【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、カセット８１には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材１０１が配置されている。 （もっと読む）

【課題】光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】光照射装置８０は、ランプ７１とランプ７１から発生された光に指向性をもたせて射出する反射鏡７２をそれぞれ含む複数の光源部７３と、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット８１と、複数のカセット８１を取り付け可能な支持体８２と、を備える。カセット８１のランプ押さえカバー８４は、複数の光源部７３を取り付ける際に、複数のランプ７３の光がインテグレータレンズ７４の入射面に入射されるように複数のランプ７３を支持する支持部材８６を有する。 （もっと読む）

【課題】描画精度の向上に寄与できる描画装置を提供する。
【解決手段】記録媒体Ｐに向けて活性光線硬化型の液滴を吐出する吐出ヘッド６２と、キャリッジ１４を介して吐出ヘッドを走査方向に移動させるヘッド移動装置１８と、活性光線を照射する照射部１６とを備える。照射部をキャリッジとは分離して、且つ走査方向に移動自在に支持する支持部３８と、照射部を吐出ヘッドとは独立して走査方向に移動させる照射部移動装置と、記録媒体に対する活性光線の照射領域を、照射部と対向する第１領域と、吐出ヘッドと対向する第２領域Ａ２とに切り替える切替装置７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、消費電力が少なく長寿命で、かつ必要な波長域の光を必要な光量で効率よく出射して露光することができる露光装置および光源装置が得られる。。
【解決手段】 光源ユニット４１は、第１のＬＥＤアレイ４１１、第１のレンズアレイ４１２、第２のＬＥＤアレイ４１３、第２のレンズアレイ４１４、ダイクロイックミラー４１５、第３のレンズアレイ４１６、第１の結像光学系４１７を備える。第１のＬＥＤアレイ４１１は、中心波長３８５ｎｍの光を出射する。第２のＬＥＤアレイ４１３は、中心波長３６５ｎｍの光を出射する。ダイクロイックミラー４１５は、第１のＬＥＤアレイ４１１の発光部４１１ｃの像に第２のＬＥＤアレイ４１３の発光部４１３ｃの像を重ねて合成する。
（もっと読む）

【課題】大型の露光装置用マスクステージ装置を軽量化、小型化すること。
【解決手段】 マスクステージＭＳＴでは、マスクＭを保持するステージ本体６０がＹ軸（クロススキャン）方向に移動する際には、一対のＸビーム７０及び一対のＸテーブル９０と一体的にＹ軸方向に移動する。これに対し、ステージ本体６０がＸ軸（スキャン）方向に移動する際は、一対のＸテーブル９０がステージ本体６０と共に静止したＸビーム７０上をＸ軸方向に移動する。従って、マスクＭをスキャン方向に移動させるためのリニアモータの推力が小さくて良く、駆動反力の影響も低減できる。また、マスクステージＭＳＴがＹ軸方向に移動するとき、一対のステージガイド５０も同時にＹ軸方向に移動するので、ステージガイド５０のＹ軸方向幅を小さくすることができ、装置が軽量化できる。 （もっと読む）

【課題】 被処理対象物の光照射面における照度の面内均一性の高い光照射処理を行うことのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、長手方向の両端部が筐体によって保持された、長手方向に垂直な断面形状が矩形状の長尺なランプと、当該ランプが内部に挿通された状態で、長手方向の両端部が前記筐体によって保持されて設けられた、内部に冷却風流通路を形成する透光性を有する長尺な筒状の外套管とにより構成された光源エレメントを備えてなり、前記外套管の内部には、前記ランプをその長手方向の局所的な位置において当該外套管に対して直接的に支持させるサポータが設けられており、当該サポータは、前記ランプの４つの稜に係る角部と接して当該ランプを挟持して保持する、絶縁材料からなるサポータ本体を備えており、当該サポータ本体には、前記外套管の内面に当接する、弾性部材を備えた外套管当接部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】簡便・安価な装置と機材により、めっきの雌型やマイクロ流路・容器に使用できる均一膜厚で急峻な断面側壁を有する感光性物質のパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】基材上に感光性物質を厚く均一膜厚で付し、その上に遮光液を用いてディスペンサまたはインクジェットプリンタまたはスクリーン印刷によって基になる遮光パターンを作り、該遮光パターンをマスキング材として前記感光性物質を露光する。 （もっと読む）

