【課題】ノイズの支配的な放電変動に影響されることなく、放電ランプの光を適正に測定する。
【解決手段】高圧もしくは超高圧水銀ランプである放電ランプ２１を使用してパターンを形成する露光装置１０において、照度演算制御部３０および受光部４０から構成される照度測定制御装置５０を備え、受光部４０の分光感度曲線Ｌ１を、感度のピークＰ１がｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）からシフトし、２つの輝線からほぼ中間の波長域に設ける。 （もっと読む）

【課題】搭載された高圧水銀ランプをフル・スタンバイ点灯する紫外線照射装置において、スタンバイ点灯からフル点灯に切り替えた直後に、所定の波長の範囲の積算光量が時間的に変動しない所望の紫外線を照射することができる紫外線照射装置を提供すること。
【解決手段】発光管内に水銀が封入され、管壁負荷が１０〜３０Ｗ／ｃｍ^２である高圧水銀ランプと、該高圧水銀ランプに供給する電力を、定格電力によって点灯させるフル点灯モードと、該フル点灯モードよりも低い電力によって点灯させるスタンバイ点灯モードとを切換可能に駆動できるランプ点灯装置とを備える紫外線照射装置において、前記フル点灯モード時の前記高圧水銀ランプより放射される波長５２５ｎｍの照度Ｉｆと、スタンバイ点灯モード時の該高圧水銀ランプより放射される波長５２５ｎｍの照度Ｉｓとの比をＩｓ／Ｉｆ（％）とし、Ｉｓ／Ｉｆが３０％以上、１００％未満であること。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。
【解決手段】基板の露光が行われないとき、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給しないで、各半導体発光素子８２を消灯させる。基板の露光が行われる間、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給して、各半導体発光素子８２を点灯させる。そして、光源８０の複数の半導体発光素子８２の温度変化に伴う光量の変化を検出し、光源制御装置５０は、検出された光量の変化を補う様に、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ供給する駆動電流を増減させる。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。
【解決手段】出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程とを含むマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】マスクレス露光装置において、幅方向にも厚さ方向にも窪みのない直線性の良い描画パターンを得るためのマイクロミラーデバイス選別装置を提供する。
【解決手段】マイクロミラーデバイス選別装置において、マイクロミラーデバイス２のマイクロミラー２１に照明光を照射する照明系と、マイクロミラー２１で発生した回折光を撮像素子７９に入射させる光学系と、撮像素子７９で撮像された回折光分布画像を処理し、マイクロミラーデバイス２の良品または不良品の判定を行う処理系９とを備えた。 （もっと読む）

【課題】中間層を用いることなく、回折格子の寸法誤差を大きくすることのできる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】平板状の支持部３１と、支持部３１と屈折率の異なる断面矩形状の部分３２ｂが支持部３１と交互に周期的に形成された回折部３２と、を有する回折格子３の入射面３ａへ、垂直にレーザ光を入射させる露光方法であって、回折部３２の断面矩形状の部分３２ｂの高さを回折格子３の０次及び±２次以上の高次の回折光の強度が±１次の回折光の強度の１１％以下となるよう設定して、対象物へ露光を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の上に発光素子の光軸と光学部品の光軸を正確に位置合わせした光源装置を低コストで実現する。
【解決手段】本発明の光源装置は次のような構成である。基板４は第１の電極パッド４１１と第２の電極パッド４１２を有し、発光素子２は、出光面２１と第３の電極パッド２６を有するパッケージと、前記パッケージの内部に収容された発光素子チップを有し、光学部品は、レンズ部３１と台座部３２と、台座部３２に形成された接合面３３を有し、レンズ部３１は発光素子２の出光面２１を覆っており、基板４に形成された第１の電極パッド４１１と発光素子２に形成された第３の電極パッド２６ははんだ１０で接合され、基板４に形成された第２の電極パッド４１２と光学部品の台座部３２に形成された接合面３３は、はんだ１０によって接合されている。 （もっと読む）

