【課題】改良された放射線パルスエネルギー濃度で露光に用いるのに適した放射線パルスを提供する。
【解決手段】放射線パルスのエネルギーを制御するシステムである。検出器は、パルスのエネルギーをモニターし、光シャッターは、適当なディレイラインの後に、放射線パルスをトリミングする。放射線パルスのエネルギー制御の精度は、放射線検出器の応答速度を光シャッターの応答速度と一致させることにより、改善することができる。 （もっと読む）

【課題】より簡易に、有機ＥＬなどの製造に用いられる印刷用凸版の製造する方法であり、印刷パターンずれが少なく、耐久性のある凸版を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】 感光性樹脂層２０２ａ上に光拡散性の微粒子を含む光拡散層を形成することで、露光時に露光光が光拡散層を通して感光性樹脂層に達するよう構成し、これを現像する凸版製造方法。これにより、順テーパー形状の凸部２０２ｂを形成する。さらに光拡散層中の微粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であり、かつ露光工程においてプロキシミティ露光方式を用いることにより有機ＥＬ素子の形成に適した印刷用凸版を製造できる。 （もっと読む）

【課題】露光パターンにおける深さ方向の傾斜角を変化させる。
【解決手段】露光に用いられる光源１３０と、光源１３０からの光を透過する基板の同一の面に、光を透過しない光遮断層と、光の照射角度により透過率が変化し、光を基板に略垂直に照射した際、光を最も透過する光干渉層とを形成した露光マスク１０５と、露光マスク１０５の光干渉層及び前記光遮断層の形成されている面に、感光性材料を塗布等し、露光マスクの感光性材料の形成面の反対より光が照射するように固定する露光マスクステージ１３８と、露光マスク１０５に対し垂直方向を軸として、露光マスクステージ１３８を回転させる露光マスク回転機構と、光源１３０からの光を露光マスク１０５に対し垂直及び、斜めに照射するために、露光マスク１０５を傾斜させることが可能な露光マスク傾斜機構２４９を有することを特徴とする露光装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】マスクパターンの方向に制限がなく、かつマスク枚数や作業量の増加がなく、マスクパターンの最小線幅よりも狭いレジストパターンの形成を可能にし、従来技術にはない新規な露光・パターン形成を行う近接場リソグラフィおよびリソグラムを提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスクを介してフォトレジストに光を照射し露光して前記フォトマスク近傍に発生する近接場光により前記フォトレジストを感光する近接場光リソグラフィであって、前記フォトマスクへの照射光の周波数を、前記フォトマスクの遮光膜内で発生するプラズモン共鳴の周波数と一致させる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクのたわみによるパターニングの精度悪化を抑制する。
【解決手段】重ね合わせた複数枚のガラス板と、少なくとも一枚のガラス板によって保持されるパターン形成層とを備えるパターニング用ガラスマスク。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、光放出素子とその製造方法、およびこれを用いた露光装置に関し、より詳細には、光陰極を含む平面発光の光放出素子とこれを用いたレンズまたは鏡からなる光学システムを必要としない露光装置に関する。
【解決手段】 本発明は、第１光を放射する光源部と、光源部と大面積で接触する陰極基板と、陰極基板上に付着して構成され、反復的に多数の開口が構成された金属マスク層と、金属マスク層の表面に形成され、第１光を受光して電子を放出する光陰極と、陰極基板と対向する一面に離隔して構成された陽極基板と、前記陽極基板の下部に構成され、前記放出された電子が衝突すれば第２光を発光する蛍光体とを含むことを特徴とする平面発光の光放出素子を提供し、親環境的な無水銀平面光源装置を提供し、各種ミラーおよびレンズが不必要あるいは最小化された光学システムを有する。 （もっと読む）

【課題】 光源装置の放電灯を冷却する際に、膨大な量の冷却用気体を使用せずに理想的な冷却バランスを作成する。
【解決手段】 発光部に連設される封止部と、この封止部に固定される口金12とを有する放電ランプと、口金12を冷却用気体により冷却する手段とを有し、口金12には複数の空気孔17を設け、口金12の円周面が異なるＡ、Ｂの２方向から冷却用気体により冷却されるように構成した光源装置において、複数の空気孔17は、円周方向において互いに対向しない位置関係にあり、複数の空気孔17の１つは冷却用気体の流入孔17-2とし、他の空気孔17-3は冷却用気体の流出孔とし、複数の空気孔17が形成されていない口金12の外周面を冷却用気体の吹付け面としたものである。 （もっと読む）