【課題】光源部の照射時間の経過に伴う照度低下を抑制することができる露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】発光部と反射光学系を含む複数の光源部７３と、所定数の光源部７３の光がインテグレータレンズ７４の入射面に入射されるように、光源部７３を光源支持部８３で支持する複数のカセット８１と、全ての光源部７３の光がインテグレータレンズ７４の入射面に入射されるように、複数のカセット８１を取り付ける複数のカセット取り付け部を有する支持体８２と、各光源部７３の光軸角度を調整可能な光軸角度調整機構９９と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来の電極作成方法であるフォトリソグラフィ、マスクスパッタリングは、工程の簡略化、材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応において解決するには困難な課題があり、インクジェット方式では高精細度なパターンが得られないという課題がある。
【解決手段】感光性塗布型電極材料を用いて、所望の電極パターンニングを行う。本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。 （もっと読む）

【課題】液晶基板の配向膜に細かいピッチの線状の光パターンを照射して一方向に走査すると、その走査した方向に応じた一様な配向特性（プレチルト角）が配向膜に付与されるが、従来のマスクを介して光パターンを照射して露光する方式では露光の時間が長くかかり、実用化する上でネックになっていた。
【解決手段】光源から発射された露光光に偏光特性を付与して微小な可動ミラーを多数備えたマイクロミラーデバイスに入射させ、マイクロミラーデバイスの微小な可動ミラーにより形成された反射パターンで反射された露光光のパターンを投影光学系を介してステージに載置された表面に配向膜が形成された基板に投影して配向膜を露光する液晶用配向膜を露光する方法において、ステージを一方向に連続的に移動させることにより一方向に連続的に移動している基板上を露光光のパターンがステージの移動速度よりも遅い速度で移動して配向膜を露光するようにした。 （もっと読む）

【課題】基板面内における現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送手段２０と、被処理基板Ｇに対する露光処理空間を形成するチャンバ８と、基板搬送方向に交差する方向にライン状に配列された複数の発光素子Ｌを有し、下方を搬送される被処理基板上の感光膜に対し、前記発光素子の発光により光照射可能な光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記基板搬送手段により搬送される前記被処理基板を検出する基板検出手段３０と、前記基板検出手段による基板検出信号が供給されると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】光寿命が向上した露光ヘッドを提供する。
【解決手段】有機電界発光素子６０Ｂで構成された発光部６０Ａと、発光部６０Ａからの発光を光入射面から入射すると共に光出射面から出射して予め定められた位置に結像させる結像部と、を備え、有機電界発光素子６０Ｂとして、陽極層６２と、陰極層６４と、陽極層６２及び陰極層６４の間に配された発光層６３と、陰極層６４の側面及び発光層６３側とは反対側の面を覆って配された金属層６５であって、一部又は全部が露出して配された金属層６５と、の積層体で構成させる。そして、陰極層６４は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属に属する元素の少なくとも１種を含んで構成されている。 （もっと読む）

【課題】ランプの電極が磨耗してランプの発光点が移動しても、ランプの発光点を集光鏡の焦点に合わせて、露光光の強度の低下を抑制する。
【解決手段】ランプ３１を固定するクランプ７０と、クランプ７０を移動してランプ３１の位置を調整する調整機構、及び調整機構を駆動するモータを有する位置調整装置とを設け、光の強度を検出する検出装置４０を集光鏡３２の焦点の高さに設置する。検出装置４０により、ランプ３１から発生した光を集光鏡３２の焦点の高さで受光して、受光した光の強度を検出し、検出装置により検出した光の強度が最大となる様に、位置調整装置のモータを制御してクランプ７０を移動し、ランプ３１の発光点を集光鏡３２の焦点の位置に合わせる。 （もっと読む）

