説明

Fターム[2H147EA02]の内容

光集積回路 (45,729) | 導波路・基板・その他特徴部の材料 (9,968) | 主成分、ホスト材料 (9,122) | 無機材料 (4,593)

Fターム[2H147EA02]の下位に属するFターム

Fターム[2H147EA02]に分類される特許

161 - 180 / 221


【課題】光デバイスの製造等に有用な新規材料の提供。
【解決手段】有機フォトクロミック化合物を用いて物体表面に所定の立体構造を構築する方法において、前記有機フォトクロミック化合物として、第一の光の照射により、第一のガラス転移温度を有する第一状態に変化する一方、前記第一の光の波長とは異なる第二の光の照射により、前記第一のガラス転移温度よりも低い第二のガラス転移温度を有する第二状態に変化する有機フォトクロミック化合物を選択すると共に、前記有機フォトクロミック化合物を前記物体表面に適用した後、前記第一のガラス転移温度よりも低く前記第二のガラス転移温度と同程度かより高い温度下で、前記有機フォトクロミック化合物を適用した部位の内、所望領域に前記第二の光を照射し、当該部位を平坦化する工程、を含むことを特徴とする方法。 (もっと読む)


【課題】平面的な発光の拡がりを実現し、発光面の輝度を向上する。
【解決手段】矩形導波路コア10に沿って進行する導波モード光を、矩形導波路コア10の側面に形成された2次の回折格子11により矩形導波路コア10の側面にほぼ垂直な方向に放射モード光200として取り出し、矩形導波路コア10の側面方向に広がる蛍光材料若しくは拡散材料を含む平面導波シート20により、平面的に取り出す。 (もっと読む)


【課題】 回路設計の自由度が高く、かつ微細な配線からなる多層配線基板や立体配線基板として好適に用いられる三次元配線構造を製造する方法を提供する。
【解決手段】 三次元的に連続な空孔を有する多孔質体に対し、異なる二次元パターンを光の入射方向において少なくとも2つ有する三次元配線パターンを露光する工程と、前記露光後の多孔質体の露光部または未露光部の空孔内に、導電物質またはその前駆体を選択的に充填する工程とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高加工精度な三次元ナノフォトニック結晶を容易に形成できる製造方法を提供する。
【解決手段】 第1の面と、第2の面とが第1の角度で交差する面を有する母材を用意する工程と、前記母材の第1の面に第1のマスクを形成する工程と、該第1のマスク上から前記第1の面に対して第2の角度でドライエッチング処理によって、前記第1のマスクにより保護されていない前記母材の一部を除去する工程と、
前記第2の面に第2のマスクを形成する工程と、該第2のマスク上から前記第2の面に対して第3の角度でドライエッチング処理によって、前記第2のマスクより保護されていない前記母体の一部を除去する工程と、
を行う。 (もっと読む)


【課題】反射率が製造誤差や温度,光の波長等の使用条件による変動の影響を受け難く、反射率を製造後に調整可能な光導波路型の光反射器を提供すること。
【解決手段】この光反射器では、それぞれ入力用光導波路101,出力用光導波路102に結合された結合用光導波路103,104から成る方向性結合器120の出力側光導波路同士がループ状光導波路105により光学的に接続されると共に、結合用光導波路104に対して実効屈折率の差を変化させるための屈折率差可変手段としての屈折率制御手段106を設けた構成であり、屈折率制御手段106で結合用光導波路103,104間の実効屈折率に差を生じさせることによって、反射率が製造誤差や温度,光の波長等の使用条件による変動の影響を受け難くしており、しかも製造後に屈折率制御手段106を調整することにより反射率を調整できるようになっている。 (もっと読む)


【課題】スペースを取らずに精度よく光回路を接続することのできる光回路基板と、そのような光回路基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基板表面に光ファイバーを回路状に載置固定した光回路基板であって、光ファイバーの端部が基板表面に対して90度の方向に最も光を屈折あるいは反射できる角度を有するように切断されており、その切断面の真下に基板を貫通する穴であって、その内壁が金属化された穴を有しており、光ファイバーの切断面の真下に設けた穴が、光透過性の樹脂で充填されている光回路基板と、その製造方法。 (もっと読む)


【課題】電気光学結晶について低コストで大量生産を可能にする。
【解決手段】レジスト2を塗布したウエハ1の表面を研削加工することによってリッジ50を形成し、リッジ50を形成した面に電極30を蒸着する。そして、リフトオフによってリッジ50の上面の電極30を分離して、リッジ50を挟んで対向した電極30a、30bを形成する。これにより、安価で大量に電気光学素子100を提供することができる。また、電気光学素子100を凸型面においてへき開して分離する。これにより、レーザー光を入射する凸型面を研磨する工程を不要とすることができる。 (もっと読む)


