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Fターム[2H097CA12]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 光源 (2,873) | 露光エネルギー源 (2,090) | 紫外光 (318)

Fターム[2H097CA12]に分類される特許

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【課題】複数の光源ユニットを備える光照射装置において、加工や組み立てが比較的容易な構造を有する筐体又は支持体を採用することによって、各光源ユニット又は各光源ユニット群から放射される光が、所定の光照射領域に適正に重ね合わされて照射される光照射装置を提供する。
【解決手段】ランプ21と、ランプ21からの光を反射する反射鏡22と、ランプ21及び反射鏡22を収納する筐体23とからなる光源ユニット2を複数備えた光源ユニット群2Xからなる光照射装置において、光源ユニット群2Xは、光源ユニット2の各筐体23が互いに隣接して配置され、筐体23と筐体23が隣接する外壁面231が平面状に形成されると共に、各光源ユニット2から出射する光が所定の光照射領域に重ね合わされて照射されるように、外壁面231はランプ21の光軸に対して傾斜されていることを特徴とする光照射装置である。 (もっと読む)


【課題】感材の現像後のパターンの最小線幅を最小限に抑えるとともにそのパターンのエッジ形状を良好に保つことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置1においては、制御装置29による制御の下で、露光ステージ12の駆動ステージ14によりチャックステージ13を移動させて、感材32が積層された基板31をマスク16に対して位置決めした後、基板31上の感材32へ向けて照射光学系20によりマスク16を介して露光光を照射することにより、基板31上の感材32を所定のパターンで露光する。このとき、照射光学系20に短波長カットフィルター27が装着されている場合には、超高圧水銀灯21から出射された光は、短波長カットフィルター27を通過し、g線、h線及びi線を残して、270〜333nmの範囲にある深紫外線域の光がカットされる。なお、短波長カットフィルター27は照射光学系20において着脱可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】ブラックマトリックスと絵素部外縁との重なり部分における盛り上がりを小さく抑えて、カラーフィルタの表面平坦性を高めることができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】被露光体Wを載置して、搬送する搬送ステージ4と、被露光体Wに露光すべき露光パターンが配設された露光マスク31と、搬送ステージ4の上方に配設されて、露光マスク31を少なくとも1つ以上を保持するマスクホルダ30と、マスクホルダ30を被露光体Wの搬送方向に傾斜して保持するマスクスホルダ駆動装置32と、マスクスホルダ32の上方に配設された露光用の光源2aと、を有する。 (もっと読む)


【課題】大容量のランプの交換作業を容易にし、またランプ又は集光鏡の損傷を防止する。
【解決手段】ランプの出し入れ口を、ランプハウス39の集光鏡32より下の位置に設ける。第1のテーブル(50)によりクランプ70を下方へ移動して、クランプ70に固定されたランプ31を、集光鏡32の開口32aを通して下降させ、第2のテーブル(60)によりクランプ70を横に移動して、クランプ70に固定されたランプ31を、集光鏡32の真下の位置からランプの出し入れ口へ移動し、ランプの出し入れ口でランプ31を交換する。第2のテーブル(60)によりクランプ70を横に移動して、クランプ70に固定されたランプ31を、ランプの出し入れ口から集光鏡32の真下の位置へ移動し、第1のテーブル(50)によりクランプ70を上方へ移動して、クランプ70に固定されたランプ31を、集光鏡32の開口32aを通して上昇させる。 (もっと読む)


【課題】濃度分布マスクを用いて露光して形成するマイクロレンズアレイの、感光性材料へのパターン露光の露光効率を良くするとともに、マイクロレンズの形状の縦横の寸法の誤差を小さくしたマイクロアレイレンズを得る。
【解決手段】濃度分布マスクの個々の単位レンズのパターンの中心から同心円状に形成した仮想的な階調境界円により分割された単位レンズの環状領域毎に、階調に応じた寸法の菱形の遮光パターンを、仮想的な縦横の格子の交点の格子点の位置に設置した濃度分布マスクを用いてマイクロレンズアレイを製造する。 (もっと読む)


【課題】硬化後の着色層の線幅を一定にして直線性を良好にすることが可能な露光方法を提供する。
【解決手段】透明基板11上に、レッド用レジスト層15a、ブルー用レジスト層16a、グリーン用レジスト層17aのいずれかを設ける。次に透明基板11を定盤21上に配置するとともに単一波長のレーザー光Lを着色レジスト層15a、16a、17a上に照射する。着色レジスト層15a、16a、17aの前記波長のレーザー光Lに対する透過率は2%乃至14%となっている。これにより、着色レジスト層15a、16a、17aを透過して透明基板11に至るレーザー光Lの光量を制限したので、硬化後に着色層15、16、17の線幅が一定となる。 (もっと読む)


