【課題】ステージの移動に伴って生じる振動に起因する処理精度の低下を適切に抑制できる技術を提供する。
【解決手段】描画装置１は、基板Ｗを水平姿勢で保持するステージ１０と、ステージ１０に保持された基板Ｗに対して光を照射して基板Ｗにパターンを描画する光学ユニット４０と、ステージ１０を光学ユニット４０に対して相対移動させるステージ駆動部２０と、移動されるステージ１０の位置の変動を計測して位置変動情報を取得する位置変動情報取得部３０１と、ステージ１０が移動される際に生じる振動成分のうち振動数が既知である対象振動成分の位相情報を、位置変動情報から特定する位相情報特定部３０２と、対象振動成分の位相情報に基づいてステージ１０の振動状況を予測する振動予測部３０３と、予測された振動状況に基づいて、光学ユニット４０による光の照射位置を補正する描画位置補正部３０４とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、極めて高い精度で光学素子を移動させることのできる光学素子保持装置を提供する。
【解決手段】光軸ＰＡを鉛直方向に規定する鏡筒３１を有する光学素子保持装置３０である。可動光学素子を保持する可動光学素子保持部材と、その保持位置を光軸方向に変位可能なガイド機構部４０と、可動光学素子保持部材を移動させる駆動機構部５０と、を備える。ガイド機構部４０は、鏡筒３１と可動光学素子保持部材とを、光軸方向で掛け渡す軸方向弾性部材４１と、径方向で掛け渡す径方向弾性部材と、を有し、各駆動機構部５０は押当箇所５１ｂを軸方向に移動可能とする駆動部５１を有し、各駆動機構部５０では、各駆動部５１による押下力が、各軸方向弾性部材と各径方向弾性部材とによる鉛直方向上方への押上力から、可動光学素子を保持した可動光学素子保持部材の重量を減算したものよりも大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】露光対象のフィルムが幅方向に変形した場合においても、マスクを取り替えることなく露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光対象のフィルム１は、例えば供給リール４１、搬送ローラ４２，４３、リール４４等の搬送装置により１方向に移動される。光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、フィルム１に照射される。マスク２には、フィルム１の移動方向に直交する方向に複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、マスク２とアパーチャ３とのフィルム移動方向における相対的な位置を制御するので、フィルム１の露光すべき幅が変化しても、マスク２を取り替えることなく露光できる。 （もっと読む）

【課題】ワークをワーク面に直交する方向（Ｚ方向）に移動させたとき、Ｚ方向移動機構の真直度が原因で生じるワーク面に平行な平面内でのワークの移動を修正すること。
【解決手段】マスクＭのマスクマークＭＡＭ像をアライメント顕微鏡８０で検出し、その位置を記憶する。次に、ワークＷを吸着テーブル３３に載せワークマークＷＡＭの位置を検出し、ワークＷとマスクＭの位置合わせを行い、レーザ測長器３４により、スライダ３２から反射ミラー３５までの距離ａを記憶する。ついで、露光処理を行うために、Ｚ方向移動機構５０により、ワークステージ３０をワークＷの厚み分下降させ、レーザ測長器３４によりスライダ３２から反射ミラー３５までの距離ｂを測定する。そして上記距離ａとｂによりワークステージ３０の下降による移動量を検出し、ワークＷをマスクＭと位置合せした位置に戻す。この状態で、光出射部１０から露光光を出射しワークＷを露光する。 （もっと読む）

【課題】放射が調整される少なくとも３つの光路を備える放射ビーム調整システムを提供する。
【解決手段】パルス放射ビームを調整する放射ビーム調整システムは、少なくとも第１、第２及び第３の光路に沿ってパルス放射ビームを分割する放射ビーム分割器と、単一の出力パルス放射ビームを形成するために、少なくとも第１、第２及び第３の光路からの放射パルスを再結合する放射ビームコンバイナと、第１の光路に沿って伝搬する放射パルスに合わせて構成された放射パルストリマと、を備え、放射パルストリマが、単一の出力パルス放射ビームの総エネルギー量が実質的に所定のレベルになるように、第１の光路内で前記放射パルスをトリミング処理し、第１、第２及び第３の光路の光路長は、放射ビーム分割器と放射ビームコンバイナとで異なっている。 （もっと読む）

