【課題】基板交換を迅速に行うことができる基板ステージを提供する。
【解決手段】基板ステージ２０が基板搬出装置７０を有しているので、基板Ｐの搬出を迅速に行うことができる。また、基板ステージ２０は、Ｙ粗動ステージ２３ｙと、Ｙ粗動ステージ２３ｙ上に搭載されたＸ粗動ステージ２３ｘと有し、基板搬出装置７０がＹ粗動ステージ２３ｙに取り付けられている。従って、基板搬出装置７０を備えているにも拘わらず、スキャン露光時に移動するＸ粗動ステージ２３ｘの制御性を損なわない。 （もっと読む）

【課題】 被検光学系の収差を高精度に計測することのできる収差計測装置。
【解決手段】 被検光学系の収差を計測する収差計測装置は、被検光学系を介して、所定方向に沿って延びる帯状の第１空間像と、被検光学系の像面内で第１空間像を所定の角度だけ回転させた帯状の第２空間像とを、被検光学系の像面に形成する像形成部と、被検光学系の像面に配置された三角形状の開口部を有する開口部材と、第１空間像のうち開口部を通過した像の光に関する情報と、第２空間像の光のうち開口部を通過した像の光に関する情報とに基づいて、被検光学系の収差を計測する計測部とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとの隙間への付着物の噛み込みを検出でき、マスクの疵付きを防止でき高い露光精度を維持できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板２に転写すべきパターンが形成されたマスク１２が設けられており、光源１１から出射された露光光を透過させて基板２にパターンを露光する。基板２は、ステージ１０により、マスク１２に対してスキャン方向に移動される。マスク１２はマスクホルダ１３に保持され、マスクホルダ１３には、加速度センサ１４が設けられている。そして、加速度センサ１４によりマスク１２の鉛直方向の加速度を検出する。判定部１６は、加速度センサ１４の検出結果が所定値を超えたか否かを判定し、この判定結果に基づいて、ステージ１０を制御する制御部１５は、ステージ１０による基板２の移動を継続又は停止させる。 （もっと読む）

【課題】第１に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第２に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。
【解決手段】斜入射光学系４０を駆動させて、少なくとも入射角度±θの２つの照明光で露光対象基板２を露光し、照明光の入射角度±θに応じて露光対象基板２上で略平行にシフトする２つの回折像を重複させ、これら回折像の回折によるスイングを抑制する構成としてある。また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 （もっと読む）

【課題】摩耗粉の発生が抑制され、清浄な状態で基板を搬送することができる転動装置及びそれを備えた近接スキャン露光装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを搬送する基板搬送機構１０は、複数の転動装置２０を平面状に分散して配設することで基板Ｗを支持する。転動装置２０は、内面に半球形状の軌道面４７が形成された半球状凹部４６を備える本体４１と、半球状凹部４６に回動自在に収容されて一部が開口から突出する大径の主ボール４３と、軌道面４７と主ボール４３との間に転動自在に介在する複数の転動ボール４４と、複数の転動ボール４４とともに軌道面４７と主ボール４３との間に介在し、転動ボール４４より小径の複数のスペーサボール４５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０に第１の画像取得装置（ＣＣＤカメラ５１）を設け、光ビーム照射装置２０のヘッド部と第１の画像取得装置との間に、検査用パターンが設けられたレチクル２を配置する。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、第１の画像取得装置により、レチクル２の検査用パターン２ａの画像及び光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの像２ｃを取得する。第１の画像取得装置により取得したレチクル２の検査用パターン２ａの画像及び光ビームの像２ｃから、光ビームの位置ずれを検出して、光ビームの歪みを検出する。光ビームの歪みの検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】セルレイアウトが異なる基板を露光する際にも、高効率且つ低コストでパネルを露光できる露光装置及びこの露光装置に使用される遮光板を提供する。
【解決手段】露光用マスク２０は、表示パネルに対応するパターン領域２０ａが複数個配列されている。マイクロレンズアレイ２２は、スキャン方向に垂直の方向に２個のマイクロレンズアレイチップ２２ａが、その一部がこのスキャン方向に垂直の方向に相互に重なるように設けられている。遮光板３０は、マイクロレンズアレイチップ２２ａの一部を遮光するものであり、遮光板３０の開口部は、一方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが２個のパターン領域２０ａのみを露光し、他方のマイクロレンズアレイチップ２２ａが他の３個のパターン領域２０ａのみを露光するように、マイクロレンズアレイチップの光透過を規制する。 （もっと読む）

