【課題】個別に制御可能な要素のアレイ及びデータ処理パイプラインを備えるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】個別に制御可能な要素のアレイは、放射線のビームを変調する。データ処理パイプラインは、要求された線量パターンの第１の表現を個別に制御可能な要素のアレイを制御するのに好適な制御データのシーケンスに変換し、基板上に要求された線量パターンを実質的に形成する。データ処理パイプラインは、オフライン前処理デバイス及びオンライン・ラスタライザを備える。オフライン前処理デバイスは、要求された線量パターンの第１の表現を、第１の表現よりも少ないオペレーション回数でラスター化できる中間表現に変換する。 （もっと読む）

【課題】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分を複数の直線で近似する際、円の半径に応じた分割角度を簡単な処理で高速に決定する。
【解決手段】基板に描画するパターンの図形の円の弧で構成された部分について、当該円の半径と、所定の半径の円において、円の弧を複数に分割し、分割した各弧の始点と終点を直線で結んで、円の弧を複数の直線で近似したときの近似誤差を、分割角度毎に予め求めたデータとから、近似誤差が許容値以下となる様に最大分割角度を決定し、決定した最大分割角度以下の分割角度で分割し、分割した各弧の始点と終点を結んだ複数の直線で近似して、基板に描画するパターンの図形のベクターデータを作成する。作成したベクターデータから、基板に対し光ビームの照射を開始する位置と、光ビームの照射を終了する位置とを演算で求めて、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する描画データを生成する。 （もっと読む）

【課題】露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光の照射位置よりも上流側にアライメントマーク形成部１３が設けられており、露光対象部材２に移動方向に対して断続的な指標が付されたアライメントマーク２ａを形成する。検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向におけるアライメントマーク２ａの指標位置における位置を検出する。そして、検出部１４の検出結果によりアライメントマーク２ａの蛇行量を演算し、アライメントマーク形成部１３を移動させる。又は、検出部１４が露光光の照射位置に対応するように配置されている場合は、マスク１２の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、その直後にプライミングローラ１４に所定の回転角で往復の回転運動を行わせてから、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。次いで、プライミングローラ１４の回転速度を一気に上げて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれるようにレジスト液Ｒの液膜を切り離し、切り離した後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ₁を所定の待機用回転角位置へ着かせる。 （もっと読む）

【課題】露光対象部材が連続的に供給される場合においても、マスク位置調整用のアライメントマークを露光対象部材の蛇行に応じて変化させ露光対象部材に対するマスクの位置を精度よく調整することができ、高精度で安定的な露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光対象部材２の搬送方向における露光光の照射領域よりも上流側に第１マーク形成部１７が設けられており、蛇行検出用マーク２ｂを検出し、検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向の蛇行検出用マーク２ｂを検出し、これに基づいて演算された露光対象部材２の蛇行量を打ち消すように、アライメントマーク形成部１３を移動させ、アライメントマーク２ａを露光対象部材２に対して相対的に直線状に形成する。 （もっと読む）

【課題】熱膨張による浮きの発生を防止することにより、大型の平板状基板を均一に加熱する方法と装置を提供する。
【解決手段】平板状基板を均一に加熱する基板加熱装置１であって、少なくとも、前記平板状基板３を載置して接触させることにより前記平板状基板３を加熱するための加熱プレート２と、前記加熱プレート２を包含して覆うことができるカバー４と、前記加熱プレート２とカバー４を制御することができる制御装置と、を備えており、前記加熱プレート２は、少なくとも前記平板状基板３を支えるための複数のワーク受けピンと、それらのワーク受けピンを前記制御装置で制御することができる駆動機構と、前記加熱プレート２を前記制御装置で制御することができる加熱機構と、を備えていることを特徴とする基板加熱装置。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズアレイによる露光位置を調整することができ、露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止し、重ね露光における露光パターンの精度を向上させる。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２は４枚の単位マイクロレンズアレイ２−１等の積層体であり、一部の単位マイクロレンズアレイの光軸を他の単位マイクロレンズアレイの光軸から偏倚させることができる。スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。不一致の場合に、マイクロレンズ２ａの光軸を偏倚させてマイクロレンズアレイによる投影パターンの倍率を調整する。 （もっと読む）

