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Fターム[2H097CA12]の内容

フォトレジスト感材への露光・位置合せ (19,491) | 光源 (2,873) | 露光エネルギー源 (2,090) | 紫外光 (318)

Fターム[2H097CA12]に分類される特許

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【課題】 テンプレートを用いることなく基板に凹凸状のパターンを形成することができるパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決装置】 基板(FB)の表面に凹凸状のパターンを形成するパターン形成装置(10)において、パターンに対応するパターン情報に基づいて、基板(FB)の表面に供給された硬化性材料(R)を押圧する押圧部(11)と、押圧部(11)によって押圧された硬化性材料(R)に所定のエネルギーを付与し、該硬化性材料(R)を硬化させる硬化部(16)とを備える。 (もっと読む)


【課題】 対象体に対して、比較的高い光量の光を、比較的小さい光量分布で照射する光照射ヘッド、露光デバイス、画像形成装置、液滴硬化装置、および液滴硬化方法を提供する。
【解決手段】 この光照射ヘッド10は、第1基板20と、第1基板20の上に配置されている発光素子12と、を備えている。第1基板20は、冷却媒体が通過する冷却流路が内部に設けられている。 (もっと読む)


【課題】 4灯のランプを備える光照射装置において、ランプや集光鏡の交換などの光源部の保守が容易にできるような構造を提供すること。
【解決手段】 4灯のランプが四角形の頂点になるように配置された光照射装置において、光源部を、ランプ2灯を一組とした2つのユニットに分割し、それぞれのユニットに引き出し案内(ガイドレール)を設ける。そして、2つのユニットを、それぞれ水平面において相反する方向(左右方向)に引き出す。 (もっと読む)


【課題】保持機構に対する放電ランプの装着又は取り外しを容易に短時間に行う。
【解決手段】放電ランプの装着方法は、ガラス管25と口金部26とを有し、口金部26が、フランジ部26aと、外形がフランジ部26aより小さい軸部26bと、外形が軸部26bより小さい凹部26fと、外形がフランジ部26aより小さく、凹部26fよりも大きい固定部26hと、軸部26bの外周面に設けられた流路とを備える放電ランプ1を準備し、放電ランプ1の口金部26を取り付け装置31の開口部に挿入し、冷却用媒体を供給するために、取り付け装置31に設けられた供給口と、軸部26bの流路とを互いに対向させるものである。 (もっと読む)


【課題】開口部材を有さない場合に比べ、発光特性のバラツキを抑制する。
【解決手段】基板60と、有機EL(エレクトロルミネッセント)により発光する単一の有機EL発光部62と、有機EL発光部62からの発光光が通過する開口部68Aを有する走査可能な開口部材68と、開口部材68の開口部68Aを通過した発光光を予め定められた位置に結像させる結像部69と、を備える。発光素子が一つしかないため、従来の構成に比べ、発光特性のバラつきが抑制される。 (もっと読む)