【課題】 光学測定装置における光源の波長シフトや光軸の微妙なズレに対して、簡便な方法によって測定機器の異常を検知し、較正することが可能な、光学測定装置検査用チップの実現、およびこの検査用チップを用いた医療用光学測定装置の検査、較正、及び測定結果の補正の簡便な方法を実現することを目的としている。
【解決手段】 この検査用チップは、透明基板11と、該透明基板11表面上に形成され、光を全反射させながら該透明基板表面と平行な方向に導波させる機能を有する光導波路層薄膜12と、該光導波路層薄膜表面に形成した、導波する光の波長の少なくとも一部を吸収する光学特性を有する光吸収材料層13を備えたものである。
この検査用チップを用いて、測定を行い、得られた光減衰率が基準減衰率と大幅に異なっている場合に装置の異常と判断する。 (もっと読む)


【課題】素子サイズを小さくできるともに、低消費電力で、より高速で動作できるマッハ−ツェンダー型の光変調器や光減衰器を提供する。
【解決手段】マッハ−ツェンダー型の干渉光学系における1対の分岐光導波路7A,7Bの少なくとも一方に、その分岐光導波路を伝搬する光波信号を変調するリング共振型位相シフタを設ける。リング共振型位相シフタは、対応する分岐光導波路7Aにモード結合するように配置されたリング型光導波路3を備え、対応する分岐光導波路7Aとリング型光導波路3との間の振幅分岐比Kを、例えばpn接合における電圧印加に伴う屈折率変化などを通じて、変化させることができるように構成される。振幅分岐比Kを変化させることにより、分岐光導波路7A,7Bを伝搬する光波信号の間の位相差が変化し、出力光導波路5から出力される光波信号の強度が制御される。 (もっと読む)


能動的な温度調整を用いて、光集積回路(455)の1つ又は複数の光学素子の温度を安定させるために、光集積回路の線形化された熱及び光学モデルを用いることができる。アレイ導波回折格子(AWG)のような単一の光学素子を安定させるために、回折格子に近接して、温度センサ(425)及びヒータ(427)を配備することができる。その後、熱係数及び光学係数を用いて、センサから読み値を受信し且つヒータにおいて散逸される電力を求める温度コントローラ(400)に適した温度設定点を選択することができる。クロスヒーティング要因を他の環境的な要因と共に一纏めにして、複数のAWGを個別に安定させることができる。
(もっと読む)


【課題】下部電極と上部電極との距離を可及的に小さく抑え、コア層に印加する電圧を効率良く十分に確保して消費電圧を低減させると共に、光導波路の光損失量を小さく抑える信頼性の高い光学素子を提供する。
【解決手段】基板1と、基板1上に形成された電気光学材料からなる光導波路2とを備えて光偏向素子が構成されている。光導波路2は、下部クラッド層3と上部クラッド層5との間に光路が形成されるコア層4が挟持されて構成されている。下部及び上部クラッド層3,5は、導電性酸化物を材料として形成されており、コア層4に電圧を印加するための下部及び上部電極を兼ねている。 (もっと読む)


【課題】 広い波長領域で良好なるフォトニックバンドギャップを呈し、しかも製造が容易な3次元フォトニック結晶を得ること。
【解決手段】 屈折率周期構造を含む複数の層を周期的に積層した3次元フォトニック結晶であって、長方格子1の各格子点と、長方格子2の各格子点に、第2の媒質より成る孔を有し、孔以外の領域を第1の媒質で満たした周期構造より成る第1の層と、面心長方格子の各格子点に、第3の媒質からなり積層方向に軸を有する柱状構造と、柱状構造以外の領域を前記第2の媒質で満たした周期構造より成る第2の層と、第1の層に含まれる周期構造をずらした位置に形成される周期構造より成る第3の層と、第2の層に含まれる周期構造が第2の層と同じ位置に形成される周期構造より成る第4の層を有し、第1の層、第2の層、第3の層、第4の層の順に周期的に積層されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 非典型的又は過酷な条件下で電気光学デバイスを適合させる方法を提供する。
【解決手段】(1)デバイス作製工程202、(2)基板清浄工程204、(3)不動態化工程206、及び(4)シーリング工程208を含む。清浄工程は、デバイスを真空チャンバで加熱して210(例えば、〜60℃及び〜60cmHgで〜40時間)、基板上に集まった水を排除できる。次いで、デバイスを、プラズマエッチングする212シーリング工程は、ダイマー粉末がガスへと気化する約150℃の温度まで加熱されるときに始まる214。次に、パラキシリレンガスは熱分解炉中に拡散し、そこで、約650℃の温度まで加熱され、それによりパラ−キシリレンダイマーの分子結合は十分に破壊され、モノマーへと転化される216。真空下で、モノマーであるパラ−キシリレン分子は、コーティングチャンバへ移動、蒸着218する。 (もっと読む)