【課題】ワークとマスクとのギャップを均一化するようにチルト補正して、露光精度を向上する近接露光装置及び近接露光方法。
【解決手段】ワークＷのマークとマスクのアマークとを検出する少なくとも２つのアライメント検出系１５２と、露光領域Ｐに位置するワークＷとマスクとのギャップをそれぞれ検出する少なくとも３つのギャップセンサ１５３と、マスク保持部をＸＹ方向、およびθ方向に駆動可能、且つチルト駆動可能なマスク駆動機構２００とを有し、マスク駆動機構２００は、アライメント検出系１５３で検出された両マークのずれ量に基づいて、マスク保持部を水平面上で駆動することでワークＷとマスクとのアライメントを調整するとともに、マスク駆動機構２００は、ギャップセンサ１５３によって検出されたギャップに基づいて、マスク保持部をチルト駆動することで、ワークＷとマスクとの相対的な傾きを補正する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、管球内に封入した放電媒体にレーザー光線を集光し、レーザー光線によって放電媒体を励起してプラズマを生成するレーザー駆動光源において、管球内に生成したプラズマに吸収されずにそれを透過したレーザー光線を遮蔽することを目的とする。
【解決手段】 放電媒体を封入した管球を備え、前記管球内に集光させたレーザー光線によって前記管球内にプラズマを生成するレーザー駆動光源において、前記管球内には、前記管球内に生成したプラズマを透過したレーザー光線を遮蔽する光線遮蔽部材が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】均一な紫外線照射することにより、高性能で液晶パネル製造の歩留まり向上を実現する。
【解決手段】紫外線透過性の石英ガラスで気密性を有する放電空間１１を備えた発光管１２内の軸方向に一対の放電用の電極１３ａ，１３ｂを対向して配置する。放電空間１１内にアーク放電させた状態を維持するために十分な量の希ガス、水銀、ハロゲン、発光金属からなる封入物を封入することで紫外線ランプ１００を構成し、点灯時に紫外光を発光させる。紫外線ランプ１００を冷却ユニット２００で冷却させるとともに、被照射物とは反対側に反射板１９を配置し、被照射物に照射させる。反射板１９の複数の向きの異なる反射面６１で入射された紫外線を拡散したことで、被照射物に照射させる紫外線の照度の均一化を実現する。 （もっと読む）

【課題】露光装置及び露光方法において、露光直前の光源を安定させることにより、露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる近接露光装置及びその近接露光方法を提供することにある。
【解決手段】光源制御部１５aは、遮光板８を閉じた状態で照射部１４の光源６に所定の電圧を印加した際に照度計５０によって検出される照度が目標照度になるように補正する補正機能１５ｂを有することで露光むらを無くし、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】パターン描画装置において光源を小型化した装置および光源を提供する。
【解決手段】 パターン描画装置１は、複数の描画ユニット４を備え、これらが有する光源部３０をパッケージＬＥＤ３１１を用いて小型化する。パッケージＬＥＤ３１１の発光部であるＬＥＤベアチップ３１５を同じ姿勢で、かつ等間隔に配置するためにアライメントシート３１９を用いることで、複数のパッケージＬＥＤ３１１を高精度かつ容易に電極基板３１３に一括実装することができる。これにより、安価であるパッケージＬＥＤ３１１を利用することができ、コストの削減ができるとともに、光源を小型化したパターン描画装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な電子銃および荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子源であるカソードと、前記カソードからの荷電粒子ビーム放出方向に順次、前記カソード以下の電位が印加されたウェネルトと、前記カソードより高い電位が印加されたアノードとを配置し、前記荷電粒子ビームを、前記ウェネルトの具備する開口部分を通過させて収束し、クロスオーバを形成するよう構成された電子銃について、前記ウェネルトと前記クロスオーバとの間の距離ｂを、前記カソードと前記ウェネルトとの間の距離であるギャップａにより除して算出される倍率Ｍ（＝ｂ／ａ）が１以下であり、かつ前記ギャップａが０．９ｍｍ以上となるように構成し、荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法で使用する。 （もっと読む）

【課題】点灯開始後の高温プラズマ状態を安定に維持して発光を安定に維持させることができ、また発光管の加熱による点灯寿命の低下を抑制した光源装置を実現すること。
【解決手段】内部に発光ガスが封入された発光管１に、パルスレーザ発振部２１からパルス状のレーザビームと、連続波レーザ発振部２５から連続波のレーザビームを入射させ、発光管１内で両ビームが重なるように集光させる。点灯開始時に、パルス状のビームによって、高温プラズマ状態を形成させ、この高温プラズマ状態が形成された位置に、パルス状のビームより強度の小さな連続波のビームを重ね合わせることで、高温プラズマ状態を安定に維持させることができる。また連続波のビームは、強度が小さいので、発光管が加熱されず長寿命とすることができる。上記発光管１内でビームを集光させる光学手段としては、例えば回折光学素子３１や、凸レンズや放物面鏡などを用いことができる。 （もっと読む）

