【課題】光通信、光集積回路基板に利用可能な光路長の温度依存性が小さい材料を提供する。
【解決手段】Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓから選ばれる１種以上の成分及びＮｂ、Ｔａから選ばれる１種以上の成分を含有するペロブスカイト型（ＡＢＯ_３）酸化物材料は、光路長温度係数（ＯＰＤ、ここでＯＰＤ＝１／Ｓ・ｄＳ／ｄＴ＝ＣＴＥ ＋ １／ｎ・ｄｎ／ｄＴであって、Ｓが光路長、ＣＴＥが線熱膨張係数、ｎが屈折率、ｄｎ／ｄＴが屈折率の温度係数である）が制御可能であり、特にその絶対値が６ｐｐｍ／℃以下と光路長の温度依存性が極めて小さく、光通信用フィルター、光集積回路基板などに利用可能である。 （もっと読む）

【課題】露光装置等の高価な装置を使用することなく低コストで製造でき、生産性に優れた光路変換用のミラー部品を提供する。
【解決手段】光導波路の光伝送方向の端面に接合される光路変換用のミラー部品であって、内部を光が伝播する導光部と、前記導光部の内部において光を入射方向と垂直な方向に反射させる４５°ミラー面とを少なくとも有し、前記導光部は、前記４５°ミラー面に対向し、光導波路と接合される接合面（第１の面）と、前記４５°ミラー面を形成する第２の面と、前記４５°ミラー面に対向し、光を入射又は出射させる第３の面とを少なくとも有することを特徴とするミラー部品。 （もっと読む）

【課題】損失を小さくして光の伝送ロスを小さくすることができるとともに、コア材の流出を防止して歩留まりを向上させることができる光導波路付き配線基板を提供すること。
【解決手段】光導波路付き配線基板１０は、配線層４２と絶縁層３３，３４とを積層してなり、基板厚さ方向に沿って延びる孔８０内に光導波路８２を備える。光導波路８２は、光信号が伝搬する光路となるコア８３及びコア８３を取り囲むクラッド８４を有する。なお、クラッド８４の屈折率はコア８３の屈折率よりも小さく、コア８３及びクラッド８４の比屈折率差は１．４％以上である。また、コア８３を形成するためのコア材及びクラッド８４を形成するためのクラッド材は、クラッド材の硬化物からなるシート上にコア材を未硬化状態で滴下したときの接触角が３５°以上となるような組み合わせとされている。 （もっと読む）

【課題】長波長用の可変光モジュールに用いることができる電気光学特性に優れた光学素子を提供する。
【解決手段】シリコンを含有する単結晶基板１１０と、単結晶基板１１０上にエピタキシャル成長により形成された第１の電極１３０と、第１の電極１３０上にエピタキシャル成長により形成された電気光学効果を有する電気光学膜１６０と、電気光学膜１６０上に形成された第２の電極１８０とを備え、第１及び第２の電極１３０及び１８０は、電気光学膜１６０の膜厚方向に電圧を印加するためのものであり、電気光学膜１６０は、単一配向を有しない結晶化膜である光学素子。 （もっと読む）

【課題】光リング共振器において光学素子による損失を低減する。
【解決手段】本発明の一実施形態によるリング共振器は、リング状光導波路と、リング状光導波路に光を入力する入力用の光結合器と、リング状光導波路から光を出力する１以上の出力用の光結合器と、リング状光導波路に配置された１以上の光学素子とを備える。１以上の光学素子は、入力用の光結合器から入力された光の伝搬方向において、入力用の光結合器とその次の出力用の光結合器との間の全損失が他の光結合器間の全損失の総和よりも小さくなるように配置される。あるいは、１以上の光学素子は、入力用の光結合器から入力された光の伝搬方向において、最後の出力用の光結合器と入力用の光結合器との間の全損失が他の光結合器間の全損失の総和よりも大きくなるように配置される。 （もっと読む）

【課題】粘度の増加がなく保存安定性に優れた無機ナノ粒子分散ペーストを提供する。また、これを用いて光透過性や熱機械特性、絶縁信頼性が良好な光導波路を安定して作製できる。
【解決手段】（Ａ）無機粒子、（Ｂ）重合性基およびカルボキシル基を有する化合物、（Ｃ）重合性基を有するアミン化合物、および（Ｄ）有機溶媒を含むペースト。 （もっと読む）