【課題】選択されたパターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易に表示する。
【解決手段】データ変換部８１１では、各パターンの全体を示すベクトルデータをラスタ変換して描画ラスタデータが生成されるとともに、描画ラスタデータの生成時に当該パターンにおけるパターン識別用の特徴領域を示すラスタデータである部分ラスタデータが生成される。描画ラスタデータおよび部分ラスタデータを含む集合を描画データセット５１として、複数のパターンにそれぞれ対応する複数の描画データセット５１が記憶部８２１にて記憶される。表示制御部６０１は、複数のパターンのうち、選択されたパターンを示す描画ラスタデータと同じ描画データセット５１に含まれる部分ラスタデータに基づいて、当該パターンにおける特徴領域を示す画像を迅速に、かつ、容易にディスプレイ６０２に表示する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度で行うことができる露光装置のアライメント装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置には、アライメント用の光を出射するアライメント光源５が設けられており、例えばカメラ６に内蔵されている。そして、アライメント光源５から出射されたアライメント光は、基板１及びマスク２に照射され、反射光がカメラ６により検出される。アライメント時には、マイクロレンズアレイ３は、マスクアライメントマーク２ａと基板アライメントマーク１ａとの間に移動され、基板アライメントマーク１ａから反射した正立等倍像がマスク２上に結像される。カメラ６は、基板アライメントマーク１ａをマスクアライメントマーク２ａと共に複数回撮像し、撮像された像が重ね合わせられ、第２の制御装置９は、検出されたアライメントマークにより、基板１とマスク２とのアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】基板に対する微細パターンを容易に形成可能とする露光方法。
【解決手段】照明光でマスクＭ１を照明し、マスクＭ１のマスクパターンを用いて基板Ｐを露光する露光方法は、マスクＭ１に対して基板Ｐを基板Ｐの面内方向である走査方向に移動させること、走査方向への移動中に基板Ｐを露光することを含む。移動中に基板Ｐを露光することは、マスクＭ１の第１領域に形成された微細周期マスクパターンを用いる微細周期露光と、マスクＭ１の第２領域に形成された中密度マスクパターンを用いる中密度露光とを、第１および第２領域が形成されたマスクを静止した状態で行うことを含む。第１領域と第２領域とは、走査方向に隣接して配置されている。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、マスクの撓みを補正しつつマスクを保持することができ、高精度で露光転写することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクステージ１は、マスクＭを下面に真空吸着して保持するマスクホルダ２６と、マスクホルダ２６の上面側に保持されるカバーガラス３２と、マスクホルダ２６、マスクＭ、及びカバーガラス３２によって画成される空間３３内の空気を吸引して該空間３３内を減圧させる吸引機構４０と、減圧された空間３３内に外部から空気を供給する少なくとも１つの空気導入溝３５と、を備える。そして、マスクＭをマスクホルダ２６の下面に真空吸着してマスクＭを保持し、また、吸引機構４０によって空間３３内の圧力を吸引するとともに、空気導入溝３５を介して外部の空気を空間３３に供給することで、空間３３内の圧力を所定の圧力に調整する。 （もっと読む）

【課題】基板を露光する途中での、基板の取り外しを前提とする基板保持部材の採用を可能にする位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｐ上に複数の区画領域（ＳＡ１、ＳＡ２等）を形成するに当たり、基板Ｐ上に区画領域を形成する度毎に、基板Ｐを該基板Ｐの面に平行な面内でステップ移動し、該ステップ移動の前後で、基板Ｐの同一の検出対象部（例えばエッジ）の位置情報を例えば複数のセンサ１２２Ｘ_１、１２２Ｘ_２、１２２Ｙ_１を用いて検出し、その検出結果に基づいて、区画領域の形成の際に、基板Ｐを露光領域ＩＡに対して位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の一面を複数のショットに分けて露光する際、ショット毎に、マスクと基板とがより平行な状態でギャップ合わせを行って、露光精度を向上させる。
【解決手段】マスクホルダ２０とチャック１０とを相対的にＺ方向へ移動及びチルトする複数のＺ−チルト機構３０と、マスク２と基板１とのギャップを複数箇所で測定する複数のギャップセンサー３０とを設ける。予め露光した基板のパターンを測定して、各ギャップセンサー４０の測定点におけるショット毎のオフセット値を決める。ショット毎に、各ギャップセンサー４０の測定値を、各測定点におけるショット毎のオフセット値で補正し、補正後の補正値に基づいて、複数のＺ−チルト機構３０によりマスク２と基板１とのギャップ合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、露光マスクに基板ステージを接近させプロキシミティ露光を行う場合に、露光マスクの膨らみを制限することにより、露光マスクと被露光基板との隙間が均一な状態を短時間で達成することができる。
【解決手段】本発明の露光方法は、ガラス基板の片面にマスクパターンが形成され、前記マスクパターンの遮光部に該当する任意の位置に前記ガラス基板を貫通する通気孔が単数または複数個形成された露光マスクと、前記露光マスクにより露光される被露光基板との間隙を調整する前後いずれかにて、前記通気孔から前記間隙の気体を真空手段により排出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】効率良く、高いスループットで複数の基板の露光処理を行なう。
【解決手段】基板の一面を複数の区画領域に分けて露光するスキャン型露光装置は、２枚の基板Ｐ１，Ｐ２それぞれの１つの区画領域（一括露光範囲）をそれぞれ保持可能な一対のホルダＰＨＡ、ＰＨＢと、ホルダＰＨＡ、ＰＨＢをスキャン方向（Ｘ方向）に移動させるステージと、基板Ｐ１，Ｐ２をホルダに対してクロススキャン方向（Ｙ方向）に移動させる基板Ｙステップ送り装置とを備えている。露光装置は、ステージを介してホルダＰＨＡをＸ方向に移動させて、基板ホルダＰＨＡ上の一方の基板Ｐ２を露光中（Ｘスキャン中）に、他方の基板Ｐ１をホルダＰＨＢ上で移動（Ｙステップ）させて、他方の基板の未露光領域（未一括露光範囲）をホルダ上に位置させ、さらにはそのホルダに対する基板の位置ずれ量の計測を行う。 （もっと読む）

