【課題】マスク上のパターンを高精度で基板上に投影露光する。
【解決手段】マスク１１に照明光を照射する照明光学系１０と、照明光を基板上に投影する投影光学系１２とを備えた露光装置において、マスクのパターン面に所定の第１曲面を形成させる第１保持体２１ａ，２１ｂと基板の結像面に所定の第２曲面を形成させる第２保持体２２ａ，２２ｂとを有し、第１曲面と第２曲面とを維持しつつ、マスク上のパターンを基板上に投影露光する。また、第２曲面は第１曲面に合わせて形成されるものとする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、光放出素子とその製造方法、およびこれを用いた露光装置に関し、より詳細には、光陰極を含む平面発光の光放出素子とこれを用いたレンズまたは鏡からなる光学システムを必要としない露光装置に関する。
【解決手段】 本発明は、第１光を放射する光源部と、光源部と大面積で接触する陰極基板と、陰極基板上に付着して構成され、反復的に多数の開口が構成された金属マスク層と、金属マスク層の表面に形成され、第１光を受光して電子を放出する光陰極と、陰極基板と対向する一面に離隔して構成された陽極基板と、前記陽極基板の下部に構成され、前記放出された電子が衝突すれば第２光を発光する蛍光体とを含むことを特徴とする平面発光の光放出素子を提供し、親環境的な無水銀平面光源装置を提供し、各種ミラーおよびレンズが不必要あるいは最小化された光学システムを有する。 （もっと読む）

【課題】安価な構成でしかもＤＭＤ（空間的光変調器）と基板の相対角度を精度良く設定することができるようにする。
【解決手段】回転の中心がＸＹ方向に移動自在の回転テーブル１３を設け、この回転テーブル１３に露光対象物である基板６を載置し、露光開始前にＹ軸に対して予め定める角度θだけ回転させておく。この状態で、基板６をＸＹ軸補完制御を行うことにより角度θ方向に斜行させながら時系列露光データに基づいてＤＭＤ３の各ミラーＭをオンオフ制御することにより基板６上にパターンを露光（描画）する。 （もっと読む）

【課題】微細なパターニングが可能であり、大量の現像液やエッチング剤等の薬液等を使用せず製造コストおよび環境負荷を抑制すること等ができ、さらにレーザ照射欠陥が生じない、回路パターンを有するガラス基板の製造方法、およびこれにより製造される回路パターンを有するガラス基板の提供。
【解決手段】ガラス基板１０上に薄膜層１２を形成した後、レーザ光２２をして、ガラス基板上に回路パターン２６を形成する工程と、ガラス基板上に、低融点ガラス２８を付着させる工程と、低融点ガラスを焼結して低融点ガラス層３２を形成し、さらに、ガラス基板と低融点ガラス層との間に、レーザ光の照射によってガラス基板に形成されたレーザ照射欠陥２４の厚さ以上の厚さを有する相溶層を形成する工程とを具備する回路パターンを有するガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】着色した放射線感光材料の層内に覆われた基板が、自身上に投影された放射線のパターン形成ビームを有するＣＣＤまたはＣＭＯＳイメージセンサの製造に使用する方法を提供する。
【解決手段】放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。これは、着色したレジスト１０の下にあるアラインメントマーク１０１上での位置合わせの困難を回避する。 （もっと読む）