【課題】複数の反射要素のアレイを有する空間光変調器を用いるときに、反射光の強度を大きくする。
【解決手段】空間光変調器２８は、それぞれ光が照射される複数のミラー要素３０のアレイを有し、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣの回りに回転可能に支持されるとともに、ミラー要素３０は、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１にあり回転軸ＲＣに平行な方向に幅ｂ１を持つ部分３１Ａａと、回転軸ＲＣから第１の距離ａ１よりも離れた第２の距離ａ２にあり回転軸ＲＣに平行な方向にその幅ｂ１よりも広い幅ｂ２を持つ部分３１Ａｂとを含む第１反射部３１Ａを有する。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィシステムを提供することである。
【解決手段】 パターンをターゲットの表面に転写するマスクレスリソグラフィシステムであって、複数の小ビームを発生するための少なくとも１つのビーム発生装置と、小ビームの大きさを変調するための複数のモジュレータを備えた変調手段と、モジュレータの各々を制御する制御ユニットとを備え、制御ユニットは、それぞれの小ビームの大きさを制御するために、パターンデータを発生し、前記モジュレータにパターンデータを伝送し、この制御ユニットがパターンデータを記憶するための少なくとも１つのデータ記憶装置と、データ記憶装置からパターンデータを読み取るための少なくとも１つの読み取りユニットと、データ記憶装置から読み取られたパターンデータを少なくとも１つの被変調光ビームに変換するための少なくとも１つのデータ変換装置と、少なくとも１つの被変調光ビームを前記変調手段に伝送するための少なくとも１つの光伝送装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】フィルタの交換を効率的に、かつ高い位置決め精度で行う。
【解決手段】ケミカルフィルタ５１を保持するフィルタボックス３８であって、ケミカルフィルタ５１を保持するフレーム５０と、フレーム５０の側面５０ｃに形成された案内溝５２と、側面５０ｃに交差する背面５０ｂに設けられた凹部３９Ａ，３９Ｂと、を備える。案内溝５２は、側面５０ｃの上端と下端との間に配置され、かつフレーム５０の側面５０ｃの側端に連通する第１溝部５２ａと、第１溝部５２ａに連通し、かつフレーム５０の上端に向かって延びる第２溝部５２ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを離間させるときに発生するマスクの剥離力を小さくして、マスクの落下や位置ずれを抑制することができるとともに、タクトタイムを短縮することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭと基板Ｗとを相対的に離間する方向に移動させる際、相対移動に伴ってマスクＭに作用する剥離力Ｆが、フランジ２６に対するマスクＭの保持力ｆよりも小さくなるように、マスクＭと基板Ｗとの相対移動速度Ｖを制御する。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ上の基板の交換を迅速に行う。
【解決手段】基板ステージ２０ａは、基板ホルダ３０ａから加圧気体を噴出して基板Ｐ_１を浮上させ、基板搬出装置９３は、基板ホルダ３０ａの上面（基板載置面）をガイド面として基板Ｐ_１を水平面に沿って移動させることにより基板ホルダ３０ａから搬出する。次に露光予定の別の基板Ｐ_２は、基板Ｐ_１の搬出動作が行われる際、基板ホルダ３０ａの上方に待機しており、基板Ｐ_１の搬出動作完了後に基板ステージ２０ａが有する数の基板リフト装置４６ａに受け渡される。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光を光源とした場合、被露光体上に発生する露光ムラを抑制することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、入射する光を拡散させる拡散板と、拡散板をコヒーレント光で経時的に重ねて照明するとともに、拡散板の各点への入射角度を経時的に変化させて照明する照明系と、パターン形成領域を有する光変調器と、拡散板から出射されるコヒーレント光をパターン形成領域に集光する集光光学系と、光変調器で変調されたコヒーレント光を被露光体の表面に結像させる結像光学系と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワークローダから基板ステージに搬送される基板Ｗの歪みを低減して、基板をワークチャックに載置することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】基板ステージ１１のワークチャック３１には、該ワークチャック３１の表面から進出可能な複数の吸着ピン７０が直線状に複数列で設けられており、制御部４は、基板ステージ１１がワークローダ３から基板Ｗを受け取る際、吸着ピン７０の吸着の有無を制御する。 （もっと読む）

