【課題】各半導体発光素子と各拡大レンズとの光軸調整を容易に精度良く行う。
【解決手段】レーザー光源６７とピンホール６３ａが設けられた遮光板６３とを有する光軸調整装置６０を用いて、光軸調整装置６０のレーザー光源６７から発生したレーザー光を、各拡大レンズ４３を通して光軸調整装置６０の遮光板６３へ照射し、レーザー光が遮光板６３のピンホール６３ａを通過する様に、各拡大レンズ４３を遮光板６３に対して位置決めした後、各半導体発光素子４２から発生した光を、各拡大レンズ４３を通して光軸調整装置６０の遮光板６３へ照射し、遮光板６３のピンホール６３ａを通過した光の強度が最大となる様に、各半導体発光素子４２を各拡大レンズ４３に対して位置決めする。そして、各半導体発光素子４２と各拡大レンズ４３とを、互いに位置決めした状態で一緒に設置する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に温調空気を吹き付けるノズルを簡単に吹き込みヘッダに取り付けることができるガラス基板温調用ノズル構造を提供する。
【解決手段】ガラス基板５０に温調空気を吹き付けるガラス基板温調用ノズル構造において、プレート１１に多数のノズル１２を一体に形成したプレートノズル１０を樹脂成形し、このプレートノズル１０を複数枚並べて支持すべく、その各プレートノズル１０の周囲を保持する支持枠２０を形成し、その支持枠２０の各枠部２５にシール材２７を介してプレートノズル１０を取り付け、その複数枚並べたプレートノズル１０を、支持枠２０を介して給気ボックス３１に取り付けたものである。 （もっと読む）

【課題】 ワーク基板に生じている歪み変形に極力対応するマスクパターン像を投影可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の露光装置は、ワーク基板１４に投影されるマスクパターン１３’の投影光路に設けられた平行平面板３１と、平行平面板３１の互いに交差する二辺により構成される角部３１Ａと角部３１Ａとの間の中間部を支点とする拘束部材と、平行平面板３１の各角部３１Ａに投影光路の光軸方向に加圧力を加えて拘束部材を支点にして平行平面板３１を歪み変形させる加圧部材とからなる歪み変形形成機構１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板に形成される未露光領域の面積を低減すること。
【解決手段】基板を露光する露光方法であって、第一パターンと、当該第一パターンの周囲に設けられる周辺パターンと、を有するマスクのうち、第一パターンを基板に複数回転写する第一転写工程と、基板のうち第一パターンが転写された領域から外れた領域に、第一パターンの一部及び周辺パターンを含む第二パターンを転写する第二転写工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】ランプの電極が磨耗してランプの発光点が移動しても、ランプの発光点を集光鏡の焦点に合わせて、露光光の強度の低下を抑制する。
【解決手段】ランプ３１を固定するクランプ７０と、クランプ７０を移動してランプ３１の位置を調整する調整機構、及び調整機構を駆動するモータを有する位置調整装置とを設け、光の強度を検出する検出装置４０を集光鏡３２の焦点の高さに設置する。検出装置４０により、ランプ３１から発生した光を集光鏡３２の焦点の高さで受光して、受光した光の強度を検出し、検出装置により検出した光の強度が最大となる様に、位置調整装置のモータを制御してクランプ７０を移動し、ランプ３１の発光点を集光鏡３２の焦点の位置に合わせる。 （もっと読む）

【課題】露光装置の輸送後及び長期メンテナンス後の再稼働を迅速に行う。
【解決手段】Ｚスライド４３の下面に圧縮コイルばね９１ａを設け、通常稼動時において、シーリングパッド７２とレベリングカップ８２のガイド面との間を高圧空気を介して高い剛性を維持したまま非接触状態で支持し、また輸送時及び長期メンテナンス時において、シーリングパッド７２への高圧空気の供給を停止した際に、圧縮コイルばね９１ａによるばね力によりシーリングパッド７２とガイド面とが接触するようにする。 （もっと読む）

