【課題】３次元フォトニック結晶としてのバンドギャップ機能を備えた３次元構造体およびそれを有する発光素子を得ることを可能にする。
【解決手段】誘電体材料からなる第１部材４ａと、第１部材と同じ誘電体材料からなり第１部材よりも径が小さな第２部材４ｂとが交互に積層された積層構造をそれぞれ有する複数の基本要素４が基板２上に設けられ、複数の基本要素は基板上に周期的に配列されている。 （もっと読む）

【課題】信号遅延が最適化または低減化され、半導体集積回路上の半導体装置の速度および性能が最適化または改善された半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体光導波路装置は、基板と、基板上に配置された第１絶縁層と、を含む。第２絶縁層は、第１絶縁層上に配置される。第３絶縁層は、第１絶縁層と物理的に接し、第２絶縁層および第１絶縁層上に配置される。シリコン層は、第３絶縁層上に配置される。第２絶縁層は、光透過性であり、第１、第３絶縁層と異なる材料からなる。 （もっと読む）

【課題】基板の反りが大きく軟化温度の高いクラッドについて、応力を低減することによってクラッドの厚膜化を実現するデバイス構造および製造方法を提供する。
【解決手段】平板状のＳｉ基板１１と、基板１１上に設けられるリッジ形状を有するシリカガラスの下クラッド１２と、下クラッド１２のリッジ上に配置されるコア１３とで少なくとも構成される光導波路であって、下クラッド１２のリッジ幅について、コア１３中心からリッジ端までの距離Ｌ／２がコア１３直下の下クラッド１２の厚さｄ以上である。リッジの高さｈは下クラッド１２の厚さｄと同じであるか、下クラッド１２の厚さｄの半分以上である。 （もっと読む）

【課題】ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。
【解決手段】特定のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも１種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも１種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。 （もっと読む）

【課題】光基板において、その曲げ半径を小さくできると共に、高密度な光配線回路を構成することができるようにする。
【解決手段】線状のコア５が、該コア５よりも屈折率の低い接着剤７によって基板３の表面３ａに固着され、前記基板３の表面３ａに配された前記接着剤７が、少なくとも前記コア５の長手方向にわたって前記コア５の周囲に形成されていることを特徴とする光基板１を提供する。また、前記接着剤７の屈折率が、前記コア５の屈折率の９０．００％以上、かつ、１００％未満であることを特徴とする光基板１を提供する。 （もっと読む）

【課題】クラッドをなす基板本体の内部に、クラッドよりも高い屈折率を有するコアを配した光基板において、コア端部の位置ずれを防止できるようにする。
【解決手段】中空の金型５３内に線状のコア５を配置すると共に、前記金型５３に形成されて外方に連通する挿通孔５５，５５に前記コア５の端部５ａ，５ｂを各々挿通させ、前記コア５の端部５ａ，５ｂにより前記挿通孔５５，５５を閉塞するコア配置工程と、前記金型５３内に、前記コア５よりも屈折率の低いクラッド材料６１を充填して硬化させるクラッド形成工程と、硬化した前記クラッド材料６１からなる基板本体６３及び前記コア５を前記金型５３から取り外す離型工程とを備えることを特徴とする光基板６９の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】線状のコアをコアよりも低い基板本体内部に設けた光基板の製造方法において、光基板の製造効率の向上を図りながら製造コストを低く抑えることができるようにする。
【解決手段】線状のコア５を該コア５よりも屈折率の低い基板本体３内部に配置すると共に、前記コア５の長手方向の端部５ａ，５ｂを前記基板本体３から外方に突出させる光導波路形成工程と、前記基板本体３から突出した前記コア５の端面５ｃ，５ｄを、加熱手段３３，３５によって加熱して溶融させ、任意形状に成形する端面成形工程とを備えることを特徴とする光基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】煩雑な工程を排除することができるとともに、安価であり、簡便な方法により生産効率の向上を図ることができる光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】光導波路１０の製造方法は、下部基材１１上に導波路コア１２を形成し、上部基材１３上に未硬化の薄膜クラッド１４ａを形成し、導波路コア１２上に上部基材１３の薄膜クラッド形成面を被せ、薄膜クラッド１４ａが流動して導波路コア１２の側面を被い、下部基材１１、薄膜クラッド１４ａ及び上部基材１３間に、導波路コア１２に沿って貫通する空洞１５を形成し、薄膜クラッド１４ａを硬化し、そして空洞１５内に導電性物質１６を充填・硬化する。 （もっと読む）

【課題】高密度実装又は小型化が可能で、しかも光電素子の実装が容易に且つ低結合損失で行えるため、光電気複合基板に用いることが出来る光路変換部品の製造方法及び光路変換部品とそれを用いた多層光電気複合基板を提供する。
【解決手段】第１の基板と、コアとクラッドを有する光配線層とスルーホールを形成した第２の基板とを順に積み重ね、第２基板表面に光電変換素子を実装した光電気複合基板において、前記コアとクラッドから構成された光導波路はコア、クラッドが複数層積層した構造の多層光配線であり、該多層光導波路内を伝搬する光信号が、光導波路のスルーホールに埋設された、傾斜面を有するコア及びクラッドからなる９０度光路変換部品内を伝送することを特徴とする光電気複合基板である。 （もっと読む）