【課題】原版保持部と基板保持部との位置合わせに要する時間の短さの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、第１方向（Ｘ）の位置計測用である第１マークＭ１_Ｖおよび第２方向（Ｙ）の位置計測用である第２マークＭ１_Ｈを備えた原版保持部と、第１方向の位置計測用である第３マークＭ２_Ｖおよび第２方向の位置計測用である第４マークＭ２_Ｈを備えた基板保持部と、第３マークＭ２_Ｖを通過した光量、および第４マークＭ２_Ｈを通過した光量をそれぞれ検出する検出部とを備える。制御部は、原版保持部と基板保持部との相対移動を第１方向および第２方向において並行して行わせる。ここで、第１マークＭ１_Ｖの第２方向の長さＬ１_Ｙまたは第３マークＭ２_Ｖの第２方向の長さＬ２_Ｙの一方は、他方より大きく、また、第２マークＭ１_Ｈの第１方向の長さＬ１_Ｘまたは第４マークＭ２_Ｈの第１方向の長さＬ２_Ｘの一方は、他方より大きい。 （もっと読む）

【課題】ショット毎に、基板のアライメントマークと画像取得装置とを相対的に画像認識に適した位置へ速やかに移動して、マスクと基板との位置合わせを迅速に行い、タクトタイムを短縮する。
【解決手段】１枚目の基板において、ショット毎に、基板のアライメント後のチャックの位置及び各画像取得装置の位置を、そのショットについての登録位置として記憶する。２枚目以降の基板において、ショット毎に、ステージ及び各移動機構によりチャック及び各画像取得装置をそのショットについての登録位置へ移動して、マスク及び基板のアライメントマークを各画像取得装置の視野に入れ、画像処理装置が検出したマスクのアライメントマークの位置及び基板のアライメントマークの位置に基づき、ステージによりチャックを移動して、基板のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】露光装置より照射された平行光７を、被照射体６に傾斜させて出射するフォトマスク１であって、被照射体６を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置で、１度の露光で多角度の斜め露光を、被写体６に対して行うことができるフォトマスク１を提供する。
【解決手段】透明基板の照射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、透明基板の出射面側の、パターンに対応した部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】露光装置より照射された平行光７を、被照射体６に傾斜させて出射するフォトマスク１であって、被照射体６を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置で、１度の露光で多角度の斜め露光を、被写体６に対して行うことができるフォトマスク１を提供する。
【解決手段】透明基板の出射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、照射面の前記パターンに対応した透明基板部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子を用いて露光光を形成する際、露光光の強度を一定に保ちながら、各半導体発光素子の寿命を均一化する。
【解決手段】露光光照射装置３０から照射される露光光の強度を検出すると共に、各半導体発光素子４２の温度を検出する。各半導体発光素子４２の温度の検出結果に基づき、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の点灯時間を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の点灯時間より長くし、または、所定温度又は所定温度範囲より低い温度の半導体発光素子の駆動電流を、所定温度又は所定温度範囲より高い温度の半導体発光素子の駆動電流より大きくして、検出した露光光の強度の変化を補う。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンによるマスクの有無の誤検出を防止するとともに、マスクがマスクストッカー内のマスク受けに正常に搭載されていることを確認して、マスクの搬入又は搬出時のマスクの破損を予防する。
【解決手段】マスク２を収納するマスクストッカー４０に、マスク２の下面の縁を支持するマスク支持部４４ａと、マスク支持部４４ａより盛り上がったマスク落下防止部４４ｂとを有する複数のマスク受け４２を設ける。少なくとも１つのマスク受け４２のマスク支持部４４ａに、マスク２の下面への接触の有無によりマスク２の有無を検出するマスク検出機構５１，５２，５３，５４，５５，５６を設ける。マスク検出機構の検出結果に基づき、マスク２を載せるハンドリングアーム３１を有するマスク搬送装置３０により、マスク２を複数のマスク受け４２に搭載し、またマスク２を複数のマスク受け４２から持ち上げる。 （もっと読む）