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Fターム[2H097CA06]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 光源 (2,873) | 構造 (781) | 光学系 (347)

Fターム[2H097CA06]に分類される特許

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【課題】 液晶ディスプレイの配向層の形成装置および配向層の形成方法を提供する。
【解決手段】 光配向装置であって、非偏光を照射する光源、前記非偏光を受け、前記非偏光を偏光に変換する偏光板、および前記偏光を受け、前記偏光を第1光線と第2光線に分割する多層膜分光器を含む露光機、光線をそこに通過させる少なくとも2つの透過部を含み、前記第1光線と前記第2光線が前記2つの透過部をそれぞれ通過するマスク、および前記マスクに対応し、前記2つの透過部を通過する前記第1光線と前記第2光線がそこに照射される光配向領域を含む光配向装置。 (もっと読む)


【課題】高精度に調整可能な露光装置の調整方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の露光装置の調整方法は、鏡面部に光散乱部位を有する鏡面部材を有する露光装置の上記鏡面部に対し、レーザー光を照射する工程と、上記鏡面部の上記光散乱部位からの上記レーザー光の散乱光に基づき、上記光散乱部位までの距離を演算する工程と、上記演算工程に基づき上記鏡面部の形状を判定する工程と、上記判定結果に基づき、上記鏡面部の形状を調整する工程と、を有する。かかる方法によれば、鏡面部であっても光散乱により鏡面部の形状認識が可能となり、これに基づき、鏡面部の表面形状を調整することで、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】放射が調整される少なくとも3つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第1、第2及び第3の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第1、第2及び第3の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第1の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第1の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第1、第2及び第3の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 (もっと読む)


【課題】マスクの大きさが基板上の露光対象領域に比して小さい露光装置において、基板の全面を均一に露光でき、隣接する露光領域間における継ぎムラの発生を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】光源4から出射された露光光をマスク2に導く光学系として、光源4からの出射光を平行光にするコンデンサレンズ6とこれを透過した露光光をマスク面にて入射光と同倍率で結像させるオフナー光学系8とが設けられている。コンデンサレンズ6からの結像面には可変ブラインド7が配置され、結像面において露光光内に介在するシャッタ72,73を有し、シャッタ72,73によりマスク面露光領域におけるスキャン方向に直交する方向の少なくとも一方の端縁をスキャン方向に傾斜するように整形する。そして、2回のスキャン露光にて、マスク面露光領域における傾斜した端縁が重なるように、露光光の整形を制御する。 (もっと読む)


【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系130Eは、画像形成面162Eから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ134Eにより全屈折配置に形成される、または円柱/非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系137Eを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場119Bを工程横断方向に画像化するために1つまたは複数の円柱/非円柱レンズ138Eおよび任意選択の円柱/非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系133Eも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、1200dpi以上での印刷を容易にする。 (もっと読む)


【課題】複数の露光ヘッドを備える露光装置において、構成を簡単にし、小型化を可能とする。
【解決手段】単一のレーザー光源と、このレーザー光源からの光を略等分に分割して複数の露光ヘッドに導光する光学路とを備えることにより、各露光ヘッドの被露光基板への照度(露光量)のばらつきが抑えられ、被露光基板上にパターンを露光むらが少ない状態で露光することが可能となった。 (もっと読む)


【課題】露光光学系でマスクの直前に設置されている平面鏡を制御して、露光面上の中心光線角度・照度分布を所定の範囲内に設定し、高精度なパターンの露光を可能にする。
【解決手段】露光装置の露光手段に、光源から発射された露光光を多数の点光源に変換する光インテグレータ161と、光インテグレータを透過した露光光を平行光に変換するコリメートミラー118と、コリメートミラーで平行光に変換された露光光を平面鏡で反射してマスクに照射するミラーユニット120とを備え、ミラーユニットは、平面鏡の露光光を反射する面と反対側の面を押すアクチュエータ122を2次元状に配列して装備し、制御手段は、ステージ手段130に載置された基板の表面に相当する位置に照射した露光光から得られる光インテグレータの点光源に関する情報を用いて算出されたミラーユニットの個々のアクチュエータの駆動量に基づいてこのアクチュエータを制御するようにした。 (もっと読む)