【課題】パターン発生器へのデータ経路において必要とされるパターン・データを低減することによって、マスクのないリソグラフィ・システムの性能を向上させるシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】ビームにパターンを割り当てるように構成された個別に制御可能な素子アレイをプログラミングする方法及び装置である。例えば、この方法は、リソグラフィ装置においての使用に適し得る。この方法は、第１のパターンを表す第１のデータを生成する段階と、第２のパターンを表す第２のデータを生成する段階と、第１のデータを第１のバッファに書き込む段階と、第１のバッファから第１のデータを読み取って、第１のパターンを表示するために個別に制御可能な素子アレイをプログラミングし、並行して第２のデータを第２のバッファに書き込む段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】うねりや厚みの変動が大きい感光材料を用いた場合でもフォーカスレンジオーバーによるエラー発生を防止し、生産性を確保することができる露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】各露光ヘッド１６６の焦点調節範囲の中心位置をそれぞれＰ1〜Ｐ4としたとき、Ｐ1〜Ｐ4の平均となる焦点位置をＤ0とする。ステージ１５２上の感光材料１５０表面、すなわち被露光面５６の変動範囲Ｄ５６の中心位置、すなわち被露光面５６の基準面である図中Ｄ５６０を前記Ｄ0に一致させるようにステージ１５２をＺ方向すなわち光軸方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】 スループット低下を招くことなく感光基板のフォーカス位置を正確に検出することができる露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクＭと感光性基板Ｐとを走査方向に同期移動させて、投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ１１を介してマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光装置ＥＸにおいて、投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段５０，５２と、複数の位置検出手段により検出された感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段ＣＯＮＴと、面傾斜算出手段により算出された面傾斜と投影光学系を介して感光性基板に投影されるマスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段ＰＳＴとを備え、複数の位置検出手段は、感光性基板を露光する露光開始前に、基板の平面内の複数の異なる位置においてそれそれ計測を行い、相対位置補正手段は、復数の計測結果に基づいて相対位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】光の品質を損なわせることのない、フォトリソグラフィーシステムならびに他の光学システムにおいて光を減衰させる光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。 （もっと読む）

【課題】 デジタル画像の露光パターンにおける階段状の斜線を直線にすると共に角部を滑らかに形成しようとする露光装置を提供する。
【解決手段】 表面に感光材を塗布した被露光体７に対して光源から発射された露光光を照射して被露光体７上に所定の露光パターンを形成する露光装置であって、光源１から発射される露光光の出射方向前方に配設され、マイクロミラーをマトリクス状に配置して露光パターンに対応するデジタル入力信号に応じて各マイクロミラーの傾きを切り替えるマイクロミラーアレイ２と、マイクロミラーの反射光によって生成される露光パターンの像を被露光体７上に結像する結像レンズ３と、光源１と被露光体７との間の光路上に配設され、露光光の光軸を掃引する光軸掃引手段４と、各マイクロミラーの傾きの切り替え及び光軸掃引手段４の光軸掃引方向又は掃引量を制御する制御手段５とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 空間光変調素子と光学系とを有する複数の描画ヘッドを描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法において、環境温度変化よる描画ヘッドの相対的な位置関係の変化を減少させる。
【解決手段】 １つの描画ヘッド３０に複数の空間光変調素子３４ａ，３４ｂを設け、その複数の空間光変調素子３４ａ，３４ｂにより変調された光を共通の光学系３６，３７，３８を用いて描画面１２ａ上に結像するようにすることにより描画ヘッド３０の数を減らす。 （もっと読む）

【課題】 入射された光を転送された制御信号に応じて変調するマイクロミラーが多数配置された空間光変調素子を、描画面に対して所定の走査方向に相対的に移動させて描画を行う描画方法において、空間光変調素子の変調速度をより高速化して描画時間の短縮を図る。
【解決手段】 空間光変調素子を走査方向について複数のブロック領域Ａ〜Ｄに分割し、その複数のブロック領域Ａ〜Ｄ毎の制御信号を並列に転送する。 （もっと読む）

【課題】 ステージ速度を抑制することなく高分解能の露光を達成する。
【解決手段】 露光装置１００に構成されるＳＬＭ１０２における各マイクロミラー１０…は、選択配線８から選択信号が入力されている期間に駆動可能である。また、露光対象の感光材料の最高移動速度をｖ、マイクロミラー１０の駆動に要する最短時間をｔ、感光材料の移動方向における目標分解能をｒとして、ｒ／ｖｔの整数部分をＡとし、ＳＬＭ１０２における全マイクロミラー１０…をＡ個のグループに分け、グループ毎に別個の選択配線８が割り当てられ、同一グループに属する各マイクロミラーは各々同一の選択配線８に接続されている。 （もっと読む）

