【課題】塗布膜の膜厚のバラつきを抑えること。
【解決手段】第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、第一浮上量よりも小さい第二浮上量で基板を浮上させる第二浮上部、を有し、第一浮上部と第二浮上部との間で基板を連続的に搬送する基板搬送部と、第二浮上部において第二浮上量で浮上する基板に液状体を塗布する塗布部と、第一浮上部と第二浮上部との間を移動する基板の浮上量を調整する浮上量調整部とを備える。浮上量緩和領域ＲＣは、塗布浮上領域ＴＣの上流側に設けられた上流側緩和領域（上流側調整部）ＲＡと、塗布浮上領域ＴＣの下流側に設けられた下流側緩和領域ＲＢとを有している。浮上量緩和領域ＲＣは、第一浮上部である基板搬入領域と第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣとの間、及び、第二浮上部である塗布浮上領域ＴＣと第一浮上部である基板搬出領域との間、でそれぞれ基板の浮上量が急激に変化するのを緩和する部分である。 （もっと読む）

【課題】自動的に基板上面の高さとマスク下面の高さとを測定して、基板とマスクとのギャップ分布を作業者のスキルに影響されることなく、精度よく求めることができる近接露光装置及びそのギャップ測定方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１側に配設されて基板上面の高さＨ_ｗを測定するマスク側変位センサ３１と、ワークステージ２側に配設されてマスク下面の高さＨ_ｍを測定する基板側変位センサ１５と、を備え、マスク側変位センサ３１、及び基板側変位センサ１５によってそれぞれ測定された基板上面の高さＨ_ｗと、マスク下面の高さＨ_ｍと、に基づいて、基板ＷとマスクＭとのギャップ分布を求める。 （もっと読む）

【課題】基板の露光転写と基板ステージへの基板のローディングとを同時に行い、タクトタイムの短縮を図ると共に、基板のローディング時に発生する振動が露光精度に及ぼす影響を排除して、高精度で露光転写することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥは、露光位置ＥＰと第１待機位置ＷＰ１間で移動可能な第１基板ステージ１１と、露光位置ＥＰと第２待機位置ＷＰ２間で移動可能な第２基板ステージ１２と、を備える。第１及び第２基板ステージ１１，１２は、基板保持部３１と、基板保持部３１の上面から進退自在に配置される複数のピン３２と、を有する。基板保持部３１と基板ステージ移動機構３９との間には、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を弾性支持可能な空気ばね４６と、基板ステージ移動機構３９に対して基板保持部３１を固定支持可能な電磁石４７と、振動計４８が配置される。 （もっと読む）

【課題】露光パターンの基準パターンからのずれが発生しても、露光中にこのずれを検出して、露光パターンの位置ずれを防止することができ、重ね露光における露光パターンの精度を向上させることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ２はその反転結像位置の６角視野絞り１２の一部を、６角視野絞りの開口面積より大きな円形絞り１８ａに変更する。スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ２により、マスクの露光パターンが基板１上に投影される。このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。この場合に、円形絞りは６角視野絞りよりも開口面積が広いので、基板上の画像を広範囲に観察できる。 （もっと読む）

【課題】画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさが異なる複数の露光対象部材を露光する場合においても、画素数、絵素数及び／又は露光パターン形成用領域の大きさに対応させてマスクを取り換える必要がない露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１には、露光光源１１、コンデンサレンズ１４、マスク１２が設けられており、露光光源１１から出射した露光光をコンデンサレンズ１４及びマスク１２に透過させる。マスク１２と露光対象部材２との間の露光光の光路上には、露光対象部材２における露光光の照射領域の大きさを調節可能なズームレンズ１６が設けられている。露光装置１には、必要に応じて、フライアイレンズ１３、偏光変換素子１５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域にフォトリソグラフィ技術により感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置において、透光膜８、反射防止膜９０および感光性樹脂層８０をこの順に形成した後、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇの第１傾斜端面１０ｉを含む樹脂層除去予定領域に露光を行い、その後、現像して、透光膜８に対するレジストマスクを形成する。露光の際、露光光は、第１傾斜端面１０ｉを通って電気光学装置用基板１０ｓの内部に進入した後、第２傾斜端面１０ｊで反射して感光性樹脂層８０のうち、露光すべきでない部分に向かって進行しようとするが、かかる露光光については反射防止膜９０により吸収される。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂより前の光ビームの光路内に補正用ミラー５３を設け、各光ビーム照射装置２０に補正用ミラー５３の角度を調節する調節手段を設け、各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器のミラー２５ａの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置２０の調節手段により各光ビーム照射装置２０の補正用ミラー５３の角度を調節して、各光ビーム照射装置２０の照射光学系２０ｂへ入射する光ビームの光路を補正する。 （もっと読む）