【課題】プラズマを透過したレーザー光がレーザー発振器に照射されることを防止した光源装置を提供する。
【解決手段】放電媒体が封入されたランプ2と、ランプ2から出射された光を反射する凹面形状の反射面32及び光出射開口31を有する凹面反射鏡3と、レーザー光4を出射するレーザー発振器5とを備え、ランプ2にレーザー光4を照射する光源装置であって、ランプ2を透過したレーザー光4’の光路上に、レーザー光吸収部材6を設けたことを特徴とする光源装置である。この光源装置によれば、レーザー発振器5にレーザー光4’が入射されないので、エネルギー密度の高いレーザー光の影響を受けてレーザー発振器5が故障するといった不具合を確実に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】ステレオリソグラフィ装置(1)用の照射システム(30)を提供する。
【解決手段】平坦支持手段(31)と、平坦面(46)において、アレイ(32)の上方で平坦支持手段(31)の上に機械的に支持され、樹脂層(16)を塗布するための樹脂塗布装置(60)を受けるように配置された造形面(451)を有するマルチレンズプロジェクタアレイ(40)であって、LEDを造形面(451)に投影するようになされた複数の小型レンズ(44)を含む光学的要素の積層体からなるマルチレンズプロジェクタアレイ(40)と、平坦支持手段(31)とマルチレンズプロジェクタ(40)の間に配置された、個別に制御可能な発光ダイオード(LED)(34)の二次元アレイ(32)と、を備え、平坦支持手段(31)と平坦面(46)は、平坦面(46)のほぼ全体にわたって配置された接触領域(33、400)の上で支持され、剛性本体(30)を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ステレオリソグラフィ装置(1)用の照射システム(30)を提供する。
【解決手段】このシステムは、個別に制御可能な広角発光ダイオード(LEDs)(34)の二次元アレイ(32)を支持する平坦な支持手段と、そのアレイに関連して配置され、LEDの焦点像を造形領域(16)に投影させるようになされたマルチレンズプロジェクタアレイ(40、42)を備え、マルチレンズプロジェクタアレイは、発光中央領域像スポットサイズより小さい、またはそれと同等の発光縁辺領域像スポットサイズを有するLEDアレイからの光を投影するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】発光素子間の距離を変更することなく、出射光の縦横の照射サイズを任意に変更することができる光源装置を提供する。
【解決手段】光出射体1からの出射光は、光反射面3A1、3A2、3A3で反射される。光反射面3A1〜3A3は平面状の複数の光反射面並べたものであり、反射した光の行方向(光出射体1のX方向)の中心光線間の相互の距離が入射する前より小さくあるいは大きくなるように構成され、光出射体1からの出射光の行方向のサイズが変更される。この反射光は、光反射面4B1、4B2、4B3で反射される。光反射面4B1〜4B3も、光反射面3A1〜3A3と同様な構成であり、反射した光の列方向(光出射体1のY方向)の中心光線間の相互の距離が入射する前より小さくあるいは大きくなるように構成され、列方向のサイズが変更される。なお、上記反射面が歪曲面(凹面)であってもよい。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、感光膜の硬化を十分に得られる光源ユニット及びこの光源ユニットを具備した製版露光装置を提供することにある。
【解決手段】
第1の発明に係る製版露光装置は、複数の固体発光素子を備える光源ユニットと、該光源ユニットからの紫外線を照射される被照射物が載置される載置台と、を有する製版用露光装置において、該光源ユニット又は該載置台には、該光源ユニットと該載置台とを相対的に移動させる駆動手段が設けられ、該複数の固体発光素子は、紫外線を出射する第1の固体発光素子と、該第1の固体発光素子が出射する紫外線より短い波長の紫外線を出射する第2の固体発光素子との少なくとも2つの紫外線を出射する固体発光素子からなり、該光源ユニットが該載置台に対して相対的に移動される方向のならびで、第1の固体発光素子の後に第2の固体発光素子が配置されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】斜めに配置するミラーの自重たわみを、ミラーの平面性を損なうことなく、簡便な機構で防ぐこと。
【解決手段】ランプ2から出射した光を集光鏡3で集光させ、第1のミラー41、インテグレータレンズ7、第2のミラー42、コリメータレンズ8を介して被照射面11に照射する。第1のミラー41や第2のミラー42は、斜めに配置され自重によるたわみが生じる。このたわみを補正するためミラー41、ミラー42の反射面とは反対側に梃子手段20a,20bが設けられ、たわんだ部分を押し上げたり、たわんだ部分を引き上げてたわみを補正する。ここで、梃子手段20a,20bの棹を支点において曲げてもよい。これにより、梃子手段のバランスを安定させて、力点に取り付ける錘の重さの軽量化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板101を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有する露光系と、投影光学系100と基板101との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 (もっと読む)


【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板101を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系100を有する露光系と、投影光学系100と基板101との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 (もっと読む)


【課題】感光性エレメントから凸版印刷フォームを作製するための方法および装置を提供すること。
【解決手段】より詳細には、この発明は、化学線に対する露光の間、調整された酸素濃度を有する環境内において凸版フォームを作製するための方法および装置を説明する。この方法は、感光性エレメントの上にin−situマスクを形成するステップと、不活性ガスおよび190,000から100ppmの間の酸素濃度を有する環境内においてin−situマスクを介して化学線に対してエレメントを露光させるステップと、浮出し面区域のパターンを有する凸版印刷フォームを形成するために露光されたエレメントを処理するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ランプから出射される光の出力を高いものとするとともに、ランプに照射されるレーザー光の利用効率を向上させることを目的とする。
【解決手段】 本発明の光源装置は、放電媒体が封入されたランプと、前記ランプから出射した光を反射する凹面形状の反射面を有する凹面反射鏡と、前記ランプに向けてレーザー光を出射するレーザー発振器と、S偏光のレーザー光は反射しP偏光のレーザー光は透過する偏光ビームスプリッターと、前記ランプを透過して前記凹面反射鏡を介して出射した直線偏光の偏光方向を変える偏光回転素子と、前記ランプを透過して前記凹面反射鏡を介して出射した直線偏光が前記偏光回転素子と前記偏光ビームスプリッターとにこの順に入射するよう当該直線偏光を導く光学素子と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】楕円反射鏡からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域を利用して、レーザ光を導入することにより、放射光が減衰せず、楕円反射面で確実に反射され、放射光を効率良く利用することのできる光源装置を提供する。
【解決手段】内部に発光物質が封入され、楕円反射鏡2の開口側からレーザ光が集光して照射されて前記発光物質を励起して放射光が放射されるプラズマ発生容器1と、一方の焦点にプラズマ発生容器1が配置された楕円反射鏡2と、放射光が楕円反射鏡2によって反射されて反射光となり、該反射光の向きを変える平面鏡4とを備え、平面鏡4には、プラズマ発生容器1によって楕円反射鏡2からの反射光が遮られ反射光が照射されない反射光非照射領域F1−F2に、レーザ光を導入する窓部41が設けられていることを特徴とする光源装置である。 (もっと読む)


