【課題】基板の変形を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、上面に基板が載置される保持部材と、保持部材の下面の一部を支持する支持部材と、一端が支持部材に接続され、保持部材の下面のうち支持部材の外側に張り出した張出領域と対向するように配置されるアーム部材と、アーム部材の他端に配置され、張出領域と接触する接触部を有し、接触部を介して張出領域に力を加える力発生機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】可動部の姿勢を高い精度で制御することができる駆動装置を提供する。
【解決手段】駆動装置は、第１方向に移動する第１可動部と、前記第１可動部をその一端側および他端側において浮上させて支持する気体ベアリングをそれぞれ含む２つの浮上機構と、前記第１可動部によって支持およびガイドされながら前記第１方向に直交する第２方向に移動する第２可動部と、前記２つの浮上機構を制御する制御部とを有し、前記２つの浮上機構は、それぞれ前記第１可動部の浮上量を磁力によって変化させる電磁石を含み、前記制御部は、前記２つの浮上機構のそれぞれの前記電磁石の励磁を前記第２可動部の前記第２方向における位置に応じて制御する。 （もっと読む）

【課題】 ワークがワーク搬送機構から落下したとしても、ワーク自身やワークステージの部品が傷ついたりすることがないようにするとともに、従来に比べてタクトが長くならない露光装置を提供すること。
【解決手段】 ハンドラにより搬送したワークをワークステージに載置し、当該ワークステージに載置したワークに対しマスクを介して光を照射し、上記ワーク上に上記マスクに形成したパターンを露光する露光装置において、ハンドラがワークを搬送する領域であって、ハンドラがワークを搬送する搬送高さ（搬送レベル）からワークステージの吸着テーブルの表面高さまでの間の空間に、ワークステージを横切るワイヤーを張る。 （もっと読む）

【課題】 照射領域変更などの理由でハエの目レンズを交換する場合にハエの目レンズ固有の照度むらを補正し、照度むら調整のダウンタイムを無くし、生産性を向上させる照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源からの光を照明光学系に入射し、該照明光学系からの照明光により被照射面を照射する照明光学装置であって、複数のハエの目レンズと、光路内において前記ハエの目レンズを他のハエの目レンズに交換するハエの目レンズ交換手段と、前記複数のハエの目レンズと同数の、照射範囲を規定するスリットと、光路内において前記スリットを他のスリットに交換するスリット交換手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させるともに、装置の小型化を促進し、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、Ｘ−Ｙ連通流路１３、排気口１２、シール部７、軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計１５及びミラー１７ａ、１７ｂは、排気口１４、Ｙ凹空間部６、Ｘ−Ｙ連通流路１３、排気口１２を通じて減圧されるＸ凹空間部９に配置される。 （もっと読む）

【課題】真空を供給する凹部を有する基台と、この凹部上に取り付ける複数の貫通孔を形成した吸着板とを備えたワークを吸着保持するワークステージにおいて、反りが生じているワークを吸着保持するために吸着板の周辺部にシール用弾性体を設けた安価で加工の容易なワークステージおよびそのワークステージを使った露光装置を提供すること。
【解決手段】シール用弾性体を吸着板とは別体であり基台に対して取り外し可能なシール用弾性体取り付け板に固定し、このシール用弾性体取り付け板を、吸着板を取り囲むように基台に取り付ける。 （もっと読む）

