【課題】照射位置の各所における照度が均一なライン状光を出射することのできる露光用光源を提供する。
【解決手段】露光用光源を、露光対象物Ｔに向けて一列に並べて配設され、露光用の光を出射する複数のランプユニット１８で構成されたランプアレイ２４と、露光対象物Ｔおよび各ランプユニット１８の間にそれぞれ配設された複数のレンズ２０とで構成する。さらに、レンズ２０で、対応するランプユニット１８から出射された光の内、露光対象物Ｔに向かう光を、ランプユニット１８の光軸Ｌを通りかつランプユニット１８が並べられた方向Ｈ１に平行な中心線ＣＬに向けて屈折させ、中心線ＣＬを中心として露光対象物Ｔにおける照射範囲を狭めるとともに照度を高めることにより、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザモジュールの光軸方向の調整機構と光軸に直交する方向の調整機構を分離し、調整済の半導体レーザモジュールをアレイ状に配列し調整を容易にする。
【解決手段】半導体レーザ１１と、筒部の内径は半導体レーザ１１の位置調整のためにＬＤ外径より大きく形成されているＬＤ固定ホルダ１２と、調整スペース部の内径は半導体レーザの位置調整のためにＬＤ台座外径より大きく形成され、ＬＤ調整ピンを差し込む複数の貫通孔が設けられているＬＤ固定キャップ１３と、レーザ光を平行光にする非球面レンズ２１と、非球面レンズ２１を中心線を合わせて挟むためのテーパー部および円筒スリーブ部を有する非球面レンズ固定スリーブ２２と、ＬＤ固定ホルダ１２の開口部に差し込まれるための円筒管部を有し、円筒管部の内側には非球面レンズ固定スリーブ２２を保持するための嵌め合い部を有する非球面レンズホルダ２３とからなる半導体レーザモジュール。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高精細な画像を形成することができる画像形成装置を実現する。
【解決手段】記録媒体にレーザ光を照射して該記録媒体Ｐの表面に画像を形成する画像形成装置であって、レーザ光を発する複数の光源３１と、各光源３１から発せられたレーザ光を伝搬させる複数の光ファイバ２３、４２と、光ファイバ４２を保持するホルダ４３と、各光ファイバ４２の端面から出射されたレーザ光が通過するフライアイレンズ５０、シリンドリカルレンズアレイ６０、アパーチャアレイ７０、レンズ８０ａおよびレンズ８０ｂとを有し、アパーチャアレイ７０のアパーチャ７１が矩形である。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０Ｅは、画像形成面１６２Ｅから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３４Ｅにより全屈折配置に形成される、または円柱／非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系１３７Ｅを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場１１９Ｂを工程横断方向に画像化するために１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３８Ｅおよび任意選択の円柱／非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系１３３Ｅも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、１２００ｄｐｉ以上での印刷を容易にする。 （もっと読む）

【課題】複数の露光ヘッドを備える露光装置において、構成を簡単にし、小型化を可能とする。
【解決手段】単一のレーザー光源と、このレーザー光源からの光を略等分に分割して複数の露光ヘッドに導光する光学路とを備えることにより、各露光ヘッドの被露光基板への照度（露光量）のばらつきが抑えられ、被露光基板上にパターンを露光むらが少ない状態で露光することが可能となった。 （もっと読む）

【課題】 複数の棒状の高圧放電ランプが、各々のランプ中心軸が一方向に延びる状態で、当該一方向に並んで配置された構成のものにおいて、ランプ点灯初期時と同様の均一な照度分布が長時間の間安定して得られる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、各々バルブの内部に一対の電極が対向配置された複数の棒状の高圧放電ランプが、各々のランプ中心軸が一方向に延びる状態で、当該一方向に並んで配置された構成のものにおいて、隣接する２つの高圧放電ランプの各々の端部には、遮光体が設けられており、当該２つの高圧放電ランプの一方の高圧放電ランプが他方の高圧放電ランプに対して、均一な照度分布が得られるよう前記一方向に調整された位置に配列されている。 （もっと読む）

