酸及び／または熱酸発生剤を含む、前記組成物に関する。本発明は更に、このような組成物の使用方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 クロム含有材料をパターン形成する場合における、下にある基板との不都合な相互作用を防止する改善されたレジスト配合物を提供する。
【解決手段】 室温で固体の塩基と液体の低蒸気圧塩基とを含む塩基添加物の組み合わせを用いることによって、異なる基板上であっても良好なフッティング特性を有するレジスト組成物が得られる。この組成物は、マスク製造に一般に用いられるクロム含有層などの金属基板に対して特に有用である。 （もっと読む）

本発明は層間絶縁膜や表面保護膜等に用いられる感光性樹脂組成物において、解像性に優れた、アルカリ水溶液で現像可能な感光性樹脂組成物を提供するものであり、下記一般式IIで表される繰返し構造単位を少なくとも有する重合体を用いて感光性樹脂組成物を調製する。


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^９はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘは−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＯＮＨ−、−(ＣＨ_２)_ｎ−ＣＨ＝Ｎ−、又は−（ＣＨ_２）_ｎ−ＣＯＮＨ−であり、Ｘ中のＮ原子はｏ−位がＡＯ−基のベンゼン環の炭素原子に結合しており、Ａは水素原子又は酸により分解する基を表し、ｎは１〜３の正の整数を表す。） （もっと読む）

永久フォトレジスト組成物であって、（Ａ）式Ｉによる１種又は複数のビスフェノールＡ−ノボラックエポキシ樹脂（ただし、式Ｉ中の各基Ｒはグリシジル又は水素から個別に選択され、式Ｉ中のｋは０〜約３０の範囲にある実数である）と、（Ｂ）式ＢＩＩａ及びＢＩＩｂにより表される群から選択される１種又は複数のエポキシ樹脂（式中、式ＢＩＩａにおける各Ｒ_１、Ｒ_２、及びＲ_３は、水素、又は炭素原子１〜４個を有するアルキル基からなる群より独立に選択され、式ＢＩＩａ中のｐの値は１〜３０の範囲にある実数であり；式ＢＩＩｂ中のｎ及びｍの値は独立に１〜３０の範囲にある実数であり、式ＢＩＩｂ中の各Ｒ４、及びＲ５は、水素、炭素原子１〜４個を有するアルキル基、又はトリフルオロメチルからなる群より独立に選択される）と、（Ｃ）１種又は複数のカチオン性光開始剤（光酸発生剤又はＰＡＧとしても知られる）と、（Ｄ）１種又は複数の溶媒とを含む組成物。 （もっと読む）

流体（Ｌ３）中に浸漬されたレジスト（Ｌ２）等の感光層をパターニングするために照射する方法は、除去可能な透明層（Ｌ４，Ｌ５）を配置するステップと、流体中の不完全部分が表面上に投影された焦点から外れるように浸漬流体及び透明層を通じてレジスト上に照射線を投射するステップと、その後に透明層を除去するステップとを含んでいる。透明層は、表面上の照射線の焦点からそのような不完全部分を離間させるように機能することができ、そのため、シャドーイングを減少させ又は排除することができる。従って、照射がより複雑となる可能性があるが、欠陥が減少する。それは、特に例えば流体／表面の界面における浸漬流体中の小さな気泡又は粒子の形態をなす不完全部分において特に有効となり得る。照射線は、検査、処理、パターニング等を含む任意の目的のためのものであってよい。透明層の除去は、レジスト層を現像するステップと組み合わせることができる。
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フレキソ印刷版を無溶剤現像および製造のための方法が開示されている。比較的薄い金属で裏打ちされたフォトポリマー層付きの印刷版要素は、化学線に対して選択的に露光され、少なくとも７０℃まで加熱され、次に吸い取られて、レリーフ像を形成する。この方法は、新聞および他の刊行物を印刷するためのフレキソ印刷版の製造に特に適している。 （もっと読む）

フォトレジスト層（１）の表面（４）にくぼみ（１５）を形成する方法が、フォトレジスト層の第１の部分（１２）を第１の照射量の放射エネルギー（７）に曝す段階（１００、１２０、１０１、１０２、１２２）を含む。また、層の第２の部分（１７）を第２の照射量の放射エネルギー（７）に曝す（１２０、１０１、１２２）。第２の照射量は第１の照射量よりも少ない。層はベークされる（１１０、１３０、１３１、１３２）。 （もっと読む）