【課題】 マスクレス露光工程で仮想のマスクを用いてレイヤ別にオーバーレイする方法を通してマスクレス積層露光を行うことができる整列方法を提案する。
【解決手段】 マスクレス露光で既存のマスク露光のマスクと同一の役割をする仮想のマスクという概念を導入し、既存のマスク露光の整列マークと同一の役割をする仮想のターゲットマークという概念を導入してレイヤ別にオーバーレイを行うことによって、マスクレス露光でも積層露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの強度分布を均一にして、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビームを受光して、受光した光ビームの強度を検出する検出装置（レーザーパワーメータ５１）を、チャック１０に取り付け、検出装置により、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの照射領域２６ａの一部の同じ面積の複数の検査領域２６ｂへ照射された光ビームを、検査領域２６ｂ毎に受光して、各検査領域２６ｂの光ビームの強度を検出する。そして、検出装置が検出した各検査領域２６ｂの光ビームの強度の違いに応じて、各検査領域２６ｂの光ビームの強度が同じになる様に、描画データを補正する。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う際に、所定のプロキシミティギャップの調整が容易な露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１２の一方の面に遮光部を有するマスクパターン１３が形成されたフォトマスク１１と、フォトマスク１１を保持するマスクホルダー１７と、フォトマスク１１とプロキシミティギャップを介して被露光部材２１を保持する試料ステージ２２と、露光光源３１とを有する露光装置１０であって、フォトマスク１１のマスクパターン１３を形成した面の遮光部にプロキシミティギャップを維持するための支持部材１５を設けるとともに、ガラス基板１２面の遮光部に対応する位置に固定磁石１６を設け、固定磁石１６と対向する試料ステージ２２の位置に固定磁石１６との吸着と反発の制御を行う回転磁石２３を設けている。 （もっと読む）

【課題】チップパターンを複数の領域に分け、各領域を別々に露光し繋ぎ合わせる分割露光を行なう際に、各領域間の繋ぎ合わせ精度を高精度にする。
【解決手段】分割パターン領域を露光する際に位置合せを行なうアライメントマークの形成を、先行の分割露光領域の外周近傍にＸ方向用Ｙ方向用を１対とするアライメントマークを少なくとも１対以上設け、後行の分割露光領域は先行の分割露光領域の外周近傍にある少なくとも１対のアライメントマークを含む重複領域を持ち、後行の露光領域から見た前記アライメントマーク座標で位置合せを行なうことを繰り返すことにより、チップパターンの全ての分割パターン領域用のアライメントマークを設ける。さらに、重ね合わせ層の露光において、高配置精度で設けた各分割パターン領域露光用アライメントマークに対して、ダイ・バイ・ダイ・アライメント法を用いて位置合せを行なう。 （もっと読む）