【課題】複数段のファイバ光増幅器を備えたレーザ装置において、ファイバ光増幅器の励起を下流側から停止させ、意図しない発振に基づく機器の損傷を抑制する。
【解決手段】レーザ装置は、信号光を出力する信号光出力部10と、複数のファイバ光増幅器21〜23を有し信号光を順次増幅して増幅光を出力する増幅部20とを備える。ファイバ光増幅器21〜23は、各々増幅用ファイバ(添え字a)と、励起光源(添え字b)と、励起光源により発生された励起光を増幅用ファイバに伝送する伝送用ファイバ(添え字c)とを備える。ファイバ光増幅器21〜23は、各段の伝送用ファイバのファイバ長を上流側からL1,L2,L3としたときに、L1>L2>L3となるように構成される。 (もっと読む)


【課題】赤外放射に対処する放射源を提供する。
【解決手段】 放射源は、レーザビームによって蒸発させてプラズマを形成するために燃料をプラズマ放出位置に供給するように構成された燃料源を備え、さらに、プラズマにより放出されたEUV放射を集光し、かつ中間焦点に向けて誘導するように構成されたコレクタであって、プラズマにより放出された赤外放射を回折するように構成された回折格子をさらに備えるコレクタを備えた放射源であって、この放射源は、さらに、中間焦点の前に配置された放射導管であって、当該放射導管が、内側に向けてテーパをつけられた本体により出口アパーチャと接続された入口アパーチャを備え、当該放射導管は内側部分および外側部分を備え、内側部分が外側部分よりも中間焦点に近く、内側部分が、入射した回折赤外放射を外側部分に向けて反射するように構成される、放射導管を備える。 (もっと読む)


【課題】携帯機器用の液晶表示パネルの大きさに合わせて効率的にマイクロレンズアレイを使用し、基板材料の無駄を低減することができるマイクロレンズアレイを使用した露光装置を提供する。
【解決手段】マスク20は、形成するパネルと同一の幅Wpのパターンが形成されたパターン領域20aを有し、各パターン領域は、製造せんとするパネルの第2方向2の配列ピッチPの整数n(n≧2)倍のピッチnPで配置されている。パターン20aの正立等倍像を基板上に結像させるマイクロレンズアレイは、パターン領域20aと同数のマイクロレンズアレイチップ22を第2方向2に配列したものであり、各マイクロレンズアレイチップ22は、第2方向の長さがパターン20aの第2方向の幅Wpよりも長く、各パターン領域20aの透過光は、対応するマイクロレンズアレイチップ22により基板に照射されるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 (もっと読む)


【課題】 露光パターンの線幅精度の悪化を抑制する露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第1の波長を有し、パルス発振された第1照明光と、第1の波長とは異なる第2の波長を有し、パルス発振された第2照明光とをマスクへ照射する照射ユニットを備え、照射ユニットは、第1照明光がマスクに照射されるタイミングと、第2照明光がマスクに照射されるタイミングとが所定時間ずれるように、第1照明光と第2照明光との照射のタイミングを設定する遅延設定部を含む露光装置。 (もっと読む)


【課題】1つの露光用光源からの光を複数台の露光処理ブロックに効率良く供給して露光し、かつ、1枚の処理基板上に、複数のパターンを正確につなぎ合わせて露光する複合型露光装置を得る。
【解決手段】各露光処理ブロックが露光ブロック制御部と露光ステージ駆動機構とマスクステージ制御機構を有し、前記露光ブロック制御部が前記露光ステージ駆動機構と前記マスクステージ制御機構を制御することによりフォトマスクの位置に処理基板の位置を合わせるアライメント処理を行い、全体露光処理制御部が、露光ステージを複数位置にステップ送りし前記アライメント処理を行いつつ、前記露光用光源からの露光光を順次に切り替えて各前記露光処理ブロックの前記処理基板を露光する処理を行う。 (もっと読む)