【課題】現像液を供給するときの基板搬送速度と、現像液を除去するときの基板搬送速度とを制御し、レジストパターンを均一化するレジスト現像装置を提供する。
【解決手段】現像ユニット３０は、露光されたレジスト膜を有する基板Ｓを搬送する第１搬送機構、第１搬送機構で搬送される基板Ｓの表面に現像液を供給する供給ノズル５０を有する現像液供給部３０Ｂ、現像液で表面が覆われた基板Ｓを搬送する第２搬送機構を有する現像部３０Ｃ、気体を吐出して基板Ｓの表面を覆う現像液を吹き切るブローノズル５１、およびそれに向けて基板Ｓを搬送する第３搬送機構を有するブロー部３０Ｄ、現像液が吹き切られた基板Ｓの表面にリンス液を供給するリンス液供給ノズル５３を有するリンス部３０Ｅ、第１搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度、第３搬送機構に搬送される基板Ｓの搬送速度とが異なるように第１および第３の搬送機構を制御する制御部６０とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。
【解決手段】チャックと、光ビームを供給する照明光学系２０ｃ、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器２５、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路２７、及び空間的光変調器２５により変調された光ビームを照射する照射光学系２０ｂを有する複数の光ビーム照射装置２０とを、相対的に移動し、複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する。各光ビーム照射装置の空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきに応じて、各光ビーム照射装置の空間的光変調器へ供給する光ビームの入射角度を調節する。 （もっと読む）

【課題】気流制御を通して基板を均一に加熱することが可能な加熱処理装置およびこれを備える塗布現像装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能で、前記基板Ｓが通過する第１の搬入口６２Ｉおよび第１の搬出口６２Ｏを有する筐体と、前記第１の搬入口６２Ｉから前記第１の搬出口６２Ｏへ向かう方向に前記基板Ｓを搬送する第１の搬送機構と、前記第１の搬送機構により前記筐体内を搬送される前記基板Ｓを加熱するヒータ７２と、前記筐体に設けられる排気口であって前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏから前記排気口に至る気流を形成可能な当該排気口と、前記第１の搬入口６２Ｉおよび前記第１の搬出口６２Ｏの一方または双方に臨んで設けられ、吸気により前記気流を調整する当該吸気口とを備える加熱処理装置が開示される。 （もっと読む）

