【課題】光学系中の光学部材の位置関係を容易に効率的に調整できるようにする。
【解決手段】光学部材の位置調整装置であって、レンズ３６Ａを支持する第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して第１方向Ｒ１に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して連結された第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して第２方向Ｒ２に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して連結された第３支持部５４Ａ３と、第３支持部５４Ａ３に対して第１支持部５４Ａ１及び第２支持部５４Ａ２をそれぞれ第１方向Ｒ１及び第２方向Ｒ２の回りに回転させる第１及び第２駆動機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数枚のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光において、露光ムラを防止できるマイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ１は、ガラス板１１の上面及び下面に、夫々単位マイクロレンズアレイが積層され、上板１０及び下板１３により各単位マイクロレンズアレイが保持されている。各単位マイクロレンズアレイと、ガラス板１１には、位置合わせ用のマークが形成されていて、単位マイクロレンズアレイとガラス板１１とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されている。 （もっと読む）

【課題】基板交換を迅速に行うことができる基板ステージを提供する。
【解決手段】基板ステージ２０が基板搬出装置７０を有しているので、基板Ｐの搬出を迅速に行うことができる。また、基板ステージ２０は、Ｙ粗動ステージ２３ｙと、Ｙ粗動ステージ２３ｙ上に搭載されたＸ粗動ステージ２３ｘと有し、基板搬出装置７０がＹ粗動ステージ２３ｙに取り付けられている。従って、基板搬出装置７０を備えているにも拘わらず、スキャン露光時に移動するＸ粗動ステージ２３ｘの制御性を損なわない。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できるマスクを提供する。
【解決手段】マスクは、第１、第２投影光学系の物体面側で第１方向に移動されながら露光光が照射され、その少なくとも一部の像が基板に投影される。第１、第２投影光学系は、第２方向に関して異なる位置に配置され、それぞれ投影領域を形成する。投影領域は、第１、第２方向に第１、第２寸法を有する第１領域と、第２方向に関して第１領域の隣に位置し、第１、第２方向に第３、第４寸法を有する第２領域と、を含む。第３寸法は第１寸法よりも小さい。マスクは、第１、第２投影光学系のそれぞれによって投影され、第１パターンが形成された第１部分と、第２方向に関して第１部分の隣に位置する第２部分と、を有し、第２方向に関する第１部分の第５寸法は、第２寸法以下であり、第１部分からの露光光が第１領域に入射し、第２領域に入射しない。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れ、かつ、遮光機構の小型化に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１は、スリット光を照射する照明光学系２と、照明光学系２から照射されたスリット光の領域を拡大させて原版Ｍを照明する拡大光学系３と、拡大光学系３の前方に設けられ、スリット光を長手方向において遮光する第１遮光機構２２と、拡大光学系３の後方に設けられ、スリット光を長手方向において遮光する第２遮光機構２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】スループットの低下を抑制しつつ、基板の変形に関する情報を精確に取得して露光不良の発生を抑制できる露光方法を提供する。
【解決手段】露光光で基板を露光する露光方法は、基板の端を含む外縁領域の第１部分の変形に関する情報を取得することと、取得した結果と、所定の関係式とに基づいて、第１部分と異なる外縁領域の第２部分の変形に関する情報を取得することと、取得した第１部分及び第２部分の変形に関する情報に基づいて、基板を露光することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】照射光の広域な波長に亘って安定した低反射率を得られ、安定した二重露光防止作用と良好な露光作用を得られるとともに、液晶ディスプレイの軽量化と大型化に対応し、設備費と反射率の低減を図れるとともに、基板ステージの機能低下や故障を未然に防止し、低反射率の液晶基板保持盤を確実かつ安価に製造できる、液晶基板保持盤およびその製造方法を提供する。
【解決手段】母材１１表面に低反射率の材料からなる溶射皮膜１２を形成したこと。前記溶射皮膜１２の表面に透明または半透明の基板Ｗを保持可能な支持部１３を形成した液晶基板保持盤であること。前記溶射皮膜１２をアルミナとチタニアを含有する複合材料（Ａｌ₂Ｏ₃−α％ＴｉＯ₂）で形成したこと。前記溶射皮膜１２表面の全反射率を、光の波長３６０〜７４０ｎｍの範囲に亘って９％以下に形成したこと。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の投影対物レンズ（１０）のうち各々が１つの物体視野（５０）を像視野（６０）の中に結像する投影対物レンズを備える投影露光装置（１）に関する。
【解決手段】像視野（６０）は基板領域（４０）において１つの基板平面の中に配置されており、基板領域（４０）が所定の走査方向（５）で複数の投影対物レンズと相対的に移動可能であり、前記投影対物レンズの少なくとも１つが前記基板平面に対して垂直に延びない該投影対物レンズの光軸の部分区間を有し、かつ前記部分区間の投影が基板平面の中へ走査方向（５）と平行に延びない。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する比例器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】基板を連続搬送しながら、基板搬送方向と直交する方向に並べた小型のフォトマスクを用いて露光を行う小型マスク連続露光方式において、露光中の基板とフォトマスクとの位置合わせを高精度に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光ヘッド３の上流側に傾き観察用の撮像装置８が配置されている。撮像装置８は、基板１０上の露光領域１１内に形成されている遮光層（ブラックマトリックスまたは電極層）を撮影する。撮像装置８によって撮影された画像から、基板搬送方向（ｙ軸）に対する遮光層の傾きが求められる。駆動装置１２は、フォトマスク４を回転させて、ｙ軸に対する画素形成用パターン５の対する傾きを、ｙ軸に対する遮光層の傾きに一致させる。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】 基板載置面に付着した塵を効率良く除去する。
【解決手段】 清掃用カバー１００を、基板載置面（基板ホルダ５０の上面）の一部に対向配置する。そして、清掃用カバー１００及び基板ホルダ５０から清掃用カバー１００の下面と基板載置面との間（対向面間）に圧縮気体を噴出して対向面間の気体を激しく撹拌するとともに基板ホルダ５０により対向面間から気体を吸引する。これにより、基板載置面における清掃用カバー１００の下面に対向する領域に付着した塵Ｄは、対向面間で撹拌された気体中に取り込まれ、この気体と共に吸引されて除去される。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。不一致の場合に、マイクロレンズアレイ２を基板１に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイ２による基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。 （もっと読む）