【課題】反りが生じやすい薄型の基板に塵埃が付着した場合にも、正確なパターンを形成することができる露光描画装置を提供すること。
【解決手段】露光描画装置10は基板SWに対しパターンを直接描画するダイレクト方式の露光装置である。露光描画装置10は、基板SWを載置する描画テーブル13が設けられた基台11と、描画光学系20が収納されたゲート状構造体12とを備えている。ゲート状構造体12には、基板SWの表面に接触して基板の表面に付着した塵埃を除去する粘着ローラ31と、この粘着ローラ31が基板SWに対して一定の圧力で接するように付勢するコイルばね32とを含むクリーニングユニット30が設けられている。描画テーブル13には、描画ビームの配列するY方向とほぼ平行に基板SWを横断して配置され、描画テーブル13上に載置された基板SWを描画テーブル13に押しつけて固定する2組の固定手段50が設けられている。 (もっと読む)


【課題】画像記録の際に1画素に相当する距離を超えて遷移位置をシフトさせる。
【解決手段】各光変調素子461に対応する画素列の画素値が変化する各変化点に関して、描画ずれを補正するために光変調素子からの出力光量の遷移位置をシフトするシフト量が求められ、2つのカウンタ6151,6152では、画素列の1以上の画素に相当する設定距離だけ開始位置をずらして設定距離の2倍のカウント区間毎にディレイクロック814のカウントが開始される。画素列において各カウンタの各カウント区間の始点から最初の設定距離に含まれる変化点までの距離と当該変化点に対するシフト量との和に相当する設定値が、当該カウンタに接続されたコンパレータ6141,6142に入力され、コンパレータではカウンタのカウント数が設定値以上となる際に出力光量の遷移を指示する信号が出力され、1画素に相当する距離を超えて遷移位置をシフトさせることが実現される。 (もっと読む)


【課題】ダイレクト方式においても十分な塵埃除去効果を得ることができる露光描画装置を提供すること。
【解決手段】露光描画装置10は基板SWに対しパターンを直接描画するダイレクト方式の露光装置である。露光描画装置10は、基板SWを載置する描画テーブル13が設けられた基台11と、描画光学系20が収納されたゲート状構造体12とを備えている。ゲート状構造体12には、基板SWの表面に接触して基板の表面に付着した塵埃を除去する粘着ローラ31と、この粘着ローラ31が基板SWに対して一定の圧力で接するように付勢するコイルばね32とを含むクリーニングユニット30が設けられている。粘着ローラ31は、描画ビームが照射される直前に基板SWの描画対象領域の塵埃を除去するように、描画テーブル13上の基板SWの進行方向に対して描画ビームより先行した位置で描画光学系20に近接して設けられている。 (もっと読む)


【課題】光照射装置で入射光が小光量の場合でも均一化して出射できる入射光を供給する。
【解決手段】光照射装置の絞り板の開口部の形状が、スリット形状で溝幅が連続的に暫減又は暫増するように形成される第1パターン101と、第1パターンにおける少なくとも溝幅が所定値以下に狭くなったところの近傍領域に、第1パターンにおける溝幅が暫減又は暫増することと協働して、出射光の通過可能となる面積を暫減又は暫増させるように形成される第2パターン102とが組み合わされて構成される。 (もっと読む)


【課題】光学素子の表面形状に依存することなく、しかも低コスト、小電力でしかも短時間で、光学素子表面に形成されたナノオーダの凹凸をエッチングして平滑化する。
【解決手段】イオンが予め打ち込まれて異屈折率領域61を点在させた光学素子2を原料ガス雰囲気中に配置し、原料ガスを構成するガス分子の吸収端波長以上の光を光学素子2に照射することにより、異屈折率領域61に発生させた近接場光に基づいて原料ガスを解離させて選択的にエッチングし、また異屈折率領域61に発生させた近接場光に基づいて温度上昇を起こさせることにより脈理を除去する。 (もっと読む)


【課題】光源の消耗を抑制し露光光の照度を適切に設定することができる照明装置を提供する。
【解決手段】感光基板Pに対して露光光を照射する照明装置ILにおいて、少なくとも1つの口径が異なる複数の入射口12a〜12cを有し、該複数の入射口12a〜12cから受光した前記露光光を前記感光基板Pに対して共通の射出口14a〜14gから射出させるライトガイド13と、前記複数の入射口12a〜12cのうち少なくとも1つの入射口に対して選択的に前記露光光を入射させる光源部とを備える。 (もっと読む)