【課題】複雑な工程を要さず、安価に、局所気密封止された光集積回路を提供すること。
【解決手段】局所気密封止された光集積回路は、ヘリウムに対する透過係数が５×１０^−９（２５℃）以下のガスバリア性を有する薄膜が形成されたコア１２ａ及びクラッド１２ｂからなる光導波路１２と、第１の面において、コアを含む所定の領域を囲むように形成された凸部を有し、薄膜が形成されたキャップと、光導波路の第２の面において、コアと光学的に接続する位置に実装された光素子と光導波路の第２の面において、光素子に電気的に接続されるメタル配線とを備えている。キャップと光導波路との実装の際に、光導波路とキャップとが半田により接合することにより気密封止された空隙を形成し、気密封止された空隙に光素子が位置している。 （もっと読む）

【課題】光導波路の曲がり部の曲率の小径化と光損失の低減を図ることができること。
【解決手段】光導波路１００は、基板１０１上に不純物を拡散させて形成した屈折率が大きい拡散領域（光導波路）１０２を有する。この拡散領域１０２は、曲がり部を有し、拡散領域１０２の曲がり部の外側に、拡散領域１０２に沿って基板１０１を掘り下げて形成した溝１０５と、拡散領域１０２の上部に設けられ、基板１０１の屈折率以上の屈折率を有するバッファ層１（１１１）と、を備えてなる。バッファ層１（１１１）の上部は、基板１０１の屈折率以下の屈折率を有するバッファ層２（１１２）を備え、バッファ層２（１１２）は、溝１０５の側面への接触を含み形成される。 （もっと読む）

本発明による光結晶の製造方法は、低屈折率物質からなる周期的な3次元構造を有する型板の露出された部位に高屈折率の物質を均一にコーティングし、これに隣接する空気との屈折率または誘電率の差異をさらに大きくすることで、優れた特性の光バンドギャップを有する3次元構造の光結晶を形成する。この際、前記3次元構造体はレイヤー・バイ・レイヤー法によって形成されることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、均一性の高い大表面積の3次元フォトニック結晶の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明の3次元フォトニック結晶の製造方法は、微粒子を構成単位とする3次元フォトニック結晶の製造方法であって、窪みを有するテンプレート基板（Q）に、微粒子スラリーを供給して、窪みの形状に従った微粒子集積体を有する層（A）を形成し、さらに層（A）の上部に連続的な微粒子集積体層（A'）を形成することを特徴とする。
テンプレート基板（Q）に形成される窪みは、表面が（100）面又は（110面）であるシリコン基板を異方性エッチングすることにより作製される（111）面を表面に持つV字窪みであることが好ましく、その窪みの間隔が、0又は構成単位である微粒子の直径の整数倍であればさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】 衝撃固化現象による成形体に形成された導波路を有する光学素子及びその光学素子を含む光集積デバイスを提供する。
【解決手段】 基板上に供給した超微粒子脆性材料に機械的衝撃力を負荷して前記超微粒子脆性材料を接合させて形成した成形体の光吸収端を、局所加熱により制御し、導波路を形成する。 （もっと読む）

【課題】生産性の向上を図ることができる、フォトニック結晶を用いた光学素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】自己クローニング法により成長基板７上に形成されたフォトニック結晶積層体９に対して、その成長基板７側と反対側の面に、成長基板７とは別の支持基板２が接合される。そして、フォトニック結晶積層体９は、成長基板７に支持される積層体残存部分１０と、支持基板２に支持されるフォトニック結晶３とに分割される。これにより、支持基板２とこれに支持されたフォトニック結晶３とを備える光学素子１が得られる。 （もっと読む）

【課題】動作の効率が良好なフォトニック結晶を提供する。
【解決手段】屈折率が異なる少なくとも２種の材料を含み、これらの材料が周期的構造を与えるフォトニック結晶。該フォトニック結晶の少なくとも一部に非線形光学材料を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、生産効率が高く、かつ、均一性の高い3次元フォトニック結晶の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明の製造方法は、基板（Q）に真球状粒子（P）のスラリーを充填し集積することにより構成される立方最密充填構造及び六方最密充填構造の少なくとも一方からなる3次元フォトニック結晶（C）の製造方法であって、真球状粒子（P）の集積ドライビングフォースとして遠心力を使用することを特徴とするものである。 特に好ましくは、基板（Q）に規則的な穴又は溝を形成し、その穴又は溝に真球状粒子（P）のスラリーを充填し、遠心力を基板（Q）の表面に対して垂直に加えて穴又は溝に真球状粒子（P）を集積する3次元フォトニック結晶（C）の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
光導波路素子の多機能化や高機能化を実現でき、しかも製品の生産性を改善し、さらには光導波路素子の動作特性の劣化を抑制することが可能な光導波路素子を提供すること。
【解決手段】
厚みが２０μｍ以下の薄板１と、該薄板に少なくとも一つの光導波路２が形成された光導波路素子において、該薄板が支持基板５に接着剤４を介して接着固定されており、該薄板の該支持基板に接着固定された面上に、該薄板及び該接着剤より屈折率の高い膜が、該光導波路の少なくとも一部に接して又は近接して装荷されていることを特徴とする。
好ましくは、該薄板が、非線形光学効果又は電気光学効果を有する材料で形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
小型化・集積化が可能で、かつ作製が容易で、しかも光ファイバーとの結合を簡単に行うことができる偏波分離素子を提供する。
【解決手段】
スラブ光導波路からなる偏波分離素子１であって、スラブ光導波路のコア層１２を形成する材料が複屈折材料であって、その屈折率が、下クラッドまたは上下クラッドとの境界面に平行な偏波成分のみをもつＴＥ波と、前記境界面に垂直な偏波成分のみをもつＴＭ波とで異なることを特徴とする。 （もっと読む）

共振器（３２、１３２、２３２、３３２、４３２、５３２）を利用する種々の実施形態及び方法が開示される。
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