【課題】保持機構に対する放電ランプの装着又は取り外しを容易に短時間に行う。
【解決手段】放電ランプの装着方法は、ガラス管２５と口金部２６とを有し、口金部２６が、フランジ部２６ａと、外形がフランジ部２６ａより小さい軸部２６ｂと、外形が軸部２６ｂより小さい凹部２６ｆと、外形がフランジ部２６ａより小さく、凹部２６ｆよりも大きい固定部２６ｈと、軸部２６ｂの外周面に設けられた流路とを備える放電ランプ１を準備し、放電ランプ１の口金部２６を取り付け装置３１の開口部に挿入し、冷却用媒体を供給するために、取り付け装置３１に設けられた供給口と、軸部２６ｂの流路とを互いに対向させるものである。 （もっと読む）

【課題】光照射装置内のエアー浄化し、レンズやミラーといった光学部品の汚染を防ぐことができるエアー浄化装置つき光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線を含む光を放射する光源１と、光源１からの光を反射または透過する光学部品と、光源１および上記光学部品を内部に収納する光照射装置に、光照射装置内のエアーを浄化するエアー浄化装置２０を設け、浄化されたエアーを光照射装置内に導入する。エアー浄化装置２０は、紫外線照射部２１と、紫外線照射部２１からの紫外線を照射したエアー（ガス）を水に接触させる水槽２４を備え、紫外線を照射した後のエアーを水に接触させ、エアーの中から光学部品の汚染の原因となるジメチルスルフィド（以下ＤＭＳ）等を除去する。これにより、光照射装置内の光学部品の硫酸アンモニウム等による汚染を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマを透過したレーザー光がレーザー発振器に照射されることを防止した光源装置を提供する。
【解決手段】放電媒体が封入されたランプ２と、ランプ２から出射された光を反射する凹面形状の反射面３２及び光出射開口３１を有する凹面反射鏡３と、レーザー光４を出射するレーザー発振器５とを備え、ランプ２にレーザー光４を照射する光源装置であって、ランプ２を透過したレーザー光４’の光路上に、レーザー光吸収部材６を設けたことを特徴とする光源装置である。この光源装置によれば、レーザー発振器５にレーザー光４’が入射されないので、エネルギー密度の高いレーザー光の影響を受けてレーザー発振器５が故障するといった不具合を確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域を利用して、レーザ光を導入することにより、放射光が減衰せず、楕円反射面で確実に反射され、放射光を効率良く利用することのできる光源装置を提供する。
【解決手段】内部に発光物質が封入され、楕円反射鏡２の開口側からレーザ光が集光して照射されて前記発光物質を励起して放射光が放射されるプラズマ発生容器１と、一方の焦点にプラズマ発生容器１が配置された楕円反射鏡２と、放射光が楕円反射鏡２によって反射されて反射光となり、該反射光の向きを変える平面鏡４とを備え、平面鏡４には、プラズマ発生容器１によって楕円反射鏡２からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域Ｆ１−Ｆ２に、レーザ光を導入する窓部４１が設けられていることを特徴とする光源装置である。 （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦ^*、ＫｒＦ^*、ＸｅＦ^*などの励起ガスを用いたエキシマランプの実用化に寄与し得る、新規な耐フッ素性ガラスを提供する。
【解決手段】 石英ガラス管１の内表面に、ＳｎＯ₂を含有する膜２を形成する。膜２の厚みは０．１μｍ〜４０μｍとし、膜２のＳｎ添加量は０．１ｗｔ％とする。石英ガラス管１の内部（ガス封入部３）にＡｒガスとＦ₂ガスを適量封入し、両端部を加熱溶着して封止する。外表面における周方向の対向位置に電極４，４を取り付け、これら電極４，４間で誘電体バリア放電を行うと、ガス封入部３内でＡｒＦ^*ガスが生成され、中心波長１９３ｎｍのエキシマ発光が、連続して数百時間生じる。 （もっと読む）