【課題】
本発明における目的は、水冷タイプの紫外線ランプとフィードバック制御を組み合わせた装置であっても、冷却水の汚れによってランプ寿命がばらつかない紫外線照射装置及びこれの制御方法を提供することである。
【解決手段】
第1の発明に係る紫外線照射装置は、一対の電極を対向配置した紫外線ランプと、該紫外線ランプの外方に設けた光センサと、該一対の電極に電力を入力するランプ電源と、該光センサに受光された光量値に基づいてランプ電源を制御する制御部と、を備えた紫外線照射装置において、冷却水の流路を構成するジャケットを紫外線ランプと光センサとの間に設け、該流路に比抵抗計又は導電率計を設け、該制御部は該比抵抗計又は導電率計に計測された比抵抗値に基づいて制御を行なうことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真空紫外光を用いて高精細かつ複雑なパターン状に、正確に真空紫外光照射処理が施されたパターン形成体を、高感度で製造できる真空紫外光用メタルマスクを提供する。
【解決手段】パターン形成用基板を用い、上記パターン形成用基板のパターン形成面上にメタルマスクを配置し、反応性ガスの存在下において上記メタルマスクを介して上記パターン形成面に真空紫外光を照射することにより、上記パターン形成面がパターン状に真空紫外光照射処理されたパターン形成体を製造する方法に用いられる真空紫外光用メタルマスク10であって、金属薄板からなり、開口部2を有するメタルマスク本体1と、上記開口部を架橋するように形成されたブリッジ部分3とを有し、かつ、上記パターン形成用基板101上に配置された際に、上記パターン形成面とブリッジ部分との間に上記反応性ガスが通流可能な空隙が形成されるように、上記ブリッジ部分が形成されている。 (もっと読む)


【課題】夾雑物の混入なくマスクパターンフィルムを巻き付け固定し、ロール・ツー・ロールで好適に電解メッキできるマスクパターンフィルムの巻き付け機構及び露光装置を提供すること。
【解決手段】マスクパターンフィルムの前部及び後部に片面に粘着層を有するテープ体と該テープ体との間で剥離可能な剥離シートを設け、搬送巻き付け手段によって該マスクパターンフィルムを光透過性円筒体に巻き付け、剥離シート除去手段により該マスクパターンフィルムの前部及び後部に設けられた剥離シートを除去し、該マスクパターンフィルムの前部に設けられた該テープ体と該マスクパターンフィルムの後部に設けられた該テープ体が重なり合うように貼り付けて、該マスクパターンフィルムを該光透過性円筒体に巻き付けることを特徴とするマスクパターンフィルムの巻き付け機構、及び前記機構を有する露光装置。 (もっと読む)


【課題】 エキシマランプの放電空間において異常放電が発生することを防止することにより、紫外線出力が経時的に低下することのないエキシマランプを提供することを目的とする。
【解決手段】 透光性部材と金属よりなる封止部材とにより気密に封止されると共に、放電ガスが内部に充填された放電容器と、前記透光性部材を挟んで対向する接地電極と高圧電極とを備えるエキシマランプにおいて、
前記封止部材の電位を前記接地電極の電位に比べて高くしたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光部材の作製方法を提供すること。
【解決手段】(a)露光によりラジカルを発生しうる基材上に、ラジカル重合可能な不飽和部位と金属イオン又は金属塩を吸着する部位とを有する化合物を接触させた後、露光を行うことにより、前記基材上に直接結合したポリマーを生成させてポリマー層を形成する工程と、(b)該ポリマー層に金属イオン又は金属塩を付与する工程と、(c)該金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元して、体積平均粒径が5nm以上500nm以下の金属粒子を析出させる工程と、を有することを特徴とする遮光部材の作製方法。 (もっと読む)


【課題】放電ランプに対して加わる瞬間的な外力を緩衝することにより、放電ランプに装着された口金とランプホルダとの接続を安定な状態で維持することができる放電ランプ保持機構を提供する。
【解決手段】端部に有底筒状の口金が装着された放電ランプと、この放電ランプを着脱することのできるよう保持する柱状のランプホルダ5とからなり、前記ランプホルダ5は、灯具側ホルダ部53と、その端部に前記ホルダ側本固定機構52が設けられた、当該灯具側ホルダ部53に対して独立に回転可能な状態で灯具側ホルダ部53に連結された口金側ホルダ部51と、前記灯具側ホルダ部53と前記口金側ホルダ部とに接続された弾性体と、前記灯具側ホルダ部53に対する前記口金側ホルダ部51の回転が所定範囲以内となるよう制御する回転制御機構とを備えている。 (もっと読む)


【課題】紫外線の被露光体に対する露光を全体的に均一にする。
【解決手段】軸断面三角形状のリフレクタ2の中央に、該リフレクタ2の長さ方向に沿って紫外線蛍光灯3を配置してなる露光器1である。紫外線蛍光灯3の直下の部分の光量を減少させる手段として、紫外線蛍光灯3の直下位置に該紫外線蛍光灯3と平行して、全体が透明なアクリル又はガラスからなり、上面をサンドブラストにより粗面4aとなした所要幅の紫外線透過制限板4を配置する。 (もっと読む)


【課題】安価且つ短時間で、高精細なマスクパターンを光透過性円筒基材の外周面に形成させる露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性円筒基材の外周面に少なくとも1層の感光層を有する感光体の露光装置であって、マスクパターンフィルムの挿入口と、前記マスクパターンフィルムを前記感光体に押し付け且つ前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体の外周面の一部を覆い、前記感光体と共に前記マスクパターンフィルムを挟持しながら搬送させるための光透過性搬送手段とを、少なくとも有する露光装置。 (もっと読む)


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