本発明の実施形態は、放射線感受性材料をイメージングするために回転式マスクが使用される、大面積の基体のナノパターン形成に有用な方法および装置に関する。典型的には、この回転式マスクは円筒を含む。このナノパターン形成技術は、基体をパターン形成するために使用されるマスクがその基体と動的接触にある、近接場フォトリソグラフィを利用する。この近接場フォトリソグラフィはエラストマーの位相シフトマスクを利用してもよいし、または回転する円筒表面が金属ナノホールまたはナノ粒子を含む表面プラズモン技術を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】省電力化を図るとともに、部品点数を増加させることなく種々のパターンに塗布されたシール材に対して光を照射することができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線照射装置１は、基板Ｗが載置されるステージ１３と、紫外線を照射可能であるとともに個別にオンオフ可能な複数のＵＶＬＥＤが線状に配列され、外側及び内側シール材の幅と略同幅の線状の光を照射する照射部２２ａ〜２２ｄを備える。さらに、紫外線照射装置１は、照射部２２ａ〜２２ｄをＸ方向に移動させるＸ軸アクチュエータ１９と、各ＵＶＬＥＤを外側及び内側シール材のパターンに応じてオンオフさせる制御部３４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】第１凹面ミラーおよび第２凹面ミラーの独立した位置ずれによる結像性能の低下を抑える。
【解決手段】露光装置は、原版１のパターンを基板１１に投影する投影光学系ＰＯを有する。投影光学系ＰＯは、原版１と基板１１との間の光路中に原版１の側から順に配置された第１凹面ミラー６、凸面ミラー７、第２凹面ミラー８と、第１凹面ミラー６および第２凹面ミラー８を支持する支持機構とを備える。第１凹面ミラー６の反射面と凸面ミラー７の反射面との距離は、第２凹面ミラー６の反射面と凸面ミラー７の反射面との距離と異なる。前記支持機構は、上部部材１０５、中段部材１０７、下部部材１０８およびそれらの端部を連結する側部部材を含む棚形状の枠体を含む。第１凹面ミラー６は、上部部材１０５および中段部材１０７によって支持され、第２凹面ミラー８は、下部部材１０８によって支持され。 （もっと読む）

【課題】露光領域の変化に応じて照明光学系を最適に制御し、光源となるランプの寿命に起因するランニングコストを低減することができ、且つ省エネルギーな露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】照明光学系７０は、複数の光源部７３と、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータ７４Ａ，７４Ｂと、を備え、複数の光源部７３は、選択されるインテグレータ７４Ａ，７４Ｂに応じて、各ランプの点灯と消灯を切り替える。 （もっと読む）

【課題】傾斜露光リソグラフシステムの提供。
【解決手段】主に基材、フォトレジスト層、フォトマスク、偏光部品を含む。該フォトレジスト層は基材の上に設置し、該フォトマスクは該フォトレジスト層の上に設置し、かつ該フォトレジスト層との間には間隙を備える。該偏光部品は該フォトマスクの上に設置し、光源が発する光線を折射し、特定角度の偏移を生じる。 （もっと読む）