【課題】対象物に対するパターンの描画位置を高い精度でコントロールできる技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、光学ヘッド部から、光学ヘッド部に対して相対的に移動する対象物（例えば、基板）に対して光を照射して、基板Ｗにパターンを描画する。ここで、光学ヘッド部が、光源からの光を、パターンデータに基づいて空間変調する空間変調ユニット４４と、空間変調ユニット４４において空間変調された光の経路を、空間変調ユニット４４の空間変調の単位（具体的には、例えば、空間光変調素子４４１１の画素単位）よりも細かい精度でシフトさせる光路補正部４５とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、対象ワークの位置姿勢制御を極めて高い精度で行うことができる載置ステージを提供する。
【解決手段】露光光が結像されて所定のマスクパターンが露光される対象ワーク２２の基準平面に対する位置および姿勢を制御する載置ステージ３０である。基準平面に対して固定的に設けられたベース部材３１と、基準平面に沿う第１方向（Ｙ軸方向）に移動可能にベース部材３１上に設けられた第１駆動機構（３２）と、第１駆動機構により支持される第１スライダ（３３）と、基準平面に沿いかつ第１方向に対して傾斜する第２方向（Ｘ軸方向）に移動可能に、第１スライダ上で第１方向に間隔を置いて対を為して設けられた２つの第２駆動機構（３４）と、各第２駆動機構により個別に支持される２つの第２スライダ（３５）と、対象ワーク２２を載置すべく両第２スライダを第１方向に架け渡して基準平面に沿って設けられた平面調整板（３６）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】照度計のバラツキを抑えることにより各光源間の照度を一定にすることにより、露光むら無く高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１の光源制御部１５aは各照度計５０からの照度信号を基準照度計６０により検出された基準照度に応じて補正する微分器１５ｂを有する。基準照度計６０により各照度計５０のバラツキを抑えることにより各照射部１４間の照度を一定にすることにより、露光むらを無くし高精度に露光を行う。 （もっと読む）

【課題】プログラマブルアレイを用いたリソグラフィ装置において均一な放射線量で露光する方法を提供する。
【解決手段】個々に制御可能な素子を使用してパターンを形成した放射線のパターン形成ビームを、基板の目標部分に投影する場合、（ａ）各ピクセルが、予め決定した標準的最大線量を超えない放射線線量を、露光ステップで目標部分に送出するように、素子を通常通りに制御し、（ｂ）少なくとも１つの選択されたピクセルが、標準的な最大線量より多い増加した放射線線量を送出するように、素子を例外的に制御する。増加した線量は、アレイの既知の位置にて欠陥がある素子が選択されたピクセルに隣接するピクセルに及ぼす効果を補償するように送出する。さらに、既知の欠陥がある素子の影響を受けたピクセルによって、その位置の露光で生じた選択ピクセルの位置での目標部分の露光不足を補償する。 （もっと読む）

【課題】照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画制御部７１は、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて、光ビームが照射される領域が収縮又は拡張する様に描画データを補正して、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する。第１のメモリ７６ａは光ビームが照射される領域を収縮する位置を指定するデータを記憶し、第２のメモリ７６ｂは光ビームが照射される領域を拡張する位置を指定するデータを記憶する。変換回路７７ａは第１のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換し、変換回路７７ｂは第２のメモリに記憶されたデータに従って描画データを変換する。選択回路７８は、変換回路７７ａにより変換された描画データ、変換回路７７ｂにより変換された描画データ、または変換前の描画データのいずれかを選択する。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大型化することなく、Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光の双方を選択的に出射可能である露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１からの露光光が入射されこれをＰ偏光の直線偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光に分割する偏光ビームスプリッタ１５が設けられている。そして、この偏光ビームスプリッタ１５は露光光の光軸を回転中心として回転可能に設けられていると共に、その回転中心に対する反射透過面の方向が９０°相違する第１の位置と第２の位置とに設定可能に構成されている。そして、偏光ビームスプリッタ１５の位置を第１の位置と第２の位置とで切り替えることにより、Ｐ偏光及びＳ偏光の直線偏光の露光光の双方を選択的に出射可能である。 （もっと読む）

【課題】生産性に影響を与えずに露光ステージ及びフォトマスクの温度変動を抑制し、製品のトータルピッチの精度や転写精度のバラツキを低減させる露光方法及び露光装置を提供するものである。
【解決手段】被露光基板を保持するステージと、該ステージの上面にマスクを着装するマスク着装手段と、該マスク着装手段の上面に平行光を照射する露光手段と、マスクを位置合わせするアライメント手段と、アライメント手段にステージを連動させるステージ連動手段と、を具備する露光装置において、露光装置内の被露光基板の有無により、被露光基板への露光待機状態を確認する待機状態確認手段と、露光待機状態直前の露光からの経過時間を計測する経過時間測定手段と、計測に基づいて露光待機状態に露光するインターバル露光の間隔の設定をする露光間隔設定手段と、インターバル露光を実行するインターバル露光手段を具備することを特徴とする露光装置である。 （もっと読む）

