【課題】複数の半導体発光素子を用いて露光光を形成する際、露光光の強度を一定に保ちながら、各半導体発光素子の寿命を均一化する。
【解決手段】露光光照射装置３０から照射される露光光の強度を検出すると共に、各半導体発光素子４２の温度を検出する。各半導体発光素子４２の温度の検出結果に基づき、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の点灯時間を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の点灯時間より長くし、または、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の駆動電流を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の駆動電流より大きくして、検出した露光光の強度の変化を補う。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンによるマスクの有無の誤検出を防止するとともに、マスクがマスクストッカー内のマスク受けに正常に搭載されていることを確認して、マスクの搬入又は搬出時のマスクの破損を予防する。
【解決手段】マスク２を収納するマスクストッカー４０に、マスク２の下面の縁を支持するマスク支持部４４ａと、マスク支持部４４ａより盛り上がったマスク落下防止部４４ｂとを有する複数のマスク受け４２を設ける。少なくとも１つのマスク受け４２のマスク支持部４４ａに、マスク２の下面への接触の有無によりマスク２の有無を検出するマスク検出機構５１，５２，５３，５４，５５，５６を設ける。マスク検出機構の検出結果に基づき、マスク２を載せるハンドリングアーム３１を有するマスク搬送装置３０により、マスク２を複数のマスク受け４２に搭載し、またマスク２を複数のマスク受け４２から持ち上げる。 （もっと読む）

【課題】被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行う。
【解決手段】被加工体をエッチングする際のエッチング条件に基づくサイドエッチング幅αを設定し、膜パターンのライン幅Ｗ_Ｌ、スペース幅Ｗ_Ｓのそれぞれと、サイドエッチング幅αとに基づき、レジストパターンのライン幅Ｒ_Ｌとスペース幅Ｒ_Ｓとを設定し、決定したライン幅Ｒ_Ｌとスペース幅Ｒ_Ｓをもつレジストパターンに基づき、露光の際の露光条件、及び転写用パターンのライン幅Ｍ_Ｌとスペース幅Ｍ_Ｓを決定し、かつ、転写用パターンのライン幅Ｍ_Ｌは決定したライン幅Ｒ_Ｌと異なり、転写用パターンのスペース幅Ｍ_Ｓは決定したスペース幅Ｒ_Ｓと異なる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の処理能力を大きく損なうことなく、重ね合わせ精度を向上させる方法及び装置を提供する。
【解決手段】露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。基板１０が露光及び位置合わせユニット１５の真下で走査を受けるとき、基板のそれぞれの部分が最初に検出器ユニット１６の下方を通過し、次いで露光ユニット１７の下方を通過する。したがって、基板１０のそれぞれの部分に関して検査器ユニット１６によって測定された、直線位置、配向、及び膨張に関する情報が露光ユニット１７に伝達可能であり、基板が露光ユニット１７の真下を通過しながら基板が露光されるとき、基板の当該部分に関する露光条件を最適化することができる。 （もっと読む）

【課題】被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行う。
【解決手段】被加工体をエッチングする際のエッチング条件に基づくサイドエッチング幅αを決定し、サイドエッチング幅αと、膜パターンのライン幅Ｗ_Ｌ、スペース幅Ｗ_Ｓとに基づき、転写用パターンのライン幅Ｍ_Ｌ、スペース幅Ｍ_Ｓを決定し、更に、決定したライン幅Ｍ_Ｌ、スペース幅Ｍ_Ｓの転写用パターンをもつフォトマスクを用いた露光と、エッチングとによって、被加工体に、ライン幅Ｗ_Ｌ、スペース幅Ｗ_Ｓのライン・アンド・スペースの膜パターンが形成されるように、露光時に適用する露光条件と、半透光膜の光透過率とを決定する。 （もっと読む）

【課題】高出力でかつ品質の安定したパターン露光装置を提供する。
【解決手段】平行光ビームとワークとを相対的に移動させ、前記平行光ビームにより前記ワークにパターンを露光するパターン露光装置において、前記平行光ビームを主走査方向に走査させる主走査手段と、前記ワークを副走査方向に走査させるステージと、前記平行光ビームを出射するための、活性層に沿う方向が前記主走査方向に対して垂直であるマルチモードの半導体レーザとを備え、前記ワークの任意の露光箇所を前記平行光ビームで露光することを特徴とするパターン露光装置。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システムを提供する。
【解決手段】照明システムは、ミラー配列１４０によって反射される光の角度分布を変更するための互いに独立に変位可能な複数のミラーユニット１４１，１４２，１４３を有するミラー配列１４０と、異なるミラーユニット上に入射する少なくとも２つの異なる偏光状態を生成するために、光伝播方向にミラー配列１４０の前に配置された少なくとも１つの要素１３０とを含む。 （もっと読む）