【課題】
主波長がｈ線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
マスクレス直接描画露光装置から照射される主波長のｈ線に対して低感度で、紫外光を含有するエネルギー線に対して高感度の第一の感光性材料を基板上に成膜する工程と、前記主波長のｈ線に対して高感度の第二の感光性材料を前記第一の感光性材料の上に形成する工程と、前記第二の感光性材料に対してマスクレス直接描画露光装置を用いて第二のパターンを描画する工程と、第二の感光性材料を現像する工程と、第二のパターンが形成された前記第二の感光性材料及び第一の感光性材料を一括露光する工程と、第二の感光性材料を剥離する工程と、第一の感光性材料を現像して目的とする第一のパターンを形成する工程とを有するパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 放電ランプの点灯駆動時に発光管が破裂したとしても、冷却ジャケットまでもが破損することを回避するための構成を備えたロングアーク型放電ランプ及びロングアーク型放電ランプを備えた紫外線照射器を提供することを目的とする。
【解決手段】 発光部に形成された密閉空間内に、一対の電極が互いに離間して配置されると共に発光物質が封入された発光管と、当該発光管の径方向外方に発光管の管軸に沿って前記発光部に当接ないしは近接して配設された保護管とを備えるロングアーク型放電ランプにおいて、前記保護管の径方向外方には破片捕捉体が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板における露光工程以前に生じた寸法の変化に対応するようにガラスマスクを熱変形させることにより、基板製造工程上の誤差に能動的に対応できる基板製造方法及びその装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板製造装置は、ガラスマスクを用いて露光工程を行う基板製造装置であって、一面に露光パターンが形成されているガラスマスクと、ガラスマスクを支持するマスクホルダと、ガラスマスクを熱変形させる加熱手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ａ）透明な支持体を用意するステップと；ｂ）カラーマスクをその透明な支持体の第１の側に形成するステップと；ｃ）可視光に対して感受性のある堆積阻害材料を含む第１の層を適用するステップと；ｄ）カラーマスクを通して第１の層を可視光に露光して第１のパターンを形成し、堆積阻害材料を現像して堆積阻害材料が実質的にない選択された領域をもたらすことによって、堆積阻害材料を含む第１の層をパターニングするステップと；ｅ）透明な支持体の上に機能性材料からなる第２の層を堆積させるステップを含み、機能性材料の第２の層を、透明な支持体上で堆積阻害材料のない選択された領域にだけ実質的に堆積させる、構造体を形成する方法に関する。
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【課題】 直描露光装置を提供する。
【解決手段】 露光ヘッド部１は複数の露光ヘッド１０、１１、１２、１３を有し、これらは副走査方向ｙに等しいヘッド間隔Ｗで互いにほぼ平行並べられ、露光テーブル５は、露光ヘッド部１の下側を副走査方向ｙに移動可能になっており、載置した基板９０を各露光ヘッド１０、１１、１２、１３の下側に移送し、各露光ヘッド１０、１１、１２、１３により基板９０を順次露光させる。各露光ヘッド１０、１１、１２、１３は、主走査方向ｘに均等なピッチＰで直線上に並べられたＬＥＤ２０のアレイを有し、ＬＥＤ２０は各露光ヘッド１０、１１、１２、１３間で主走査方向ｘにピッチずれ量ｄずらして配設され、副走査方向ｙの同一部分に各露光ヘッド１０、１１、１２、１３により重ねて露光することにより、高位置精度の露光を行う。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、待機モードの待機電力を下げつつ、処理モードにおいて、短時間で立ち上がり、立ち切れしない高出力点灯ができる高圧放電ランプおよび高圧放電ランプ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 一対の電極が対向配置され、水銀が封入された発光管と、前記発光管の外側に形成された直管状の外管を備え、前記発光管の両端で前記外管が固定されている高圧放電ランプにおいて、
前記発光管の外表面、または、前記外管の内表面に、凸部が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被露光物をムラなく均一に露光することが可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも天井を有する本体と、この本体の前記天井下側に設置され、紫外線を放射する複数のブラックライトと、このブラックライトの下方に被露光物を保持することが可能な保持具と、を備え、前記保持具に前記被露光物が置かれた位置で、前記ブラックライトの間隔が、前記ブラックライトが放射する紫外線に応じて所定の均斉度を満たすように選定されてなる露光ユニットを有することを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】 放電ランプの大出力化に伴う高温化対策が十分に施されるとともに、電極が損耗した場合の対策も十分に備えた放電ランプ装置を提供することにある。
【解決手段】 この発明に係る放電ランプ装置は、発光管の内部に一対の電極（２，３）が対向配置した放電ランプ１０と、放電ランプ１０の点灯状態を監視する測定手段３０よりなり、測定手段３０は当該放電ランプ１０の点灯に伴い電極が損耗あるいは破損することで、内部から伝熱体Ｍが露出した場合に発生する発光を検知することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 メタルハライド発光管や超高圧水銀発光管は、いずれも光線の出射方向を水平又は垂直方向のみの限定利用しか出来ず、また照度バラツキ等もあり、照明・露光産業界での利用方法に限界が生じていた。
【解決手段】 発光管電極軸を略水平に維持した状態で光線の出射方向を水平方向及び垂直方向の任意の角度に調整させ、複数個以上の反射鏡外周端部の一部の凹部と、反射鏡固定具の一部の凸部が、それぞれに整合組合することにより、照度差整合をもできる事を特徴とした光源装置を利用する照明装置。 （もっと読む）

