【課題】描画データの解像度やエンコーダのパルス信号の周期に依存することなく露光間隔を設定し、描画データの解像度で決まる露光間隔とエンコーダのパルス信号の周期で決まる露光間隔とのずれを小さくして、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量に応じたパルス信号を出力するエンコーダ３２を設け、エンコーダ３２のパルス信号からチャック１０と光ビーム照射装置２０との相対的な移動量を検出する。描画データの解像度よりも細かな解像度で基準座標を設定し、目標とする基準露光間隔に対して、描画データの解像度で決まる露光間隔及びエンコーダ３２のパルス信号の周期で決まる露光間隔を、基準座標上で演算して、チャック１０の位置座標を決定し、チャック１０の位置座標に応じた描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】複数のミラーを直交する二方向に配列した空間的光変調器を用い、多重露光を行って基板にパターンを描画する際、描画データの量を増やすことなく描画品質を向上させて、高速かつ高精細にパターンの描画を行う。
【解決手段】光ビーム照射装置（２０）の空間的光変調器（２５）の１つのミラーで反射された光が基板へ照射される領域と、他のミラーで反射された光が基板へ照射される領域が、光ビームによる基板の走査に伴って部分的に重なる多重露光を行って、基板にパターンを描画する。基板に描画するパターンの図形の座標データから、描画の要否を判定するサンプリング点を解像度の大きさの露光領域（２ａ）毎に周期的に変動させて、描画データを生成し、生成した描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（２７）へ供給する。 （もっと読む）

【課題】側壁スペーサを形成することなく、且つ、工程数を増やすことなく、自己整合的にＬＤＤ領域を少なくとも一つ備えたＴＦＴを提供する。また、同一基板上に、工程数を増やすことなく、様々なＴＦＴ、例えば、チャネル形成領域の片側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴと、チャネル形成領域の両側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴとを形成する作製方法を提供する。
【解決手段】回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の個別基板となる領域が形成された基板を露光する際に、短い露光タクトで高精度且つ高解像度の露光を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、光源１１とマスク１２とを透過した露光光が入射され、正立等倍像を基板上に結像させる複数個のマイクロレンズが所定の規則性をもって配置されたマイクロレンズアレイ１３が設けられている。そして、基板２が所定位置に到達したときに、光源１１からパルス的にレーザ光を照射して、基板を順次露光し、基板の露光対象領域の全域が露光された後、マイクロレンズアレイ１３とマスク１２との相対的な位置関係を、マイクロレンズ１３１の行ピッチだけ、列方向に順次切り替えて、次順の露光を行う。 （もっと読む）

【課題】複数枚の個別基板となる領域に跨ってポジレジスト材料が形成された基板を露光する露光装置において、個別基板となる領域間のポジレジスト材料を露光できる露光装置及び露光装置用マイクロレンズアレイ構造体を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光すべき複数個のパターンがスキャン方向に直交する方向に所定の間隔をおいて設けられたマスク１２に光源からの露光光３を透過させ、マイクロレンズアレイ１３の複数個のマイクロレンズ１３１ａによりパターンの正立等倍像を基板２上に結像させる。マイクロレンズアレイ１３は、マイクロレンズアレイチップ１３１が第２方向に接続されて構成されており、マイクロレンズアレイチップ１３１を支持する枠状のホルダ１３０には、マイクロレンズアレイチップ１３１間の位置に整合する位置に露光光透過用の開口１３２が設けられている （もっと読む）

【課題】光源部の交換が簡易であり、且つ冷却効率を高めることができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能なカセット８１と、を備え、カセット８１には、その前面側外周縁８３ｄに沿って複数の放熱フィン１０１が設けられる。 （もっと読む）

【課題】専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度よく基板を露光装置のワークチャックに搭載して、タクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及び基板のプリアライメント方法を提供する。
【解決手段】ロボット１７は、基板載置台２５で基板Ｗを保持して処理ユニット１４から露光装置１５に搬送する。基板載置台２５で保持されている基板Ｗは、センサ３０ａ，３０ｂ，３０ｃが、互いに直交する２辺２６、２７に設けられた切欠き２８ａ、２８ｂ、２９を検出し、この検出結果と所定の基準位置とから算出されるズレ量に基づいて、制御部１８が基板載置台２５をＸ，Ｙ，Ｚ方向に移動、且つθ方向に回転させて、基板Ｗをプリアライメントする。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板搬送路２の上方において、基板搬送方向に交差する方向に配列された複数の発光素子Ｌを有する光源４と、前記光源を構成する複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部９と、前記被処理基板が前記光源の下方を搬送されない状態で、前記被処理基板に対する前記光源からの光照射位置に沿って基板幅方向に進退可能に設けられ、前記光源により照射された光の照度を検出する照度検出手段３１と、前記照度検出手段が検出した照度と前記発光素子の駆動電流値との関係を相関テーブルＴ２として記憶すると共に、前記発光駆動部による前記発光素子の駆動を制御する制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ワークを搬送しながらマスクとワークのＸ，Ｙ，θ方向のズレをリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができるマスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたマスク側アライメントマーク４１は、Ｘ方向に対して互いに異なる角度α°、−α°でそれぞれ傾斜した２本の斜線部４２ａ，４２ｂと、Ｘ方向に沿って延びる直線部４３ａ、４３ｂとを有する。また、このマスクＭを使用して、近接スキャン露光装置１では、撮像手段によって検出されたマスク側アライメントマーク４１とワーク側アライメントマークＷａとのズレ量が、ワークＷの搬送中、ワーク搬送機構１０、マスク駆動部１２、照射部１４の少なくとも一つによって補正される。 （もっと読む）

