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Fターム[2H147EA10]の内容

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Fターム[2H147EA10]に分類される特許

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【課題】ハンドリング性を低下させることなく製造することができると共に、厚さを薄くし、且つ、屈曲性を向上させた光電気複合基板、この光電気複合基板の製造方法、及びこの光電気複合基板を用いた、光電気複合モジュールを提供すること。
【解決手段】導体パターンが形成された電気配線基板の導体パターン形成側表面に直接、下部クラッド層が積層され、該下部クラッド層上にコアパターン及び上部クラッド層が積層されてなる、光電気複合基板、この製造方法、及びこれを用いた光電気複合モジュール。 (もっと読む)


【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上に、パターニングされた下部クラッド層、光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、該レジスト用コアパターンと配線パターン、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、該配線パターンが、下部クラッド層のパターン形状の開口部に設けられ、かつ、積層方向において基材とレジスト用コアパターンとに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高精度かつ効率よく光導波路の位置を測定できる検査工程を備えた光電気複合基板及び光電気複合モジュールの製造方法、並びにそれにより得られる光電気複合基板及び光電気複合モジュールを提供すること。
【解決手段】下部クラッドが形成された基板の一方の面上に、コアパターンとともにダミーコアをパターニングする工程(A)と、コアパターン及びダミーコアに反射ミラーを形成する工程(B)と、基板の他方の面上に、電極パターンとともに、反射ミラーによりダミーコアの反射光が投影される投影領域の近傍に遮光パターンをパターニングする工程(C)と、遮光されずに通過したダミーコアの反射光の輝度総量に基づき、コアパターンと電極パターンとの位置ずれ量を測定する工程(D)とを含むことを特徴とする光電気複合基板の製造方法、及び該製造方法による光電気複合モジュールの製造方法、並びに該製造方法により製造される光電気複合基板及び光電気複合モジュール。 (もっと読む)


【課題】成形型を用いてオーバークラッド層を形成する場合に、その成形型を位置決めする際に利用するアライメントマークを、CCDカメラ等の認識装置により容易に認識できるようにする光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板10上に形成したアンダークラッド層1の上面に、コア2とアライメントマークとをフォトリソグラフィ法により突出形成し、そのアライメントマークを目印として位置決めされる成形型を用いてオーバークラッド層を形成する光導波路の製法において、上記アライメントマークの形成に、フォトマスク20として、アライメントマーク形成用の開口パターン23が、開口部23aと、この開口部23aの周囲の、開口率が10%を上回り80%を下回る範囲内に設定された透光量減少領域23bとからなるものを用い、アライメントマークの周側面を傾斜面に形成する。 (もっと読む)


【課題】光学特性を向上させ、製造に要する期間の短縮及びコストの低減を図ると共に、クロストークノイズ等の発生を抑制すること。
【解決手段】2層光導波路10は、第1の面12a及びこれと反対側の第2の面12bを有するコア層12と、このコア層の第1の面12aに積層されたクラッド層18とを有する。コア層12の第1の面12a側の少なくとも2箇所に、コア層12内を伝搬する光信号を第2の面12b側に指向させるミラー構造が設けられている。このミラー構造は、コア層12の第1の面12a側から形成された傾斜面14及び該傾斜面上に形成された金属膜16を含む。 (もっと読む)


【課題】光導波路と配線パターンとの位置ずれの少ない光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光信号伝達用コアパターン、レジスト用コアパターン、配線パターン、パターニングされた下部クラッド層、及び上部クラッド層を有する光電気複合基板であって、下部クラッド層のパターン形状の開口部に、配線パターン及びレジスト用コアパターンが埋め込まれ、かつ、配線パターンが、積層方向に直交する任意の一方向においてレジスト用コアパターンに挟持されていることを特徴とする光電気複合基板及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】 X線の伝搬損失が少なく、導波モードが位相制御されたX線導波路を提供する。
【解決手段】 X線導波路は、物質の屈折率実部が1以下となる波長帯域のX線を導波させるためのコア404と、コア404にX線を閉じ込めるためのクラッド402,403と、を備える。コア404とクラッド402,403が、コア404とクラッド402,403との界面での全反射によりX線をコアに閉じ込めてX線を導波するように構成されている。コア404が、屈折率実部が異なる複数の物質が2次元以上の方向に周期的に配列された周期構造を持つ。X線導波路には、コア404のX線の導波方向に垂直な方向においてX線の電場強度分布または磁場強度分布の腹または節の数と周期構造の周期数とが一致する導波モードが存在する。 (もっと読む)