【課題】 個々のランプの状態を把握できる複数のランプを有する露光用照明装置を提供する。
【解決手段】
各ランプ１毎に電源モジュール２が設けられ、該複数の電源モジュール２を制御装置３により制御して、各ランプ１の点灯を行わせる。電源モジュール２は点灯回路２０を有し、点灯回路２０に点灯検出器２１が付属して、各ランプ１の点灯不点灯の信号を制御装置３に送り、表示装置４に表示させる。点灯回路２０には電圧検出装置２２が接続し、各ランプ１のランプ点灯時の電圧を検出し、電圧判定装置２３はランプが定格仕様電圧で点灯しているか否かを判別する。電圧判定装置２３における上限と下限の基準電圧は、上下限基準電圧設定装置５により任意に設定でき、ランプ１の特性や露光の条件などに応じてランプ電圧の適否基準を変更できる。電圧判定装置２３による判定結果は制御装置３に送られ、表示装置４に表示され、告知される。 （もっと読む）

【課題】基板露光時において、ワークチャックに作用するシリンダの操作力をなくすことにより、ワークチャックの変形を防止することができ、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、作動流体供給源８１とシリンダ７０とを接続して、作動流体供給源８１からシリンダ７０に作動流体を供給する配管回路８０に切換弁８５が設けられ、切換弁８５が、少なくとも基板Ｗに露光用の光を照射して露光する際に、シリンダ７０への作動流体の供給を遮断すると共に、シリンダ７０の内圧を開放する。 （もっと読む）

【課題】テープ状のワークに負荷をかけることなく安定した状態で搬送することが可能な搬送機構を提供すること。
【解決手段】搬送機構Ａの供給リール回転部１は、供給側第１ガイドローラ２より高い位置に配置されている。供給側第２ガイドローラ３は、供給側第１ガイドローラ２と同等又は低い位置に配置されると共に、第１搬送ローラ４より高い位置に配置されている。巻取リール回転部９は、巻取側第２ガイドローラ８より高い位置に配置されている。巻取側第２ガイドローラ８は、巻取側第１ガイドローラ７と同等又は高い位置に配置されると共に、巻取リール回転部９より低い位置に配置されている。第１搬送ローラ４および第２搬送ローラ６には、ワークをローラ表面４１ａに吸着させる吸着手段４２が備えられている。 （もっと読む）

【課題】応答速度が速く紫外線耐性を有する空間光変調手段を使用して露光速度を速くし、露光工程の工数を削減する。
【解決手段】被露光体６を上面に載置して保持するステージ１と、前記ステージ１の上方に配置され、光を放射する光源２と、前記ステージ１と前記光源２との間に配設され、電気光学結晶材料からなる細長部材の長軸方向に平行な側面に対向して一対の電極を設けた複数個の光変調素子を、その両端部を前記光源１からの光の入射端面及び射出端面として二次元的に配設し、前記各光変調素子の透過光を光変調して所定のパターンを生成して前記被露光体６上に露光する空間光変調手段３と、前記空間光変調手段３の各光変調素子を個別に駆動制御して前記所定のパターンを生成させる制御手段５と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】１種類のマスクケースを用いて、複数の露光ユニットのマスクストッカに挿入方向を間違うことなくマスクを供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥでは、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、並列配置され、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂは、各露光ユニット１００Ａ，１００Ｂの対称位置に配置され、複数枚のマスクＭを収容し、且つマスクＭのマスク供給口１９Ａ，１９Ｂが互いに対向するように配置されるマスクストッカ１８Ａ，１８Ｂと、マスクストッカ１８Ａ，１８Ｂから所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給するマスクローダ１７Ａ，１７Ｂと、を備え、マスクストッカ１８Ａ，１８ＢにマスクＭを供給し、露光ユニット１００Ａ，１００Ｂ間を移動自在、且つ回転自在なマスクケース２０を備える。 （もっと読む）

【課題】拡大の投影倍率を有する安価な投影光学系を搭載した走査型露光装置を提供する。
【解決手段】走査方向の前方側に配置された第1投影光学系ＰＬ２と、走査方向の後方側に配置された第２投影光学系ＰＬ１とを用いて、第１投影光学系及び第２投影光学系と第１物体Ｍ及び第２物体Ｐとの走査方向に関する位置関係を変化させつつ第１物体のパターンを第２物体上に転写露光する走査型露光装置において、第１投影光学系及び第２投影光学系は、それぞれ第１物体上における視野内の拡大像を第２物体上の像野内に形成し、第１投影光学系及び第２投影光学系の前記視野の中心同士の走査方向における間隔をＤｍとし、第１投影光学系及び第２投影光学系による像野の中心同士の前記走査方向における間隔をＤｐとし、第１投影光学系及び第２投影光学系のそれぞれの投影倍率をβとするとき、Ｄｐ＜Ｄｍ×｜β｜（但し、｜β｜＞1）を満たす。 （もっと読む）