【課題】
レーザ装置の製造時の機差によるＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきや、レーザ装置の交換やメンテナンスに伴うＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきを抑制し、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定させる。
【解決手段】
先ず予め複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定しておく。そして、狭帯域化レーザ装置のメンテナンス時や出荷時など、狭帯域化レーザ装置を半導体露光の光源として使用する前に、狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出する。この際、スペクトル幅が予め設定した上限値と下限値との間の値になるように、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整する。 （もっと読む）

【課題】コールドミラーである反射鏡を液体で効率よく冷却する手段を、簡便な構造により実現し、小型で安価な構成とすること
【解決手段】長尺なランプと、該ランプに沿って長手方向に配置される反射鏡を備え、該反射鏡の内面に紫外線を反射し赤外線を透過する反射膜を有する紫外線照射装置において、前記反射鏡の外面に近接して配置されるとともにこれを保持する反射鏡冷却保持体を備え、該反射鏡冷却保持体は内部に冷却液体が流通する流路を複数備え、該流路は該反射鏡冷却保持体の長手方向の両端部に開口を有し、該端部は蓋部材によって密閉されてなり、該蓋部材の内側に、溝状の折り返し流路部が形成されるとともに、一の流路と他の流路が折り返し流路部を介して空間的に連結されていること。 （もっと読む）

【課題】急峻な立ち上がりの形状を持つレジストパターンを被転写体上に形成する。
【解決手段】遮光部と透光部との境界、または遮光部と半透光部の境界には、半透光膜上の位相シフト調整膜が部分的に露出してなる位相シフタ部が形成され、遮光部と透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となり、遮光部と半透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、半透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となる。 （もっと読む）

【課題】 半透光部と透光部との境界部分におけるレジストパターン形状をより正確に制御する。
【解決手段】 遮光部は、半透光膜、位相シフト調整膜、及び遮光膜が透明基板上に積層されてなり、半透光部は、半透光膜、及び位相シフト調整膜が透明基板上に積層されてなり、透光部は、透明基板が露出してなり、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長の光が半透光部を透過するときの位相シフト量が前記透光部に対して６０度以下となるように、半透光膜と位相シフト調整膜との材質及び厚さが設定されている。 （もっと読む）

【課題】ランプ交換や調整などのメンテナンスに要する作業時間の短縮化を図る。
【解決手段】マイクロ波を発生するマグネトロンおよび導波管を介してマイクロ波に基づき、紫外線を発光することが可能な放電媒体が封入された無電極ランプ１２が収容されたランプハウス１１からモジュール化された紫外線照射部１００を構成する。紫外線照射部１００から放射される紫外線は、リフレクタを用いて集光または拡散させながら照射室２００に配置される被照射体に照射させる。紫外線は通過し、マイクロ波は遮蔽する電磁シールド２４が配置される。電磁シールド２４は支持枠３０に複数取り付けられ、行方向に複数配置された紫外線照射部１００に対向させる。支持枠３０は電磁シールド２４を取り付けた状態で取り出し可能とした。照射室２００から紫外線照射部１００に対するメンテナンス性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】遮光性能の高い黒色感光性樹脂を安定的に加工する製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板上に形成された黒色感光性樹脂層に対して露光工程、現像工程、加熱硬化工程を順次行うことにより透明基板上に黒色遮光パターンを形成する黒色遮光パターン基板の製造方法において、該露光工程が、（１）透明基板の黒色感光性樹層が形成された側からパターン露光を行う工程と、（２）透明基板の黒色感光性樹層が形成されていない側から全面露光を行う工程、とを有することを特徴とする黒色遮光パターン基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）