【課題】構成レンズの枚数の増加を抑制しながら、プリント回路基板等を製造するのに十分な露光領域、解像度及び光学特性が得られるコンパクトな投影光学系を提供する。
【解決手段】紫外線を用いてレティクル上のパターンの像を基板上に投影露光する投影光学系であって、物体側から像側の順に、正屈折力の第１レンズ群と、正屈折力の第２レンズ群と、開口絞りと、正屈折力の第３レンズ群と、正屈折力の第４レンズ群を備え、第２レンズ群は、最も開口絞りに近く配置された負屈折力のメニスカス形状のレンズと、該レンズＬ２５よりも第１レンズ群側に配置された少なくとも１枚の正屈折力のレンズを有し、第３レンズ群は、最も開口絞りに近く配置された負屈折力のメニスカス形状のレンズと、該レンズよりも第４レンズ群側に配置された少なくとも１枚の正屈折力のレンズとを有し、全光学系の倍率をβとするとき、０．４１＜｜β｜＜２．４の条件を満たす。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＭＥＭＳ(Micro Electro Mechanical Systems)、半導体等の製造に用いるマスクレス露光装置に関し、基板の所定部位を容易に観察することを目的とする。
【解決手段】 基板を支持するステージと、前記基板に投影する露光パターンを生成するパターン生成部と、前記パターン生成部で生成された露光パターンを前記基板に投影する対物レンズと、前記対物レンズを介して前記基板を観察する観察光学系と、前記基板を露光するための制御を行う露光モードと、前記露光モードで露光された前記基板を観察するための制御を行う観察モードとを備えた制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アライメント顕微鏡の撮像素子に写し出されるワークマークの見え方が異なったとしても、ワークマークを正しく検出することができるようにすること。
【解決手段】アライメント顕微鏡１０を使って、ワークＷの表面画像を受像し、ワークマークＷＡＭとして登録すべき見え方（形状や明暗や色調）の異なる複数のパターンを、ワークマークＷＡＭ１〜ｎとして制御部１１の記憶部１１ｂに登録する。ワークマークを検出する際には、このワークマークＷＡＭ１〜ｎを使って、検索領域内のパターンを検索し、比較・評価部１１ｃで、登録されているワークマークＷＡＭ１〜ｎと検索領域内のパターンとを比較して一致度のスコアを求め、スコアが例えば一定値を越えていると、このパターンをワークＷ上のワークマークＷＡＭと判定する。このワークマークＷＡＭを使って位置合わせ制御部１１ｅはマスクＭとワークＷの位置合せを行う。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光によって基板上に投影像を形成する投影光学系と、基板の位置検出を行う検出装置と、検出装置の検出結果に基づいて投影像と基板との相対的な位置合わせを行う位置合わせ装置と、投影像の位置と位置検出における検出基準位置との少なくとも一方と露光光の照射量との関係に関する相関情報を記憶した記憶装置と、露光光の照射量を計測する計測装置と、計測装置の計測結果と相関情報とに基づいて、投影光学系、検出装置、及び位置合わせ装置の少なくとも１つの装置較正を行う較正装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】
ハーフショットでの重ね合わせ精度を改善する。
【解決手段】
照明手段を制御して原版の第１領域を有効領域として基板の第１ショット領域を露光させ、前記第１領域における前記第１ショット領域との重畳領域が前記第１領域の半分となるように前記基板ステージを移動させ、前記照明手段を制御してアライメントマークを含む前記重畳領域内の一部の領域を有効領域として前記第１ショット領域を露光させ、前記照明手段を制御して前記第１領域のうち前記重畳領域以外の領域を有効領域として前記基板の第２ショット領域を露光させる制御手段、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ計測を行う際に原版ステージと基板ステージの各々の微視的な変動を軽減させ、高精度な位置合わせを行う露光装置を提供する。
【解決手段】
原版を保持して移動される原版ステージと、前記基板を保持して移動される基板ステージと、前記原版ステージに配置された原版マークと前記投影光学系により投影された前記基板ステージに配置された前記基板マークとの撮像を行って前記原版マークの像と前記基板マークの像との相対位置を検出する検出手段と、前記原版ステージの動作と前記基板ステージの動作と前記検出手段の動作とを制御する制御手段と、を有し、前記制御手段は、前記検出手段に前記撮像を行わせている間、前記原版ステージおよび前記基板ステージの一方の位置偏差に基づいて前記原版ステージおよび前記基板ステージの他方を前記一方に追従させる。 （もっと読む）

【課題】より効率的に機能することができる基板ハンドラを提供する。
【解決手段】露光前に基板８を基板テーブル６上にロードし、露光後に基板８を基板テーブル６からアンロードするように適合されており、複数の独立した基板８，８を同時に搬送するように適合された少なくとも１つの支持面又はプラットフォーム１４、１６を含む、基板８をリソグラフィ装置の基板テーブル６に対して動かす基板ハンドラ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作でマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、複数の光源１２ａ〜１２ｄと、ミラーＭを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、複数の光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、複数の光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に露光する。 （もっと読む）