【課題】装置全体の大きさを小さくすることができ、基板搬送系の長さを短くすることができ、これにより、搬送系を単独の装置で組み立てることができるスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】第１露光領域２２の光源３７は、露光光２５を、垂直方向から、基板搬送方向の順方向側に向けて傾斜させて出射し、反射部材３３で反射させて、露光光をこの反射部材３３よりも、基板搬送方向の上流側に配置されたマスク３１に、垂直方向に対し、基板搬送方向の上流側に向けて傾斜させた光として、照射する。第２露光領域２３の光源３８は、露光光２６を、垂直方向から、基板搬送方向の逆方向に向けて傾斜させて、出射する。露光光２５及び２６は相互に平行光として、基板１に照射される。 （もっと読む）

【課題】１つの露光用光源からの光を複数台の露光処理ブロックに効率良く供給して露光し、かつ、１枚の処理基板上に、複数のパターンを正確につなぎ合わせて露光する複合型露光装置を得る。
【解決手段】各露光処理ブロックが露光ブロック制御部と露光ステージ駆動機構とマスクステージ制御機構を有し、前記露光ブロック制御部が前記露光ステージ駆動機構と前記マスクステージ制御機構を制御することによりフォトマスクの位置に処理基板の位置を合わせるアライメント処理を行い、全体露光処理制御部が、露光ステージを複数位置にステップ送りし前記アライメント処理を行いつつ、前記露光用光源からの露光光を順次に切り替えて各前記露光処理ブロックの前記処理基板を露光する処理を行う。 （もっと読む）

【課題】搭載された高圧水銀ランプをフル・スタンバイ点灯する紫外線照射装置において、スタンバイ点灯からフル点灯に切り替えた直後に、所定の波長の範囲の積算光量が時間的に変動しない所望の紫外線を照射することができる紫外線照射装置を提供すること。
【解決手段】発光管内に水銀が封入され、管壁負荷が１０〜３０Ｗ／ｃｍ^２である高圧水銀ランプと、該高圧水銀ランプに供給する電力を、定格電力によって点灯させるフル点灯モードと、該フル点灯モードよりも低い電力によって点灯させるスタンバイ点灯モードとを切換可能に駆動できるランプ点灯装置とを備える紫外線照射装置において、前記フル点灯モード時の前記高圧水銀ランプより放射される波長５２５ｎｍの照度Ｉｆと、スタンバイ点灯モード時の該高圧水銀ランプより放射される波長５２５ｎｍの照度Ｉｓとの比をＩｓ／Ｉｆ（％）とし、Ｉｓ／Ｉｆが３０％以上、１００％未満であること。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の使用可能時間をより長く延ばすことによって、空間光変調器の交換の頻度を低減させる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０が備えるレーザ発振器４１から出射された光は照明光学系４３を介して導入された空間光変調器４４１に導入される。空間光変調器４４１は、全体反射面４２０ｆの一部である有効反射面ＥＲに入射した入射光Ｌ１を空間変調する。パターン描画が一定時間行われると、制御部９０の指示により、照明光学系４３が備える照明系フォーカスレンズ４３５の設置位置を変位させる。これによって、有効反射面ＥＲ上に入射する入射光Ｌ１の入射位置が変位して、有効反射面ＥＲ上に形成されていた入射領域ＮＲ１が、光が未照射である有効反射面ＥＲ上の領域にシフトされる。 （もっと読む）