【課題】電圧を印加することにより屈折率が可変な半導体コア領域と屈折率が可変ではないコア領域との接続部において、屈折率が可変な半導体コア領域から屈折率が可変ではないコア領域を経由した不要なリーク電流を低減することが可能な光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子ＷＧ１のコア１は、第１導電型の第１半導体コア領域３２と、第１半導体コア領域３２とギャップ部４０を挟んで対向配置された第２導電型の第２半導体コア領域３３と、第１半導体コア領域３２と光の導波方向において隣接する第２導電型又は無極性の第３半導体コア領域２２と、第２半導体コア領域３３と光の導波方向において隣接し、第３半導体コア領域２２とギャップ部４０を挟んで対向配置された第１導電型又は無極性の第４半導体コア領域２３と、を部分領域として含み、第１半導体コア領域３２と第２半導体コア領域３３とに電極が接続されている。 （もっと読む）

【課題】従来の光配線材料を用いてガラスエポキシ基板などの光が拡散反射する基板上にてパターン加工を行うと、明瞭なパターン形成が困難な場合があった。また、これを用いた光導波路の光伝搬損失が大きくなることがあった。
【解決手段】紫外線吸収剤を含有する下部クラッディング層、およびコア層を有する光導波路形成用材料である。また、これを用いて製造した光導波路である。
る光導波路形成用材料である。また、これを用いて製造した光導波路である。 （もっと読む）

光導波路のコアが、凸部と凹部とを交互に有するグレーティング構造を有し、前記凹部におけるコアの幅が不均一である基板型光導波路デバイスの製造方法であって、高屈折率材料層を形成する高屈折率材料層形成工程と、前記高屈折率材料層の上に、フォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、位相シフト型のフォトマスクを用いて、遮光領域を前記フォトレジスト層上に形成する第１の露光工程と、バイナリ型のフォトマスクを用いて、遮光領域を前記フォトレジスト層上に形成する第２の露光工程と、前記フォトレジスト層を現像する現像工程と、前記現像工程により得られたフォトレジストパターンを用いて前記高屈折率材料層をエッチングするエッチング工程と、を有する基板型光導波路デバイスの製造方法。
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【課題】 光半導体素子に設けられる光素子に、不所望に光が入射することを防止すること。
【解決手段】 光導波路部材２を含む光配線基板２０と、この光配線基板２０に対してフリップチップ実装される第１及び第２の光半導体素子３とを有する光配線モジュール１であって、光導波路部材２は、クラッド層６，８と、クラッド層６，８上に積層され、光路変換手段４０を有する複数のコア層７と、を含んで構成され、光配線基板２０上には、第１の光半導体素子３に設けられる光素子４と、第２の光半導体素子３の光素子４との間に設けられ、非光透過性の樹脂から成る遮光部材６２が配置されていることを特徴とする光配線モジュール１。 （もっと読む）

【課題】充分に長い共振器長を確保できるとともに、作成を容易とすること。
【解決手段】共通の平面１２ａ内において１個の交差領域Ｃで交差して配置された線分状の３本の光導波路Ｗ１〜Ｗ３と、 交差領域から外側に向かって延在する光導波路の部分のそれぞれを、時計回りに第１〜第６光導波路部分とするとき、第２ｉ−１及び第２ｉ光導波路部分（ｉは１〜３の整数）の交差領域とは反対側の端部同士を接続する湾曲光導波路Ｐｉと、平面に垂直に入出力される光を光導波路に結合するととともに、光導波路が接続されていて交差領域を含む領域に形成された光カプラＫとを備える （もっと読む）