【課題】 ゴミ又はホコリを発生させることなく高精度にマスクの回路パターンを被露光体に露光できるようにすることが可能な投影露光装置を提供する。
【解決手段】投影露光装置（１００）は、被露光体（Ｔ）を送り出す供給リールを回転させる供給リール回転部（６１）と、この供給リール回転部が回転して供給リールから送り出された被露光体をガイドするガイドローラ（６３）と、ガイドローラからの被露光体を露光部に沿って搬送させるため、この露光部の両側に配置される第１搬送ローラ（６４）及び第２搬送ローラ（６６）と、ガイドローラと第１搬送ローラとの間に配置され被露光体に回路パターンマスク（Ｍ）との位置合わせ用のアライメントマーク（ＡＭ）を描画するアライメントマーク描画部（３０）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造期間および製造コストを抑制しつつ高精度に光学樹脂を加工すること。
【解決手段】基板上に加工対象となる光学樹脂層を積層し、光学樹脂層上にこの光学樹脂層に対するＸ線遮光の役割を兼ねる第１のメッキシード層およびＸ線レジスト層からなるＸ線マスク形成層を積層し、Ｘ線マスク形成層上にこのＸ線マスク形成層に対するＵＶ遮光の役割を兼ねる第２のメッキシード層およびＵＶレジスト層からなる中間マスク形成層を積層した積層基板を用意し、中間マスク形成層に形成された中間マスクを用いることによってＸ線マスク形成層に高コントラストＸ線マスクを形成し、Ｘ線マスク形成層に形成された高コントラストＸ線マスクを用いることによって光学樹脂層を加工する。 （もっと読む）

【課題】データ処理回路の構成を大型化、複雑化させることなく、データ処理速度向上によって描画処理時間を短縮する。
【解決手段】露光エリアＥＡを３つに等分割することによって、露光エリアＥＡ１〜ＥＡ３を規定し、それに従いＤＭＤで規定される第１〜第３の分割変調領域に応じたラスタデータを格納するため、３つのバッファメモリ３８Ａ〜３８Ｃを設ける。そして、第１の分割露光領域ＥＡ１に応じたベクタデータのみを順次描画装置に転送し、ラスタ変換によってラスタデータをバッファメモリ３８Ａに格納する。露光エリアＥＡが各分割露光領域のサイズに応じた露光ピッチ分だけ相対移動する度に、バッファメモリ３８Ａには新たに生成されたラスタデータを格納し、バッファメモリ３８Ｂ、３８Ｃには、それぞれバッファメモリ３８Ａ、３８Ｂに格納されていたラスタデータを格納する。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題の解決。
【解決手段】加工品にパターンを形成する装置および方法。この装置は、超紫外線から赤外線までの波長範囲の光を放射する光源と、精密ステージに装架され、多数の変調素子を有し、放射された光によって照射されるように構成された空間光変調装置と、加工品に空間光変調装置の画像を形成する投射系と、書き込まれるべきパターンのデジタル表現を受け取り、パターンを変調信号に変換し、変調信号を空間光変調装置に供給する電子データ処理および伝送系と、加工品及び／又は投射系を相互に位置決めする高精度機械系と、加工品の位置、空間光変調装置への変調信号の供給、および放射の強度の調整の制御を行い、それによりパターンを加工品に印刷するようにさせる電子制御系と、印刷されるべきパターンの座標系を、位置付けステージ上の加工品の座標系に対して回転させる手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度の高い分割露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクマーク２０の位置と基板マーク３０の位置が露光の際にオーバラップし、且つマスクマーク２０は基板マーク３０より大きく、露光光を遮光する。円形のマスクマーク２０の直径φＭと、円形の基板マーク３０の直径φＢは、φＭ＞φＢとなっている。またマスクマーク２０には、遮光膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】露光パターン形成作業の生産性の低下を抑えた露光装置を提供する。
【解決手段】搬入された基板が載置される載置台と、原版を載置台の上方に保持し、原版を水平方向に移動させて原版を載置台上の基板に対して位置決めするとともに、原版を上下方向に移動させて原版を載置台上の基板に対し密着および離間させる原版移動部と、基板の位置と原版の位置を測定するセンサと、原版移動部を制御することにより、基板上に原版を密着させ、原版の基板に対する位置ずれが第１の閾値を超えていたときに原版を基板から一旦離間させ位置調整の上再度密着させる原版移動制御部と、基板に原版を一回目に密着させたときの基板の位置と原版を基板から一旦離間させて基板に原版を再度密着させたときの基板の位置との差分が第２の閾値を超えたときに警告を出力する警告部と、基板に原版を密着させた状態で基板に光を照射し基板を原版の透過光で露光する露光部とを備えた。 （もっと読む）