【課題】下地パターンに対して描画パターンを高精度に重ねて描画する。
【解決手段】描画パターンを記述した露光量情報を有する設計データに対して２種類のラスタライズ処理を実行して２種類の描画データＤ２Ａ，Ｄ２Ｂを生成している。つまり、上記設計データがラスタライズ開始位置Ａよりラスタライズされて第１の描画データＤ２Ａが生成されるのみならず、ラスタライズ開始位置Ａに対し、画素ＰＸのＸ方向の画素サイズよりも小さなシフト量だけＸ方向にシフトしたラスタライズ開始位置Ｂより上記設計データがラスタライズされて第２の描画データＤ２Ｂが生成される。そして、各ブロックパターンの位置ズレを補正するための補正量に応じた描画データによりブロックランレングスデータを補正し、当該ブロックランレングスデータに基づき描画処理が実行される。このように、画素サイズよりも細かいシフト量で描画位置が補正される。 （もっと読む）

【課題】露光装置において、マスクと基板との距離の変動を抑制しつつ、基板のたわみを補正できる露光装置を提供することにある。
【解決手段】第１のねじ１３３及び第２のねじ１３４により、固定部１２６Ａに対して可動部１２６ＢをマスクＭの面と平行な方向（水平方向）に駆動するので、上下方向における固定部１２６Ａに対する可動部１２６Ｂの変位を抑制し、それによりマスクＭと基板Ｗとの距離の変動を抑制しつつ、マスクＭのたわみを補正することができるため、マスクＭのアライメントマークを観察するカメラや、パターンを隠すアパーチャなどの再調整が容易になったり、或いは不要になる。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに形成された感光膜の所定領域に対し、その膜厚に基づいて照射すべき目標照度を求めるステップと、前記所定領域に照射可能な少なくとも一つの発光体を特定するステップと、前記特定した一の発光体ＧＲについて、該発光体に隣接する他の発光体が前記所定領域に照射可能な場合に、該他の発光体の発光による干渉光の照度を前記目標照度から差し引き、当該算出された値を補正後の設定照度とするステップと、前記補正後の設定照度に基づき駆動電流値を決定し、該駆動電流値により前記一の発光体を発光させるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】描画対象物におけるパターンの形成位置の制御を簡便な構成で可能として、コストの低減を図る。
【解決手段】基板Ｗを支持するステージ１０に固定的に形成された複数の基準線Ｌrが副走査方向Ｘに並んでいる。また、光学ヘッド４２、４３との相対位置関係が固定された状態で基準線Ｌrに対向するラインカメラ５０が設けられており、このラインカメラ５０によって基準線Ｌrを撮像する。このように、副走査方向Ｘに並んで形成された基準線Ｌrをラインカメラ５０で撮像するといった構成を備えることで、エンコーダを用いた従来技術と比較してより簡便な構成によって、基板Ｗに形成されるパターンの副走査方向Ｘへの位置を制御することができる。その結果、コストの低減を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】大型のフィルム基板を露光チャックに平坦に搭載して、露光品質を向上させる。
【解決手段】各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を上昇させて、フィルム基板１を露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２から持ち上げる。露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２の表面にそれぞれ設けた複数の気体吹き出し孔１４から気体を吹き出して、フィルム基板１を浮上させながら、各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を移動して、フィルム基板１を補助チャック１１から露光チャック１０へ搬送し、またフィルム基板１を露光チャック１０から補助チャック１２へ搬送する。そして、各フィルム基板搬送装置３０，４０のアーム３１，４１を下降させて、フィルム基板１を露光チャック１０、補助チャック１１及び補助チャック１２に搭載する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、、製造しようとする基板に応じて補正の方法を選択できるようにして、後工程や用途等の使用形態に適合するように描画データの補正をおこなうことができる描画データの補正装置および描画装置を提供する。
【解決手段】 描画データの補正装置において、補正方法選択手段は、入力される補正情報に応じて複数のデータ補正手段を選択して使用して、位置決めマークの位置情報に基づいて描画データの補正を行う。描画装置は、その補正した描画データＤＤにより基板に描画を行う。 （もっと読む）