【課題】パターン形成のタクトタイムの短縮を実現し、ＰＤＰ製造のトータル的低コスト化が可能な白黒二層構造のバス電極パターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る白黒二層構造のバス電極パターン形成方法は、基材上に、耐熱顔料を含む塗膜を形成する工程と、上記塗膜の上に、導電性粉末を含む塗膜を形成し、二層塗膜を得る工程と、上記二層塗膜に対し、レーザー照射によりパターンを描画するレーザー照射工程と、上記パターン以外の部分を除去する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電部をパターン状に形成し、これに対応するようにパターン状の機能層を積層する際に、精度良くアライメントすることが可能なアライメントマーク付き基板を提供する。
【解決手段】基板１１と、上記基板１１上に形成され、表面に凹部状に形成されたアライメント用凹部１３を有するアライメントマーク層１２と、を有することを特徴とするアライメントマーク基板１０で、アライメントマーク層１２上に透明電極または透明半導体等の透明導電部２１を形成し、さらに透明導電部２１上に機能層２２を形成する際に、アライメント用凹部１３を基準とすることにより上記透明導電部２１が透明なものであっても正確にアライメントすることができる。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルカラーフィルター等の樹脂フィルムにパターンを形成する技術において、パターンのトータルピッチ、および座標位置精度は非常に重要である。しかし同時に、ガラス材に比べて精度が出しにくいという欠点を持つ。
【解決手段】本発明は、樹脂フィルムが熱や応力に敏感であることを逆に利用し、樹脂フィルムに歪みを発生させることによって、トータルピッチ、座標位置精度を向上させるものである。具体的には、多孔質からなる吸着ステージに分割ブロックを複数個配置し、これらのブロックに独立の応力、または熱を印加することによって、多孔質吸着ステージに歪みを発生させ、これによって、吸着される樹脂フィルムに所望の歪みを発生させるものである。この吸着ステージを利用することによって、歪んだパターンの座標位置を設計値に近づけることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線を偏向するための電極対の数の多さ、偏向の高速性、および製造の容易性の点で有利な電極対アレイ板を提供すること。
【解決手段】 複数の荷電粒子線をそれぞれ偏向するための複数の電極対（３０３）を含む電極対アレイ板（１２３）は、複数の配線層を含む積層体（３００ａ、３００ｂ）と、該積層体に形成されて前記複数の荷電粒子線がそれぞれ通過する複数の貫通孔（３０２）と、を含み、積層体は、複数の貫通孔にそれぞれ１対ずつ形成された複数の電極対を含み、複数の電極対は、積層体の異なる複数の層にわたって、その各層に電極対のアレイを含み、複数の層のアレイは、複数の配線層のうち互いに異なる一部の配線層にそれぞれ接続されている、ものとする。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル電極層を下面にしてカラーフィルターを形成する時に搬送面であるタッチパネル有機膜面の傷や汚れの発生を無くすことを可能とする搬送用コロを提供する。
【解決手段】静電容量型のタッチパネル電極層とカラーフィルタ層が同一ガラス基板の表裏に形成されるタッチパネル基板の製造工程において、前記タッチパネル電極層を形成した後にカラーフィルタ層を形成するために、タッチパネル電極層を下面にしてガラス基板を載置し搬送する搬送用コロであって、回転ローラと、前記回転ローラの外周面に備えられ透明樹脂により構成された搬送材と、を備えたことを特徴とする搬送用コロ。 （もっと読む）

【課題】ワークチャックの経路出口における熱媒体の温度が所定になるように冷却水の流量を制御し、ワークチャック各部の温度を均一にして、分割逐次露光においても高精度で基板を露光することができる露光装置を提供する。
【解決手段】蓄圧器８０を接続したワークチャック２０に設けられ、並列接続されて熱媒体Ｗを通過させる複数の熱媒体流路２１，２２，２３と、これらの熱媒体流路の出口側にそれぞれ設けられ、熱媒体Ｗの出口温度Ｔｗｏ１，Ｔｗｏ２，Ｔｗｏ３を測定する温度センサ３１，３２，３３と、複数の熱媒体流路２１，２２，２３にそれぞれ設けられ、これらの熱媒体流路を通過する熱媒体Ｗの流量Ｇｗ１，Ｇｗ２，Ｇｗ３を制御する流量調整機構４１，４２，４３と、を備え、これらの温度センサにより測定される熱媒体Ｗの各々の出口温度に基づいて、流量調整機構が熱媒体Ｗの流量を制御し、ワークチャック２０の温度を所定の温度に調整する。 （もっと読む）