【課題】
硬化対象が酸素阻害などの影響を受けやすい紫外線硬化型樹脂などであったとしても、酸素阻害の影響を比較的小さくすることができる光照射モジュール、光照射装置および印刷装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明に係る光照射モジュールは、相対的に一方向に移動する対象物に光を照射するための光照射モジュールであって、前記対象物の移動方向の上流側に位置する第１の発光素子群および下流側に位置する第２の発光素子群を有し、前記第１の発光素子群に含まれるそれぞれの発光素子へ供給される第１電流と、前記第２の発光素子群に含まれるそれぞれの発光素子へ供給される第２電流とを異ならせることにより、前記第１の発光素子群の発光量と前記第２の発光素子群の発光量とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用し、基板材料の無駄を低減することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】マスク２０は、形成するパネルと同一の幅Ｗｐのパターンが形成されたパターン領域２０ａを有し、各パターン領域は、製造せんとするパネルの第２方向２の配列ピッチＰの整数ｎ（ｎ≧２）倍のピッチｎＰで配置されている。パターン２０ａの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイは、パターン領域２０ａと同数のマイクロレンズアレイチップ２２を第２方向２に配列したものであり、各マイクロレンズアレイチップ２２は、第２方向の長さがパターン２０ａの第２方向の幅Ｗｐよりも長く、各パターン領域２０ａの透過光は、対応するマイクロレンズアレイチップ２２により基板に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子を用いて露光光を形成する際、露光光の強度を一定に保ちながら、各半導体発光素子の寿命を均一化する。
【解決手段】露光光照射装置３０から照射される露光光の強度を検出すると共に、各半導体発光素子４２の温度を検出する。各半導体発光素子４２の温度の検出結果に基づき、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の点灯時間を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の点灯時間より長くし、または、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の駆動電流を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の駆動電流より大きくして、検出した露光光の強度の変化を補う。 （もっと読む）

【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 （もっと読む）

【課題】照度分布の変動を検出して不具合の生じた放電ランプを判定することができ、照度分布の変動に対して照度の均一化を図ることができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】放電ランプとリフレクタよりなる光源素子２１を並べて同時に点灯させ、光源素子２１からの光を光照射領域に照射する光照射部１を備えた光照射装置において、該光源素子２１からの光を拡散させて放射する拡散手段５５を設けるとともに、拡散手段５５で反射された拡散散乱光の光量の分布を検出するための光センサ６０を設ける。光センサ６０で検出された信号は画像処理ユニット７に送られ、画像処理ユニット７は拡散手段５５上の照度分布を、光照射領域における照度分布に変換して表示部等に表示する。また、特定のランプの照度が低下すると、照度低下したランプを特定して警報を出力したり、当該ランプへの供給電力を増大させて光量分布の変動を補償する。 （もっと読む）

【課題】ランプを簡単に取り外して、ランプの部品をリサイクルすることができ、生産コストを低減することができる露光装置用ランプを提供する。
【解決手段】小型水銀ランプ１０は、バルブ２０と、該バルブ２０から発生した光を前方へ反射させる集光鏡２１と、バルブ２０の端部を保持するホルダー２２と、を備える。バルブ２０と集光鏡２１のランプ取付孔４８との間には、断熱材５０が配置される。 （もっと読む）

【課題】光源部の交換が簡易であり、且つ冷却効率を高めることができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能なカセット８１と、を備え、カセット８１には、その前面側外周縁８３ｄに沿って複数の放熱フィン１０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】第１露光領域２２の光源３７は、露光光２５を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて出射し、反射部材３３で反射させて、露光光をこの反射部材３３よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク３１に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜させた光として、照射する。第２露光領域２３の光源３８は、露光光２６を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。露光光２５及び２６は相互に平行光として、基板１に照射される。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤ光源において使用するＬＥＤ素子数を削減し、小型で低コストで、短時間に十分な光量を獲ることができる露光用光源を提供する。
【解決手段】
露光装置を、露光光を発光する露光用光源手段と、露光用基板を載置して平面内で移動可能なテーブル手段と、テーブル手段と露光用光源手段とを制御する制御手段とを備えて構成し、露光用光源手段は複数の発光素子を２次元に配列した光源部を備え、制御手段は、露光用光源手段でテーブル手段に載置された露光用基板を所定の時間内に所定の露光総光量で露光するときに、光源部を制御してこの光源部から複数のパルス光を順次照射条件を変えながら発光させて露光用基板に照射するように構成した。 （もっと読む）

【課題】現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜を複数の大ブロックＢ１に分割し、前記大ブロックを複数の小ブロックＢ２に分割するステップと、前記大ブロック内の小ブロック毎に、段階的に異なる照射照度を設定するステップと、複数の発光素子Ｌに対し相対的に移動する前記基板の感光膜に対し、前記小ブロック毎に設定された照射照度に基づき、前記発光素子を発光制御するステップと、前記感光膜を現像処理するステップと、前記小ブロック毎に、前記感光膜の残膜厚を測定し、前記小ブロックに設定された照度と残膜厚との相関データを得るステップと、前記相関データに基づき前記大ブロック毎に設定された感光膜の目標残膜厚から、各大ブロックに照射する必要照度を求めるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、光源部７３には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材８８、８９が配置されている。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、カセット８１には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材１０１が配置されている。 （もっと読む）