【課題】ストッパにより移動が制限された移動体をストッパから離間させる。
【解決手段】 ステージ復帰装置７０は、ステージ装置２０をストッパ５０から離間させる方向に駆動するエアジャッキ７２を有している。エアジャッキ７２に供給されるエアの制御は、メカニカルバルブ７３のスプール７８ｂの操作により行われる。スプール７８ｂは、Ｘ粗動ステージ２３Ｘが有するカムフォロア９０ａ、９０ｂに機械的に係合可能なカム８９ａ、８９ｂを有するレバー８６を含むバルブ操作機構７４により操作される。これにより、例えばＸ粗動ステージ２３Ｘの位置を検出するための電気的なセンサ類、メカニカルバルブ７３を操作するための電動アクチュエータ、上記センサ類、電動アクチュエータなどを制御するための制御系などを必要としない。従って、構成が簡単で低コストである。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】加湿器の加湿能力過多による結露を抑制し、かつ、加湿能力不足による制御不良を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】加湿エア供給装置３０は、気体３２を加湿する気化式加湿器３４と、気化式加湿器３４を通過する第１の気体の流量を制御する第１の流体制御機器３３ａと、通過しない第２の気体の流量を制御する第２の流体制御機器３３ｂと、気化式加湿器３４の加湿能力を可変する加湿能力可変機器３８、３９と、湿度検出部４５と、制御演算部４６とを有し、制御演算部４６は、湿度検出部４５が検出した加湿エア４１の湿度と、予め設定した目標湿度とに基づいて、第１及び第２の流体制御機器３３ａ、３３ｂを制御して第１及び第２の気体の流量比を調整し、第１の流体制御機器３３ａの操作量と、予め設定した目標湿度操作量に基づいて、加湿能力可変機器３８、３９を制御して気化式加湿器３４に導入される第１の気体の流量を一定とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明基板に加工を行う場合に、搬送や露光等を問題無く行うことができ、適切に加工を行うことができる透明基板の加工方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明基板１０、１５の加工方法であって、
前記透明基板１０、１５の表面上の全面を覆うように、光を反射する反射層２０を形成する反射層形成工程と、
前記反射層２０上に、レジスト層９０を形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層９０を露光によりパターニングし、開口部９１を形成するレジストパターニング工程と、
前記開口部９１にある前記反射層２０をエッチングにより除去する反射層部分エッチング工程と、
前記開口部９１にある前記透明基板１０を加工する透明基板加工工程と、
前記レジスト層９０を除去するレジスト除去工程と、
前記反射層２０の残りの部分を除去する反射層全面除去工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置上から基板を迅速に搬出する。
【解決手段】 基板搬出装置６０は、基板が載置された基板トレイ９０を吸着保持して、水平面に平行にスライドさせることにより、基板トレイ９０を基板ホルダ５０から搬出し、エア浮上装置６８上に載置する。また基板搬出装置６０では、基板トレイ９０が進行して来る前に予めエア浮上ユニット６８を、その上面が基板ホルダ５０に近い側が低くなるように傾斜させておき、基板トレイ９０の進行に応じて水平に姿勢を制御する。基板トレイ９０は、傾斜したエア浮上装置６８のガイド面に対して進入するので、基板ホルダ５０のエア浮上装置５５からエア浮上装置６８にスムーズに載り移ることができる。従って、基板トレイ９０を高速でスライドさせることができ、基板の搬出を迅速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】画像取得装置の焦点をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークに精度良く合わせて、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。
【解決手段】画像処理装置５０は、各画像取得装置により取得されたアライメントマークの画像と予め用意したアライメントマークの画像とを比較して画像認識を行い、各画像取得装置により取得されたアライメントマークの画像の画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値を検出する。主制御装置７０は、予め、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点位置を移動しながら、画像処理装置５０により検出された画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値の変化に基づいて、マスクのアライメントマークの位置又は基板の下地パターンのアライメントマークの位置を検出する際の各画像取得装置の焦点位置を決定する。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板にデバイスを効率的に製造できる露光装置を提供すること。
【解決手段】所定の円筒面に沿ってパターンを有するマスクを円筒面の円周方向に回転させつつパターンを基板に転写する露光装置であって、パターンのうち円筒面の第一領域に位置する第一部分パターンの像を第一投影領域に投影する第一投影光学系と、パターンのうち第一領域から円周方向に沿って間隔を置いた第二領域に位置する第二部分パターンの像を、第一投影領域と異なる第二投影領域に投影する第二投影光学系と、マスクの円周方向への回転に同期して、第一投影領域及び第二投影領域を経由するように基板を搬送する基板搬送装置と、を備え、搬送装置は、第一投影領域と第二投影領域との間における基板の搬送経路の経路長を調整する経路調整装置を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の光学式変位計を用い、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】チャック１０ａ，１０ｂを、ＸＹ方向へ移動及びθ方向へ回転する移動ステージに搭載する。複数の光学式変位計（レーザー変位計４２）によりチャック１０ａ，１０ｂの変位を複数箇所で測定し、移動ステージのθ方向の角度に応じて、光学式変位計毎に予め決定した補正値により、各光学式変位計の測定値を補正する。補正した測定値から、チャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きを検出し、検出したチャック１０ａ，１０ｂのθ方向の傾きに応じて、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂをθ方向へ回転して、基板１のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】帯状の基板に表示素子を効率的に製造できること。
【解決手段】本発明の態様にかかるマスク移動装置は、パターンを有するマスクを保持して該マスクを移動させるマスク移動装置であって、円筒状に形成され、所定の円筒面に沿って前記マスクを保持する保持部と、前記円筒面の円周方向に沿って前記保持部を回転させる駆動部と、を備え、前記保持部は、前記保持部が保持する前記マスクの前記パターンを前記保持部の内側に露出させる第一開口部と、前記第一開口部と対向し、前記パターンから前記第一開口部を介して前記保持部の内側に発した光を前記保持部の外側へ通過させる第二開口部と、が形成されている。 （もっと読む）