【課題】光の回折限界を超えた微小サイズの近接場導波路を提供する。
【解決手段】エネルギー準位が量子化された量子ドットを配列した近接場導波部と、前記近接場導波部の両端の外側に設けられた1対の電極と、前記近接場導波部の一端の量子ドットに近接場を導入する近接場励起部と、前記近接場導波部の他端の量子ドットから近接場を出力する近接場出力部とを有することを特徴とする近接場導波路。 (もっと読む)


【課題】光変調器において、光導波路の湾曲部分における曲率半径を小さくできるようにし、かつ湾曲部分における光放射損失を抑制する。
【解決手段】光変調器2は、電気光学光学効果を有する強誘電性材料からなる光導波路基板、光導波路基板に形成されている光導波路5、および光導波路5を伝搬する光を変調するための電圧を印加する変調用電極4A、4B、4Cを備える。少なくとも光導波路5の領域における光導波路基板の厚さが30μm以下である。光導波路5が曲率半径30mm以下の湾曲部分5c、5dを含んでいる。 (もっと読む)


本発明は、コロイドナノ粒子を利用したコロイドフォトニック結晶の製造方法において、前記コロイドナノ粒子含有溶液に粘弾性物質を添加する工程を含むことを特徴とするコロイドナノ粒子を利用したコロイドフォトニック結晶の製造方法を提供する。また、本発明は、自己構成されたナノ粒子及び前記ナノ粒子を一定の弾性をもって固着させる粘弾性物質を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶を提供する。また、本発明は、上記方法によって製造されたコロイドフォトニック結晶粒子の空隙にまた別の層のコロイド粒子、半導体粒子、金属粒子、または金属酸化物粒子を自己構成する工程を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶基材の製造方法を提供する。また、本発明は、上記方法によって製造されたコロイドフォトニック結晶を鋳型にして逆相鋳型を製造する工程; 及び前記逆相鋳型の構造及び形態を基材に転写する工程を含むことを特徴とするコロイドフォトニック結晶基材の製造方法を提供する。
(もっと読む)


【課題】高周波マグネトロンスパッタリングにより、同じ特性で、熱的安定性に優れた誘電体薄膜を、安定した成膜速度で形成する方法を提供する。
【解決手段】高周波マグネトロンスパッタリングでは、ターゲットに印加された高周波電力により、ターゲットに直流電圧が誘起される。本発明の形成方法によれば、ターゲットに誘起される電圧の直流成分の絶対値を50V以上として成膜をおこなうことにより、誘電体薄膜を安定した成膜速度で成膜することが可能になるとともに、一定の屈折率値の膜が得られるようになり、さらに、得られた膜の熱的安定性が向上する。 (もっと読む)


【課題】 自立薄膜フィルタと接着剤の界面において発生する光のロスの少ない光フィルタユニットを提供する。
【解決手段】 光フィルタユニット1には、ダイシングソー等により溝8が形成され、その中に自立薄膜フィルタ4が嵌め込まれて、接着剤7で固定されるようになっている。溝8の幅は約50μm、自立薄膜フィルタ4の幅は約30μmである。自立薄膜フィルタ4は、高屈折物質であるNbの薄膜と、低屈折率物質であるSiOの薄膜を交互に多層重ねて形成されているが、その両最外層は、SiOとされている。SiOの屈折率は、1.46であるので、接着剤7の屈折率もそれとほぼ同じ1.46±0.01となるようなものが使用されている。このような光フィルタユニット1においては、自立薄膜フィルタ4と接着剤7との屈折率の差が0.01以下であるので、それらの界面での反射がほとんど発生しない。 (もっと読む)


【課題】フォトニック結晶を用いて極めて簡素且つ微細な構成で透過波長の大きな変調を得る。
【解決手段】光学素子10は、圧電材料からなる光導波路1と、光導波路1内に設けられたフォトニック結晶構造2と、光導波路1の上下面を挟持するように設けられてなり、光導波路1に電圧を印加する一対の制御電極3,4と、下部の制御電極4の両端に設けられた支持部5とを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】微視的な領域で配向を任意に変えた光学素子を提供すること。
【解決手段】光学素子が、基板(1)又は2つの間隔をおいた基板からなるセルと、基板上の1つまたはそれ以上の配向層(2)と、架橋した液晶モノマー又はオリゴマーの1つまたはそれ以上の異方性層(3)とを有する。液晶層に隣接する配向層の表面は、局所の規定された平行な又は扇状のライン構造のある配向パターン(4,5)を有する。ライン間の平均間隔は、液晶層の厚さより大きくなく、隣接するライン間の角度を3°より大きくない。 (もっと読む)


161 - 180 / 221