【課題】 マスクの回転補正値及びマスクステージの非走査方向の走り補正値を正確に算出することができる走査型投影露光装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージに配置された基準マーク８２と、基準マークとマスク上の走査方向の一端部に配置された第１マスクマーク８０との第１相対位置及び基準マークとマスク上の走査方向の他端部に配置された第２マスクマーク８１との第２相対位置を計測する計測手段と、計測手段により計測された第１相対位置及び第２相対位置に基づいて、マスクステージの走査方向と交差する方向の走り補正値を求める補正値算出手段と、補正値算出手段により算出された補正値に基づいてマスクステージの走り位置制御を行ないながらマスクステージを走査させる。 （もっと読む）

【課題】 投影位置のずれを正確に補正することができる走査型投影露光装置を提供する。
【解決手段】 千鳥状に配置された第１投影光学ユニットと第２投影光学ユニットとを有する投影光学系ＰＬに対して相対的に同期移動させて、マスクのパターンを感光性基板に投影露光する走査型投影露光装置において、基板ステージＰＳＴ上に配置された第１投影光学ユニット及び第２投影光学ユニットの配列を計測するための基準マークと、第１投影光学ユニットを用いた基準マークとマスク上に走査方向に交差する方向に配置された第１マスクマークとの相対位置の計測結果に基づく第１投影光学ユニットの配列情報、及び第２投影光学ユニットを用いた基準マークと第１マスクマークとの相対位置の計測結果に基づいて、第２の投影光学ユニットの配列を第１投影光学ユニットの配列情報を目標値として調整する配列調整手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】レンズ、ミラー、及び光学フィルタ等といった光学要素の諸症状による結像への悪影響を、光学装置の製作段階のみならず、製作後であっても緩和すること。
【解決手段】本発明は、光学要素として例えばコンデンサーレンズ２０や投影レンズユニット２６等のレンズを用いて結像面２８上に対象物の像を結像させる方法であって、レンズの厚み方向に直交する断面を、その断面の中心を中心として、光軸方向Ｐに対して直交するように回転させながら対象物の像を結像面２８上に結像させる。 （もっと読む）

【課題】パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。
【解決手段】本リソグラフィ装置は、パターン形成システムにより放射投影ビームにパターンを付与する。基板４は基板テーブル１で支持され、パターン付与されたビームをテーブル上の基板に投影する。基板移動制御システムは、基板をテーブル及び投影システムに対して所定方向に移動させる。テーブル及びビームに対する基板の位置は、移動制御システムにより決定される。移動制御システムは、基板と共に移動可能な少なくとも１つの位置調整マーク８と、投影ビームの走査時にはこの位置調整マーク８を基板と共に移動させ、投影ビームの走査後には位置調整マーク８を基板から持ち上げるように、位置調整マーク８を基板と接触配置する位置決め装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、感光基板の搭載する向きを変えることなく露光できるように、Ｘ方向又はＹ方向のどちらにも基板ステージと同期して走査が可能なマスクステージ部を備えた走査型露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 マスクステージに保持されたマスクのパターンを基板ステージに保持された感光基板上に走査しながら転写する走査型露光装置において、前記マスクステージ及び基板ステージを第一の方向及び該第一の方向に直交する第二の方向に走査駆動する複数の駆動装置と、前記複数の駆動装置を同期して制御する制御装置と、前記走査の方向を切換える切換え手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスク交換が不要で、しかもスループットが低下しない露光装置、露光方法およびそれに用いるフォトマスクを提供する。
【解決手段】この発明の露光装置は、所定波長の光を出射する光源１と、少なくとも二種類のパターンが所定のピッチで交互に配置されたパターンを有し、光源からの光が透過されるフォトマスク３と、フォトマスクと被露光対象との間に設けられ、フォトマスクのパターンを被露光対象に結像する光学系５と、フォトマスクのパターンが第一の位置で被露光対象に露光された時点でフォトマスクを第一の位置に対して所定のピッチだけ移動させるマスク移動機構４を含む。 （もっと読む）

【課題】 断面形状が円錐状のものや、先端部が丸みを帯びた形状の三次元微細構造体を一枚のＸ線マスクで形成することができる三次元微細構造体加工用Ｘ線マスク及びそれを用いた三次元微細構造体の加工方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるＸ線マスク１であって、Ｘ線吸収体６の断面がＸ線透過方向に対して均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、該Ｘ線吸収体６の投影部分へのＸ線透過強度を変化させて三次元微細構造体を加工する。 （もっと読む）