画像様に露光したフレキソ印刷要素が加熱によって現像され、そしてレリーフ形成層の軟化した、未重合部分を除去する方法によって熱現像によって、フレキソ印刷版が製造されるが、使用したフレキソ印刷要素は、可塑剤との混合物としてスチレン／ブタジエンブロックコポリマーを含み、そして１,２−結合の状態で存在するブタジエンの割合は、ブロックコポリマーに対して１５〜５０質量％である。 （もっと読む）

１つ又はそれ以上のポリベンゾオキサゾール前駆体ポリマー、２〜約９の芳香族ヒドロキシル基を含む化合物と５−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物及び４−ナフトキノンジアジドスルホニル化合物との縮合生成物であるジアゾナフトキノン光活性化合物、及び少なくとも１つの溶媒を含んでなるポジに働く感光性樹脂組成物、並びに、基材上にレリーフパターンを形成し、それによってコーティングされた基材を形成するためのこうした組成物の使用。 （もっと読む）

半導体材料をリワークする方法であって、（ｉ）シリコーン組成物を基板表面に塗布して膜を形成する段階と、（ｉｉ）前記膜の一部を放射線で照射し、前記表面の一部である非照射部と前記表面の残りの部分である照射部とを有する、部分的に照射された膜を作成する段階と、（ｉｉｉ）前記照射部が実質的に現像液に対して非可溶であり、前記非照射部が前記現像液に対して可溶であるような時間、前記部分的に照射された膜を加熱する段階と、（ｉＶ）前記加熱後の膜の非照射部を前記現像液で除去し、パターン形成された膜を作成する段階と（Ｖ）硬化シリコーン層を形成するのに十分な時間前記パターン形成された膜を加熱する段階と、（Ｖｉ）有機溶媒及び塩基を含む無水エッチング液に浸漬して硬化シリコーン層の全部または一部を除去する段階と、を含む方法。 （もっと読む）

本発明は、（ａ）ポリマーバインダーと、（ｂ）光活性化合物と、（ｃ）溶解阻害剤と、を含む、１０〜１６５ｎｍで使用するのに好適なフォトレジスト組成物に関する。ここで、溶解阻害剤は、少なくとも（ｉ）２個の芳香族基と（ｉｉ）フッ素と（ｉｉｉ）非ブロック化されたときにｐＫａ＜１２を有するブロック化酸基とを含む。好ましい溶解阻害剤は、架橋炭素原子がフッ素化脂肪族基で置換されている、場合によりブロック化されたビスフェノール誘導体である。 （もっと読む）

（ａ）成膜性樹脂；
（ｂ）次式
【化１】


［式中、Ｒ₁は、C_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基であり、この際、前記のC_1-20アルキル基、C_6-20アリール基またはC_6-20アラルキル基は、置換されていないか、またはハロゲン、C_1-20アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-20アルコキシ、シアノ、ヒドロキシルもしくはニトロから選択される一つもしくはそれ以上の基によって置換されており； Ｒ₂及びＲ₃は、それぞれ独立して、水素、C_1-8アルキル、C_1-8パーフルオロアルキル、C_1-8アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシル、ヒドロキシル及びスルフェートから選択され； ｍ及びｎはそれぞれ独立して０または正の整数であり； そしてＸ^-は酸の非求核性アニオンである］
で表される化合物；
（ｃ）場合によっては、光学的、機械的及び成膜特性を調節するための添加剤；
（ｄ）場合によっては、塩基または感放射線性塩基； 及び
（ｅ）溶剤、
を含む、ｉ線（３６５ｎｍ）でフォトレジスト層を形成するのに有用な組成物。
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本発明は、機上現像可能な印刷版の用途に適した輻射線感受性組成物を提供する。この輻射線感受性組成物は、オニウム塩およびIR線吸収剤を含む開始剤系を含む。この開始剤系は重合可能な材料と、ポリエチレンオキシド・セグメントを含む高分子バインダーと組み合わされている。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）