【課題】 光学系の設計を複雑にせず安定した重ね合わせ描画を行うための描画装置および描画方法。
【解決手段】 撮像部５０と光照射部４０とを備え、撮像された画像と撮像時のステージ１０の移動誤差とから基板の変形に起因する下層パターンの位置ずれ量を算出する。次に撮像後から照射時までの間にステージ１０の移動誤差を検出することで、検出時の移動誤差と光ビームが照射される照射時の実際のステージの移動誤差との差分である相対誤差の変動幅を小さくすることができる。そして、検出された移動誤差と下層パターンの位置ずれ量とを加算し上層パターンの形成位置を算出する。該位置に基づいて光ビームを照射することでステージ１０の移動誤差に起因した位置ずれに対しても、光学系を複雑にすることなく安定した重ね合わせ描画を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】２つのノズルを用いることによって基板の塗布処理にかかるタクトタイムを向上し、且つ、かかるコストを抑制する。
【解決手段】基板搬送方向に沿って前後に配された第１のノズル１６と第２のノズル１７とを保持するノズル保持手段１２と、前記ノズル保持手段を基板搬送方向に沿って移動させるノズル移動手段１１と、前記第１のノズル及び前記第２のノズルの駆動制御と前記ノズル移動手段の駆動制御とを行う制御手段４０とを備え、前記制御手段は、前記第１のノズルと前記第２のノズルが基板搬送路上の同一の塗布位置に配置されるよう前記ノズル移動手段を制御し、該ノズル移動手段により前記ノズル保持手段を移動させ、前記同一の塗布位置に配置された前記第１のノズルと第２のノズルのいずれか一のノズルにより前記基板に処理液を吐出させるよう制御する。 （もっと読む）

【課題】良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット１０は、マスクＭを保持するマスクステージ２１と、フラットパネルディスプレイ用基板Ｗ１，Ｗ２をそれぞれ保持する第１及び第２のワークチャック２２，２３を備える基板ステージ２４と、第１及び第２のワークチャック２２，２３に保持された基板Ｗ１，Ｗ２がマスクＭと対向するように、第１及び第２のワークチャック２２，２３を同期して移動可能なステージ移動機構２５と、マスクＭを介して基板Ｗ１，Ｗ２に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置１１と、基板Ｗ１、Ｗ２をそれぞれ保持し、且つ、第１及び第２のワークチャック２２，２３に対して基板Ｗ１，Ｗ２を搬入及び搬出可能な第１及び第２の搬送装置１２，１３と、基板Ｗ１，Ｗ２の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第１及び第２の搬送装置１２，１３を制御する制御部２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基本微細構造体同士を可能な限り近接させて、しかもこの基本微細構造体を高精度に位置決めした微細構造体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、表面に微細な凹凸パターンを形成した基本微細構造体３が基材２上で複数隣接して並ぶように配置した微細構造体１の製造方法において、前記凹凸パターンの反転凹凸パターン４ｂが形成された金型１１上で前記凹凸パターンを有する硬化樹脂からなる前記基本微細構造体３を成形する基本成形工程と、この基本成形工程で得られた前記基本微細構造体３を前記基材２に移動する移動工程と、を有し、前記基本成形工程と前記移動工程とを２回以上繰り返すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダを傷つけることなく、マスクをマスクホルダに取り付けることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１０は、供給される負圧によりマスクＭの縁部を吸着保持する吸着溝１４ａが形成されたマスクホルダ１４を有する。マスクＭがマスクステージ１０に保持される際、マスクホルダ１４とマスクＭとの間には、フィルム９０が挟持されている。 （もっと読む）

【課題】セカンド露光マスクによる露光の対象となる領域と対象とならない領域との境界で上側層のパターン形状の連続性が低下するのを防ぐ積層パターン基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ファースト露光マスク４０の中間遮光部４３の第１遮光部４１側の端部の幅ｃ_１は、積層パターン基板１０の第１上側パターン３１の幅ｗ_１よりも大きくなっている。また、セカンド露光マスク５０の中間遮光部５３の第１遮光部５１側の端部の幅ｆ_２は、積層パターン基板１０の第２上側パターン３２の幅ｗ_２よりも大きくなっている。これによって、第１上側パターン３１と第２上側パターン３２との間に、少なくとも各パターン３１，３２の幅以上の幅を有する中間上側パターン３３を形成することができる。このことにより、第１上側パターン３１と第２上側パターン３２との間にくびれが生じるのを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶装置の画素電極等のデバイスパターン９１ａをパターニング形成する際、デバイスパターン９１ａの間で第１方向Ｙに延在する第１境界領域９９ｇと重なる領域を選択的に露光する第１露光工程と、デバイスパターン９１ａの間で第２方向Ｘに延在する第２境界領域９９ｈと重なる領域を選択的に露光する第２露光工程とを行う。このため、デバイスパターン９１ａの第１辺部９１ｙは、第１露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成され、デバイスパターン９１ａの第２辺部９１ｘは、第２露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成される。 （もっと読む）