【課題】基板の両側にパターニングした層を設ける場合に、基板の上面に、基板の下面にあるアライメントマークと位置合わせされるパターンを投影可能にする。
【解決手段】表裏アライメント可能なリソグラフィ装置のキャリブレーション方法である。この方法は、複数のアライメントマークを有する基板を、アライメントマークがキャリアの方に向くように配置して、キャリアに取り付けることと、基板の厚さを減少させることと、装置のアライメントシステムを使用して、この装置の基板テーブル中の光学系によって形成されるアライメントマーク像の位置を測定することと、基板上の、アライメントマークの測定位置により決定されたパターンの位置に、パターンを投影することと、投影したパターンと基板の反対側に設けたアライメントマークの位置を測定し、基板の反対側に設けたアライメントマークの位置の測定を基板を通して放射を誘導するアライメントシステムによって行うことと、オーバーレイエラーを決定するために測定位置を比較することとを含む。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイをより使いやすくするシステム及び方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の個別制御可能素子アレイを較正するために使用される装置及び方法。較正ユニットは、変調された放射ビームを基板に投影する投影系に変調放射ビームが入射する第１状態と、変調された放射ビームの一部が較正ユニットにより検査される第２状態とを切り替えることができる。較正ユニットは、変調された放射ビームの検査結果に基づいて較正データを生成または更新する。アレイコントローラは、個別制御可能素子アレイの素子に制御信号を供給するために較正データを使用する。これらの素子はその制御信号に応答するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】 面を照明する装置、特にたとえばリソグラフィの用途のためにマスクを照明する装置を提供する。
【解決手段】 本発明は面を証明する装置に関する。該装置は、照明のために利用することができる光３を生成するための少なくとも１つの光源１と、前記少なくとも１つの光源１で生成される光３を形成するための光学手段２と、照明に利用されるべき光３を互いに分離された複数の部分ビーム５に分割することができる分離手段４，４’，４”とを有し、それによりこれらの部分ビームは照明されるべき面を互いに間隔をおいて照明できるようになっている。さらに本発明は、作業領域に光を作用させる装置に関する。 （もっと読む）

【課題】 アライメント精度の高い分割露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクマーク２０の位置と基板マーク３０の位置が露光の際にオーバラップし、且つマスクマーク２０は基板マーク３０より大きく、露光光を遮光する。円形のマスクマーク２０の直径φＭと、円形の基板マーク３０の直径φＢは、φＭ＞φＢとなっている。またマスクマーク２０には、遮光膜が形成されている。 （もっと読む）

極端紫外放射ビームを供給するように構成された放射システムと、ビーム（２３）内に配置され、放射ビームの少なくとも一部を吸収するように構成されたアブソーバ（２４）とを含む、基板上にパターンを結像するための極端紫外線リソグラフィ装置（２０）である。アブソーバは、吸収ガスの流れを収容するように構成された容積を有する。この流れはビームに対して横断方向に向けられる。アブソーバは、極端紫外放射透過ビーム入射領域及び極端紫外放射透過ビーム出射領域を有する構造を含む。この装置は更に、ガスを容積内に注入するように構成されたガスインレットアクチュエータアレイ及びガスを容積から排出するように構成されたガスアウトレットアクチュエータアレイを含む。 （もっと読む）

【課題】個々のレンズの頂点部より高さの高い突起部を有するマイクロレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図に示すようなグレースケールマスク１を製造した。図は平面図であり、その中にレンズ対応部分２と突起部対応部分３とが形成されている。レンズ対応部分２の光透過率は１５〜４７％、突起部対応部分３の光透過率は０％、レンズとレンズの間の平坦部分に対応する部分の光透過率は４７％(レンズ部分の最大透過率と一致)である。即ち、レンズ頂点部は透過率が１５％で露光され、突起部は未露光となる。このグレースケールマスクを使用して前述のレジストを露光して現像したところ、レジストに形成されたレンズ頂点高さはレジストに形成された突起部高さより約５μm低くなった。これでも、レンズ保護の面からは十分実用になるＧＡＰである。 （もっと読む）