【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、基板によらずに光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタを提供する。
【解決手段】基板上に、ファイバ導入溝を有する光ファイバガイド用コアパターンが形成された光ファイバガイド部材と下部クラッド層上に光信号伝達用コアパターン及び上部クラッド層が順次形成された光導波路とが並設され、光ファイバガイド部材が、光ファイバガイド用コアパターン若しくは第1下部クラッド層と光ファイバガイド用コアパターンとからなり、光ファイバガイド用コアパターン上には上部クラッド層が形成されておらず、且つ、光ファイバガイド部材の光ファイバ導入溝に固定された光ファイバが、光導波路の光信号伝達用コアパターンに光信号を伝達可能な位置に接合するように、光ファイバガイド部材と光導波路が並設された光ファイバコネクタとする。 (もっと読む)


【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路1は、コア層13を有する。コア層13は、少なくとも2つのクラッド部15と、2つのクラッド部15に隣接して設けられ、クラッド部15の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部15に向かって低くなっており、光を伝送するコア部14とを備え、エポキシ系ポリマーと、このエポキシ系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部14とし、他方をクラッド部15としてなる。 (もっと読む)


【課題】メサ部上の樹脂領域の開口が狭い場合であっても、AuZn膜を含む金属膜をメサ部上に容易に形成することが可能な半導体光変調素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メサ部32を保護膜22によって覆う第1の絶縁膜形成工程と、メサ部32を樹脂領域20によって埋め込むとともに、メサ部32上の該樹脂領域20の部分に開口20cを形成する工程と、開口20cにおいて露出した保護膜22、及び樹脂領域20を保護膜24によって覆う第2の絶縁膜形成工程と、メサ部32上の保護膜22,24の部分に開口を形成する工程と、Ti膜を含む金属膜26aを、該Ti膜と保護膜24とが互いに接触するように開口20c内を除く樹脂領域20上に形成する工程と、Au膜を含む金属膜26bを、該Au膜とメサ部32とが互いに接触するようにメサ部32上から金属膜26a上に亘って形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路1は、コア層13を有する。コア層13は、少なくとも2つのクラッド部15と、2つのクラッド部15に隣接して設けられ、クラッド部15の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部15に向かって低くなっており、光を伝送するコア部14とを備え、ポリイミド系ポリマーと、このポリイミド系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部14とし、他方をクラッド部15としてなる。 (もっと読む)


【課題】伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、信頼性の高い光導波路、およびかかる光導波路を備える電子機器を提供すること。
【解決手段】光導波路1は、コア層13を有する。コア層13は、少なくとも2つのクラッド部15と、2つのクラッド部15に隣接して設けられ、クラッド部15の平均屈折率より平均屈折率が高く、かつ屈折率が中心部からクラッド部15に向かって低くなっており、光を伝送するコア部14とを備え、(メタ)アクリル系ポリマーと、この(メタ)アクリル系ポリマーと屈折率が異なるモノマーとを含む層に対して活性放射線を照射して、照射領域内において、モノマーの反応を進行させることにより、未照射領域から、未反応のモノマーを照射領域に拡散させ、結果として、照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせることにより、照射領域および未照射領域のいずれか一方をコア部14とし他方をクラッド部15としてなる。 (もっと読む)


【課題】光変調特性が高性能であるとともに、光の挿入損失について改善された光変調器を提供する。
【解決手段】光導波路と、高周波電気信号を印加するための進行波電極と、光にバイアス電圧を印加するためのバイアス電極と、進行波電極に高周波電気信号を印加することにより光の位相を変調するための高周波電気信号用相互作用部と、バイアス電極にバイアス電圧を印加することにより光の位相を調整するためのバイアス用相互作用部とを具備し、高周波電気信号用相互作用部とバイアス用相互作用部の両方にリッジ部を具備する光変調器において、バイアス用相互作用部に形成されたリッジ部の頂面における相互作用光導波路の端から当該頂面の端までの距離が、高周波電気信号用相互作用部に形成されたリッジ部の頂面における相互作用光導波路の端から当該頂面の端までの距離よりも大きく形成され、バイアス用相互作用部における光の伝搬損失を低減する。 (もっと読む)