【課題】光学的に位置を評価する機器及び方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ機器は、表面上に位置合わせマークを有する基板を支持する基板テーブルを備える。この機器はさらに、走査動作モード又はステップ動作モードを実現するために、この基板に対して相対的に移動可能なフレームを備える。基板の目標部分にそれぞれのパターン化されたビームを投影するために、このフレーム全体にわたって投影システムのアレイを配設する。このフレームに取り付けられた複数の位置合わせマーク検出器は、それぞれの直線駆動機構を使用してこのフレームに関して移動可能である。各位置合わせマーク検出器に関連する位置センサは、フレームに対する相対的な検出器の位置を求める。制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 （もっと読む）

【課題】 良好な結像性能と小型化を両立する投影光学系を提供する。
【解決手段】 投影光学系は、物体面に配置された物体の中間像を形成する第１の反射光学系と前記中間像を像面に投影する第２の反射光学系とを含む。前記第１の反射光学系は、前記物体面から出射され前記物体面に直交する第１方向に沿って入射した光を反射する第１の平面鏡と、前記第１の平面鏡からの光を反射する第１の光学系と、前記第１の光学系からの光を反射して前記中間像の形成位置に向け前記第１方向に沿って出射する第２の平面鏡とを有する。前記第２の平面鏡における光の反射位置と前記中間像の形成位置との間の前記第１方向における距離は前記第１の平面鏡における光の反射位置と前記物体面との間の前記第１方向における距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】単一パス高解像度高速印刷用途に使用されることが可能な高信頼でしかも高出力である画像形成システムを提供する。
【解決手段】アナモルフィック光学系１３０Ｅは、画像形成面１６２Ｅから湿し溶液を気化するに足るエネルギーを有するライン画像を発生するために、１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３４Ｅにより全屈折配置に形成される、または円柱／非円柱レンズおよびミラーの組合せによって形成される工程方向サブ光学系１３７Ｅを含む。また、本アナモルフィック光学系は、変調光場１１９Ｂを工程横断方向に画像化するために１つまたは複数の円柱／非円柱レンズ１３８Ｅおよび任意選択の円柱／非円柱視野レンズにより形成される工程横断方向サブ光学系１３３Ｅも含む。本アナモルフィック投影光学系は、ライン画像の複数のピクセル画像の同時的発生を容易にし、１２００ｄｐｉ以上での印刷を容易にする。 （もっと読む）

【課題】計測対象面の凹凸に起因する面位置センサの計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される面位置センサを用いて、移動体を高精度に２次元駆動する。
【解決手段】 Ｘ干渉計１２７、Ｙ干渉計１６を用いて位置を監視しながらウエハステージＷＳＴを移動させ、センサ７２ａ〜７２ｄを用いてウエハステージ上面に設けられたＹスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２のＺ位置を計測する。ここで、例えば、２つの面位置センサ７２ａ，７２ｂの計測結果の差より、Ｙスケール３９Ｙ_２のＹ軸方向の傾きが得られる。Ｙスケール３９Ｙ_１，３９Ｙ_２の全面について傾きを計測することにより、それらの２次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いてセンサの計測結果を補正し、該補正済みの計測結果を用いることにより、高精度にウエハステージを２次元駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】迅速に正確な露光動作を行う。
【解決手段】ワークに対して露光する際に光束を開閉するシャッター装置２６を、エアシリンダ３３でスライドされる一枚のスライド板３２で上記光束を開閉するスライドシャッター３０と、サーボモータ３７で回転される回転板３６で上記光束を開閉する回転シャッター３１とを、併設して構成している。そして、サーボモータ３７によって回転板３６を回転する回転シャッター３１側で露光時間を設定する一方、スライドシャッター３０側で露光のタイミングを設定するようにしている。こうして、迅速に正確な露光動作を行うことができる。さらに、回転板３６によって、フライアイレンズ２５を開放した側から閉鎖することができ、照射開始から照射終了までの間における露光面２９での積算光量を一定にできる。 （もっと読む）