【課題】複数の小型ランプを管理できる光源装置及び描画装置に関する技術を提供する。
【解決手段】 第1の観点の光源装置(20)は、ランプ(22)及び反射鏡(3)で構成され第1識別情報を有する光源と、第1識別情報を検出する第1検出器(51)と、光源を1個以上保持し第2識別情報を有するハウジング(21)と、第2識別情報を検出する第2検出器(56)と、第1識別情報に関連する光源の情報と第2識別情報に関連するハウジング(21)の情報とを記憶する記憶部(92)と、第1検出器で得られた第1識別情報及び第2検出器で得られた第2識別情報と記憶部に記憶された光源の情報及びハウジングの情報とを比較し判定する判定部と、判定部の結果に基づいて、ランプを駆動する条件を制御する制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】レーザエネルギーを十分に放電容器内の放電部に導入でき、光学素子の損傷を防止するこ露光装置を提供する。
【解決手段】放電ランプ9と、放電ランプ9から放射された紫外光を反射する楕円反射鏡10と、楕円反射鏡10で反射された紫外光を被照射物17に照射する露光光学系と、放電ランプ9にエネルギーを供給するためのレーザビームを入射するためのレーザ発振器1とを有する露光装置であって、レーザ発振器1とレーザ発振器1からのレーザビームを分岐するビーム分岐部6を露光光学系外に配置し、楕円反射鏡10で反射された紫外光の光路上に、レーザビームを導入するための波長選択機能を有する光学部材12を配置し、分岐された複数のレーザビームは、光学部材12を経由し、楕円反射鏡10で反射された紫外光の反射光阻害領域を回避して、楕円反射鏡10に入射され、放電ランプ9に入射させることを特徴とする露光装置である。 (もっと読む)


熱処理中のフレキソ印刷要素の表面粗さを制御する方法。印刷ブランクは、支持層上に少なくとも1つの光硬化性層を含み、該少なくとも1つの光硬化性層が(1)スチレン−ブタジエン−スチレンを含むバインダー、(2)少なくとも1つの速硬化モノマー、(3)少なくとも1つの遅硬化モノマー、及び(4)光重合開始剤を含む。印刷要素ブランクは、印刷要素ブランクの最上部から印刷版ブランクを化学線により選択的に像様露光することで、前記少なくとも1つの光硬化性層の一部を選択的に架橋及び硬化し、そして熱処理して前記少なくとも1つの光硬化性層の未硬化部分を取り除くことで、前記少なくとも1つの光硬化性層にレリーフ像が現れる。熱現像後の前記レリーフ像印要素の表面粗さが約1,000nm未満に制御される。 (もっと読む)


【課題】光変調器において電極間に印加される電圧を低くするとともに、制御ピッチを縮小する。
【解決手段】光変調器3では、周期分極反転構造310が設けられたベース部31の上面311に第1電極部33を設けるとともに下面312に第2電極部34を設け、第1電極部33と第2電極部34との間に同じ向きの電圧を印加することにより、ベース部31に設けられた周期分極反転構造310において分極部配列方向における周期的な屈折率の変化を生じさせてベース部31に入射する光を回折させる。これにより、第1電極部33と第2電極部34との間に印加される電圧を低減し、制御ピッチの縮小を実現しつつ周期分極反転構造310の内部にZ方向の所望の電界を形成することができる。そして、第1電極部33と第2電極部34との間に印加される電圧を低減することにより、光変調器3による光の変調速度を向上することができる。 (もっと読む)


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