【課題】 複数の放電ランプが所定方向に並んで配設されてなる構成のものにおいて、不具合の発生した放電ランプの特定および異常の状態の判別を行うことができて、装置の正常動作状態を確認することのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプ、および当該放電ランプを取り囲むよう配置された、当該放電ランプからの光を反射するリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、個々の放電ランプによる光到達領域における複数の測定箇所からの拡散光の光量を検出する光検出素子アレイとを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板１が収容される槽ＴＫと、処理槽ＴＫ内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構ＴＢ、Ａと、処理基板１に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽ＴＫ内へ送り出される位置と対向する位置から槽ＴＫ内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段１０、２０、３０、４０と、を備えた基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】使用環境に影響されることなく基板上の異物を高精度で検出することができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】基板保持部２１の搬送方向に並んで配置され、基板保持部２１に保持された基板Ｗの表面に沿ってレーザービームＬＢ１、ＬＢ２を出射する出射部８０a、８１aと、レーザービームを受光する受光部８０ｂ、８１ｂと、をそれぞれ有する２つの異物検出器８０、８１と、２つの異物検出器８０、８１の各受光部８０ｂ、８１ｂが受光する前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号を比例演算部８３ａによって増幅し、さらに、差分演算部８３ｂによって、２つの増幅した前記レーザービームＬＢ１、ＬＢ２の検出信号の差分を算出し、異物８２の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の除去断面の傾斜がなだらかになるダレ現象の発生を防止して、周辺露光精度を向上させることができる周辺露光装置及びその方法を提供すること。
【解決手段】ウエハＷに形成されるレジスト膜のパターン領域Ｐの周辺に形成される周辺領域Ｅを露光する周辺露光装置であって、光束を照射するための光源と、光源により照射された光束のうち少なくとも一部を遮光可能であって、透光領域のウエハの周方向の幅及び周方向と直交する方向の幅を可変可能に形成する液晶シャッタ５０と、制御部と、を具備し、制御部からの信号に基づいて、液晶シャッタを制御して、透光領域Ｂ１を形成して、周辺領域内のパターン領域側に近接する位置に設定される開始位置Ｓに、周方向と直交する方向の幅Ｌ１が最も広い光束を照射し、透光領域Ｂ１の外周側に透光領域Ｂ２を形成して露光処理を行う。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、カセット８１には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材１０１が配置されている。 （もっと読む）

【課題】光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】光照射装置８０は、ランプ７１とランプ７１から発生された光に指向性をもたせて射出する反射鏡７２をそれぞれ含む複数の光源部７３と、所定数の光源部７３をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット８１と、複数のカセット８１を取り付け可能な支持体８２と、を備える。カセット８１のランプ押さえカバー８４は、複数の光源部７３を取り付ける際に、複数のランプ７３の光がインテグレータレンズ７４の入射面に入射されるように複数のランプ７３を支持する支持部材８６を有する。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持するカセット８１とを備え、複数のカセット８１が配設された支持体８２の前面側の４隅には、支持体８２に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する支持体用緩衝部材８８が配置されている。 （もっと読む）

【課題】光源から出る多波長光のうち、所望の波長の光を容易に選択することができるようにした露光波長調節装置及びそれを利用した露光機を提供する。
【解決手段】本発明による露光波長調節装置は、光源から出射される多波長の光の入力を受け、分離屈折させて多数の波長を出力する分離屈折部；前記分離屈折部で分離屈折されて入射される多数の波長の光経路を変化させるミラー；及び前記ミラーで反射される多数の波長の光の一部を通過させる部分光通過部を含む。 （もっと読む）

【課題】衝撃が作用したとき、少ないスペースで効果的にランプ及びカバーガラスの損傷を防止することができる露光装置用光照射装置を提供する。
【解決手段】複数の光源部７３と、複数の光源部７３を支持する略矩形状のカセット８１とを備え、光源部７３には、カセット８１に加わる衝撃力を吸収して光源部７３に作用する衝撃力を緩和する緩衝部材８８、８９が配置されている。 （もっと読む）

【課題】露光光が通過する領域を大きく広げることなく、露光光を配向膜へ斜めに照射する。また、１つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する際、タクトタイムを短縮して、スループットを向上させる。
【解決手段】露光光照射装置３０から照射された露光光を透過させて露光光の進行方向を傾ける光偏向素子８１ａ，８１ｂを、露光光照射装置３０とマスクホルダ２０との間に配置し、光偏向素子８１ａ，８１ｂからマスク２へ露光光を斜めに照射する。露光光照射装置３０から照射された露光光の進行方向をそれぞれ異なる方向へ傾ける複数の光偏向素子８１ａ，８１ｂを、露光光照射装置３０とマスクホルダ２０との間に切り替えて配置する。あるいは、光偏向素子８１を回転して、光偏向素子８１により傾けられる露光光の進行方向を切り替える。 （もっと読む）