マスクを受け取るよう構成された第１シリンダと、印刷版を受け取るよう構成された第２シリンダとによって、マスクと印刷版が接合される。第１シリンダと第２シリンダの少なくとも一方は回転可能である。マスクと印刷版を、少なくとも：（ａ）前記マスクと前記印刷版とを少なくとも：前記第１シリンダおよび前記第２シリンダの少なくとも一方の突起と、前記第１シリンダおよび前記第２シリンダの他方の凹みと、前記第１シリンダおよび前記第２シリンダ上の少なくとも一端に設けられた１つまたは複数のマーキングと、前記第１シリンダおよび前記第２シリンダの少なくとも一方に関連づけられた１つまたは複数のエンコーダであって、その関連づけられたシリンダに関する角度位置情報を提供するためのエンコーダによって補助することによって位置合わせをし、（ｂ）前記第１シリンダおよび前記第２シリンダの少なくとも一方を回転することによって接合させる。
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金属製基板上にフォトレジスト層を塗着して加熱し、マスクを通してその層をＵＶ照射に曝し、光硬化しなかった部分を溶解させることによって現像を行ってモールドを得、モールドの開口部分内に金属又は合金の第１の層を電着させ、機械加工によって金属構造及びモールドの平面出しを行って平坦な上側表面を得、上側表面全体に下地金属層を堆積させた後、ここまでのステップを繰り返す。モールドの開口部分内に金属又は合金の第２の層を電着させ、得られた多層金属構造及び硬化フォトレジストを層間剥離によって基板からはがし、フォトレジストを分離して多層金属構造を切り離し、下地金属層の、電着金属の２つの層の間に挟まれていない部分を除去する。
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【課題】
本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、近接露光方式で投影露光方式と同程度の解像度を達成することで、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を安価に提供するための方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、カラーフィルタ製造における露光・現像方法に関するものであり、近接露光方式において、横方向への重合促進を抑制するために重合禁止剤などを添加した感光性樹脂組成物を用いる、露光光学系を調整することでマスクを介して照射される光の照射面におけるずれを低減する、ノズルからの現像液吐出圧が高圧である現像方式で現像を行う、現像・リンス後水洗では水素水超音波洗浄を行う、ことによってマスク開口部の７０％以下の寸法で所望のパターンを基板上に形成し、高解像度・高品質な製品を提供する。 （もっと読む）

【課題】長尺かつ広い領域を、照度を低下させることなく的確に照明できる照明光学系を提供する。
【解決手段】入射面に入射された光束を、その断面の大きさを変更すると共に、射出面に導く断面積変更インテグレータを用いて、断面積変更インテグレータの射出面に対して光学的にほぼ共役な位置に配置された被照射体を照明する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、正確に像様に露光処理を行う連続露光装置を提供することであって、詳細には、露光位置において、透明円筒体の外周面と前駆体との間に空気、異物等の混入がない連続露光装置を提供すること。
【解決手段】ロール状の感光材料に画像パターンを繰り返し連続露光する装置であって、少なくとも透明円筒体と該透明円筒体の内部に配置された光源と、該光源から発せられる光を規制する遮光部材と、該透明円筒体の外周と前記感光材料を密着させる密着ローラで構成されている連続露光装置。 （もっと読む）

【課題】特殊な光学系を用いることなく、照度むらを容易に補正することが可能な露光装置用光源装置、露光装置及び露光装置の調整方法を提供する。
【解決手段】光源装置１００の凹面鏡１０２の反射面を、複数の可動ミラー１１０により構成し、さらに、該可動ミラー１１０の反射面による光の出射方向を変更するピエゾ素子１１５を備えることにより、光源装置１００が出射する照明光の照明光の少なくとも一部の出射方向を変更することで、露光装置１の被露光領域における照明光の照度分布を変化させ、照度むらを補正する。 （もっと読む）

【課題】紫外線照射のタクトタイムを短縮できる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線照射装置は、ショートアーク形水銀ランプと、上記ランプをフラッシュアップ点灯する第１の期間と上記ランプの放電を持続させて待機点灯する第２の期間を交互に繰り返えす点灯回路と、上記ランプから発生した紫外線を通過または遮断するシャッター機構と、これを通過した紫外線をワークに照射する紫外線照射部とを具備し、点灯回路における相対的大電力の投入立ち上がり開始時とシャッター機構の開放開始時とがほぼ一致するとともに、第１の期間における相対的大電力の投入による紫外線出力の立ち上がり時間をｔ１とし、シャッター機構の閉鎖状態から開放までのシャッター機構を通過する紫外線出力の立ち上がり時間をｔ２としたとき、時間ｔ１およびｔ２が数式ｔ２≧ｔ１を満足するように構成されている。 （もっと読む）