【目的】並列処理する処理装置の一部で処理エラーが生じた場合でも効率よく描画データを処理する描画データ処理制御装置等を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画処理ユニット１１０は、ＨＤＤ１２４に記憶されている所定の描画領域毎に区切られた複数の描画データの処理を、互いに並列処理する複数の並列演算ユニット１３０のいずれかに順次割当てる割当て部１１６と、割当てられた並列演算ユニット１３０で処理エラーが生じた場合に、処理エラーが生じた並列演算ユニット１３０を次回以降の描画データ処理の割当て対象から切り離す切り離し部１１４と、を備え、割当て部１１６は、処理エラーが生じた描画データの処理を別の並列演算ユニット１３０に割当て直すことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空間光変調器の長寿命化を図るとともに、空間光変調器で空間変調された光が空気のゆらぎによる影響を受けることを抑える技術を提供する。
【解決手段】描画装置１００は、光学ユニット４０を備えている。光学ユニット４０は、主にレーザ発振器４１、照明光学系４３、三角プリズム４７、投影光学系４６、および空間光変調ユニット４４を備えている。レーザ発振器４１からの光が三角プリズム４７に入射し、光学面４７３で三角プリズム４７の内部に向けて全反射される。このとき、光学面４７３の外側で生成されたエバネッセント光を空間光変調器４４１が空間変調して、光学面４７３で反射される光の空間変調が行われる。空間変調された光は、大気圧よりも低い圧力環境に調節されたチャンバ５０に導入され、光は投影光学系４６を通って基板Ｗ表面に照射される。 （もっと読む）

【課題】最終的に希望する１パターン以上の露光面積分のマスクと、光源と、場所が必要になり、フィルム状製品の製造装置が大きくなる。
【解決手段】フィルム状製品の製造方法は、長尺状のフィルム９０を長手方向に搬送する搬送ステップと、予め定められた露光領域８０を露光する露光装置を用いて、前記フィルム９０を露光する露光ステップとを備え、前記搬送ステップおよび前記露光ステップにおいて、前記露光装置の前記露光領域における前記長手方向の長さよりも長く、切れ目なく前記フィルム９０を露光する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の解像限界よりも狭い線幅を有するラインパターンを形成可能な微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】エッチングの対象となる薄膜の上に、ネガ型のフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を減圧雰囲気下で乾燥する工程と、使用する露光装置における解像限界よりも幅が小さい露光光透過部を有するフォトマスクを用いて、乾燥された前記フォトレジスト膜に対し前記露光光を照射して当該フォトレジスト膜を露光する工程と、露光された前記フォトレジスト膜を現像して当該フォトレジスト膜からエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクを用いて前記薄膜をエッチングする工程とを含む、微細パターン形成方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】真空吸着によりワークを吸着保持するワークステージにおいて、中央部が凸に変形したワークであっても、その反りを矯正して全面で吸着保持できるようにすること。
【解決手段】ワークＷが搬送されると、ピン５ａが上昇し、ワークＷを受け取りピン５ａが下降する。これによりワークＷはワークステージ上４に置かれる。ピン５ａとともに鍔部材７も下降し、鍔部材７の下面が蓋部材６の上面に密着する。鍔部材７と蓋部材６が密着することにより、ワークステージ４の貫通孔４ｃは閉じられる。この状態で、真空吸着孔４ｂに真空が供給されると、ワークＷとワークステージ４の間の空間は減圧し、ワークＷはワークステージ４に吸着保持される。ピン５ａが下降したとき鍔部材７と蓋部材６により貫通孔４ｃが閉じるので、貫通孔４ｃを通って大気が流入せず、ワークＷが椀を伏せたように変形していたとしても確実にワークＷを吸着保持することができる。 （もっと読む）

【課題】露光光をＰ偏光又はＳ偏光の直線偏光に変換する部材が複数本の棒状の偏光変換素子により構成されている場合に、露光パターン形成用領域に未露光の領域が残ることを防止できる露光装置、偏光変換部材及びこれらを使用した露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置１は、露光光の照射位置に露光対象部材２を供給して前記露光対象部材上に形成された露光材料を連続的に露光する。露光装置１には、露光光を出射する光源１１、露光光を直線偏光させて透過させる偏光変換部材１５、及びマスク部１２が設けられている。偏光変換部材１５は、特定の直線偏光の露光光のみを透過させる複数個の棒状の偏光変換素子がその幅方向に接触し境界面が露光対象部材２の移動方向に対して傾斜するように配置されたものである。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＤ基板等を位置合せする基準となるアライメントマークを含んだ画像をテンプレートマークとして登録する作業を、位置合せの際の画像処理に必要な条件を理解していない者でも適正に行えるようにする。
【解決手段】制御部は、アライメントマーク３１を撮影した画像が表示されるモニターの画面上に、操作部の操作によってアライメントマーク３１をテンプレートマークとして登録枠２１を設定するためのグラフィカルユーザインタフェースを表示させる。そして、テンプレートマークとして登録枠２１を設定する際の操作ガイダンス２４をウィンドウ表示させ、登録枠２１内に含まれる画像を構成する画素のうち、最大の輝度を有する画素の輝度が所定の輝度値の範囲内となるように、登録枠２１に照射する照明の明るさを指示する操作ガイダンスをモニターの画面上にウィンドウ表示させる。 （もっと読む）