【課題】大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。
【解決手段】 マスクステージＭＳＴでは、マスクＭを保持するステージ本体６０がＹ軸（クロススキャン）方向に移動する際には、一対のＸビーム７０及び一対のＸテーブル９０と一体的にＹ軸方向に移動する。これに対し、ステージ本体６０がＸ軸（スキャン）方向に移動する際は、一対のＸテーブル９０がステージ本体６０と共に静止したＸビーム７０上をＸ軸方向に移動する。従って、マスクＭをスキャン方向に移動させるためのリニアモータの推力が小さくて良く、駆動反力の影響も低減できる。また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 （もっと読む）

【課題】重ね合わされるパターン間の重ね誤差を減らす。
【解決手段】本発明の露光方法は、パターンの像を基板に投影し、この基板にパターンを露光する露光方法であって、下地パターンの像が投影された第１基板において露光光が照射される複数の照射領域に対して、複数の照射領域にまたがって第１パターンの像を投影することと、下地パターンの像に対する第１パターンの像の重ね誤差を照射領域ごとに求めることと、複数の照射領域のうちで互いに隣り合う第１の及び第２の照射領域における重ね誤差を第１の及び第２の照射領域に振り分けるように、第１の及び第２の照射領域での投影条件を調整することとを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に形成される未露光領域の面積を低減すること。
【解決手段】基板を露光する露光方法であって、第一パターンと、当該第一パターンの周囲に設けられる周辺パターンと、を有するマスクのうち、第一パターンを基板に複数回転写する第一転写工程と、基板のうち第一パターンが転写された領域から外れた領域に、第一パターンの一部及び周辺パターンを含む第二パターンを転写する第二転写工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダのずれとバイメタル作用による基板ホルダの平面度の悪化を防止する。
【解決手段】微動ステージ２１の四隅に真空吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えが可能な吸着部８２を設け、基板ホルダＰＨが衝撃等によりずれるおそれのあるときには、吸着部８２の真空吸着を行い基板ホルダＰＨのずれを防止し、基板ホルダＰＨがずれるおそれのないときには吸着部８２の真空吸引を停止若しくは弱めることで、バイメタル作用を緩和し、基板ホルダＰＨの平面度の悪化を防止する。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造できること。
【解決手段】本発明の態様にかかるマスク移動装置は、パターンを有するマスクを保持して該マスクを移動させるマスク移動装置であって、円筒状に形成され、所定の円筒面に沿って前記マスクを保持する保持部と、前記円筒面の円周方向に沿って前記保持部を回転させる駆動部と、を備え、前記保持部は、前記保持部が保持する前記マスクの前記パターンを前記保持部の内側に露出させる第一開口部と、前記第一開口部と対向し、前記パターンから前記第一開口部を介して前記保持部の内側に発した光を前記保持部の外側へ通過させる第二開口部と、が形成されている。 （もっと読む）