【課題】光導波路のコアと光路変換手段とが高い位置精度で形成された光回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光回路基板100は、プリント配線板110と、これに平行に配置された光導波路120とを備えており、光導波路120の所定の位置に光路変換手段のミラー130が設けられている。ミラー130は、導体パターン層111と同じ銅で形成されており、プリント配線板110上に光導波路120が形成される前に、導体パターン層111の形成と同時に形成されている。 (もっと読む)


【課題】 リッジ構造やブリッジ構造など有する光導波路においては、コアから外部環境までの距離が非常に短く、コア周辺のクラッドを構成するPSGやBPSGの湿気による変質は、屈折率や応力変化をもたらし、光導波路の特性を容易に変化させてしまう。そこで本発明は、コア周辺のクラッドの湿気による変質を防止することが可能な光導波路、光導波回路およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 光が導波するコアと、コアを覆うクラッド層と、クラッド層の露出部分を覆う湿性部材とを含む。 (もっと読む)


【課題】異なる大きさのコアパターンを位置ズレが無く、一括形成できるため、効率よく、低コストで光導波路を製造できる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基材1上に、下部クラッド層4、コアパターン5,6、上部クラッド層7を順に積層する光導波路の製造方法であって、下部クラッド層4に凹凸部を形成し、凹部8と凸部9にコアパターン5,6を同時に形成し、凸部9に形成されたコアパターンの厚さが、凹部8に形成されたコアパターンよりも薄いことを特徴とする光導波路の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】検出感度に優れる比色センサセルおよび比色センサを提供すること。
【解決手段】検知部30と、検知部30に隣接するサンプル配置部31とを備える比色センサセル1において、検知部30に、第1樹脂からなるアンダークラッド層3と、第2樹脂からなり、アンダークラッド層3に被覆されるコア層4とを備える光導波路を備えて、コア層4のアンダークラッド層3と接触する表層に、第1樹脂が第2樹脂に浸透されている樹脂混合層23を形成する。 (もっと読む)


【課題】光導波路と電気回路を高密着に複合化でき、受発光素子と光回路の結合損失や、光導波路の損失のない光電気複合配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板11上に形成された第1クラッド層12上にコア13を形成するコア形成工程と、少なくとも片側の表面が粗面化された金属基材16に、未硬化の樹脂組成物を含む第2クラッド材料層17を形成する第2クラッド材料層形成工程と、前記金属基材16が積層された第2クラッド材料層17を、前記第1クラッド層12上に形成されたコア13に埋設するように第2クラッド層12を積層するクラッド層積層工程と、前記第2クラッド材料層17の未硬化樹脂組成物を硬化して第2クラッド層18を形成する第2クラッド層形成工程と、前記金属基材16上に電気回路を形成する電気回路形成工程と、を有し、前記第2クラッド層12の樹脂組成物の屈折率が、コア13の屈折率より低いことを特徴とする光電気複合配線板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】少なくともクラット層と該クラット層状にコア層とを積層した光導波路を切削して溝を形成する際に、光導波路の縁に発生するバリを低減し得る、溝付き光導波路の製造方法、及びその製造方法により得られる溝付き光導波路、並びにその溝付き光導波路を備える光電気複合基板を提供すること。
【解決手段】コア層とクラッド層との境界面又は該境界面よりもコア層側の位置まで前記円形回転ブレードの切削刃先端を下ろし、コア層側からコア層を切削する第1の工程と、前記境界面からクラッド層側へ7〜18μm下げた位置まで、前記円形回転ブレードの切削刃先端を下ろし、コア層側からコア層及びクラッド層を切削する第2の工程と、からなる溝付き光導波路の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造効率の高い光電気複合配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板11上に形成された第1クラッド層12の表面に、コア部13を形成して、積層体を形成するコア部形成工程と、光を反射させるための傾斜面15aを、コア部13に形成する傾斜面形成工程と、積層体の、コア部13が形成された側の表面のうち、少なくとも傾斜面15a上及び電気回路を形成する箇所に金属層16を形成する金属層形成工程と、傾斜面15a上及び電気回路を形成する箇所に金属層16を残存させるように、金属層16を除去することによって、電気回路16bの形成と同時に、傾斜面15a上に金属層からなるミラー部16aを形成する金属層除去工程と、第1クラッド層12上に形成されたコア部13を埋設するように第2クラッド層17を形成するクラッド層形成工程とを備える光導波路の製造方法を用いる。 (もっと読む)


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