【課題】装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】第1露光領域22の光源37は、露光光25を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて出射し、反射部材33で反射させて、露光光をこの反射部材33よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク31に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜させた光として、照射する。第2露光領域23の光源38は、露光光26を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。露光光25及び26は相互に平行光として、基板1に照射される。 (もっと読む)


【課題】基板の形状やサイズにかかわらず、光源から基板に至る照射光路に設けられた光学部品及び空間光変調器の交換作業の作業性を向上させる技術を提供する。
【解決手段】露光装置100は光学ユニット40a,40bを備えている。光学ユニット40a,40bが備えるレーザ発振器41a,41bから出射された光が、照明光学系43a,43bを介して導入された空間光変調器441a,441bで空間変調されて基板W上に照射される。レーザ発振器41a,41bから照明光学系43a,43bに至る光路には光源からの光を通過又は遮断するシャッタ部49a,49bが設けられている。シャッタ部49a,49bの開閉制御を行うことにより、各光学ユニット40a,40bから照射された光がシャッタ部49a,49bよりも下流に設けられた光学部品を照射する時間は、各光学ユニット40a,40bで同一となる。 (もっと読む)


【課題】基板表面に形成されたレジスト膜の周縁部を短時間にて除去可能にすることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。
【解決手段】冷却プレート81に保持された基板Wの表面の全面にはほぼ均一な厚さにてレジスト膜RFが形成されている。フラッシュ照射部60は、投光光学系61を備えており、フラッシュランプFLから出射されたフラッシュ光を集光してレジスト膜RFの周縁部RFEのみに一括照射する。フラッシュ光照射により周縁部RFEはガラス転移点Tg以上に加熱され、脱保護反応によって現像液に溶解可能となる。フラッシュ光照射によるレジスト膜RFの周縁部RFEの加熱処理は処理時間が1秒以下の極めて短時間の処理であり、しかも周縁部RFEの全体に一括してフラッシュ光が照射されるため、その周縁部RFEを短時間にて除去可能とすることができる。 (もっと読む)


【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分を複数の直線で近似する際、円の半径に応じた分割角度を簡単な処理で高速に決定する。
【解決手段】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分について、当該円の半径と、所定の半径の円において、円の弧を複数に分割し、分割した各弧の始点と終点を直線で結んで、円の弧を複数の直線で近似したときの近似誤差を、分割角度毎に予め求めたデータとから、近似誤差が許容値以下となる様に最大分割角度を決定し、決定した最大分割角度以下の分割角度で分割し、分割した各弧の始点と終点を結んだ複数の直線で近似して、基板に描画するパターンの図形のベクターデータを作成する。作成したベクターデータから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを演算で求めて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データを生成する。 (もっと読む)


【課題】 荷電粒子線を偏向するための電極対の数の多さ、偏向の高速性、および製造の容易性の点で有利な電極対アレイ板を提供すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線をそれぞれ偏向するための複数の電極対(303)を含む電極対アレイ板(123)は、複数の配線層を含む積層体(300a、300b)と、該積層体に形成されて前記複数の荷電粒子線がそれぞれ通過する複数の貫通孔(302)と、を含み、積層体は、複数の貫通孔にそれぞれ1対ずつ形成された複数の電極対を含み、複数の電極対は、積層体の異なる複数の層にわたって、その各層に電極対のアレイを含み、複数の層のアレイは、複数の配線層のうち互いに異なる一部の配線層にそれぞれ接続されている、ものとする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、消費電力が少なく長寿命で、かつ必要な波長域の光を必要な光量で効率よく出射して露光することができる露光装置および光源装置が得られる。。
【解決手段】 光源ユニット41は、第1のLEDアレイ411、第1のレンズアレイ412、第2のLEDアレイ413、第2のレンズアレイ414、ダイクロイックミラー415、第3のレンズアレイ416、第1の結像光学系417を備える。第1のLEDアレイ411は、中心波長385nmの光を出射する。第2のLEDアレイ413は、中心波長365nmの光を出射する。ダイクロイックミラー415は、第1のLEDアレイ411の発光部411cの像に第2のLEDアレイ413の発光部413cの像を重ねて合成する。
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