【課題】薄型の光結合素子を安価に提供する。
【解決手段】相互に電気的に絶縁されている発光素子１及び受光素子２と、発光素子１から受光素子２へと光を伝達する光導波路３とを備える。光導波路３は光反射性無機粒子を含有する封止樹脂４により覆われている。光反射性無機粒子は、例えば、酸化チタンからなる。発光素子１と受光素子２は、それぞれ基台（例えば、パッケージ端子７）上に設けられ、光導波路３の外面のうち、発光素子１、受光素子２及び基台の何れにも接していない部分の全体が、封止樹脂４により覆われている。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン原子を含まず、可視〜近赤外領域に吸収帯をもたない、光導波路用組成物および製造方法を提供する。
【解決手段】酸化ジルコニウム微粒子の外周面に、シリコーンオリゴマーおよびシリコーンオリゴマー重合体が結合してなる酸化ジルコニウム微粒子（Ａ）および光酸発生剤（Ｂ）を含有する光導波路用組成物である。この光導波路用組成物は、酸化ジルコニウム微粒子の水分散液に、シリコーンオリゴマーを混合し、酸性領域下、シリコーンオリゴマー同士の重合反応、および、酸化ジルコニウム微粒子表面へのシリコーンオリゴマーおよびシリコーンオリゴマー重合体の結合反応を生起させて、酸化ジルコニウム微粒子の外周面に、シリコーンオリゴマーおよびシリコーンオリゴマー重合体が結合してなる酸化ジルコニウム微粒子（Ａ）を調製する。ついで、この酸化ジルコニウム微粒子（Ａ）に、光酸発生剤（Ｂ）を配合することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、位相制御器として原理的に透過光が減衰し、当該部位において過剰な伝送損失が発生するような機構を適用した場合に、その出力光強度を向上せしめ、消光比を改善する技術に関する。
【解決手段】本発明は、入力光導波路５と、分波部６と、第１の光路７及び第２の光路８と、第２の光路に設けられた光変調部１２と、前記第１の光路と第２の光路に接続された合波部９と、該合波部からの合波光が出射される出力導波路１０、１１とを有するマッハツェンダ干渉計型光機能素子であって、第２の光路は光変調部に起因して第1の光路よりも光伝搬損失が大きくされ、分波部は固定の非等分岐比とされ、第2の光路に入射する光強度が第1の光路に入射する光強度よりも強くされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 伝送損失が低く、また導波路パターンを形状精度が良くかつ低コストで作製可能な光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるアミド化合物とエポキシ基を有する重合体と光酸発生剤を少なくとも含有する光導波路形成用感光性樹脂組成物により解決できる。
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素数１〜２０のアルキル基または芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^２〜Ｒ^５はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ現像による未露光部の膜厚減少を抑えた硬化膜を得ることができる感光性組成物を提供する。また、本発明の別の目的は、上記の感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】
すなわち本発明は、（ａ）カルボキシル基含有ポリマー、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）ビニルエーテル化合物、（ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。 （もっと読む）

【課題】 ポリイミド系高分子材料の耐熱性と透明性を維持したままで、屈折率と誘電率を低下させることが可能で、反射防止膜、光導波路、層間絶縁膜等の材料として好適に用いることのできる、新規のフッ素含有ハイブリッド材料を提供する。
【解決手段】 本発明の高分子−無機ハイブリッド材料は、２００℃以上の熱分解開始温度を有する耐熱性高分子マトリクス中に金属フッ化物または有機金属フッ化物が分散されてなる。本発明の高分子−無機ハイブリッド材料は、反射防止膜、光導波路、層間絶縁膜を製造するための材料として好適である。 （もっと読む）

２つの対向した側部を有するシリコンウェーハを、光導波路が含む。該シリコンウェーハが、ヘッド部分と第１の柄部分とを含むこととなるように、第１のノッチが、前記２つの対向した側部の各々の中に画定される。
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【課題】電気光学効果を利用した光学素子において、消費電力の低減、電気光学応答の高速化、低電圧化、広帯域化を図ることが可能な光学素子を提供する。
【解決手段】光導波路コアが平板状のフォトニック結晶層１１およびその面の片側にリブ状に設けられた矩形導波路１４からなる光学素子１０において、フォトニック結晶層１１は、Ｐ極性の導電性を有するＰ型領域１１Ａと、Ｎ極性の導電性を有するＮ型領域１１Ｂとを有し、フォトニック結晶層１１の面内には、Ｐ型領域１１ＡとＮ型領域１１Ｂとを隔てる絶縁媒質からなるギャップ領域１３が、矩形導波路１４の中心線と重なる線に沿って設けられる。 （もっと読む）

【課題】光導波路素子について、コアの寸法を大きくし、かく曲率半径を小さくする。
【解決手段】基板２０上に、第１クラッド層３０、導波路層４０及び第２クラッド層５０を順に備えている。導波路層４０は、コア４２と、コア４２を水平方向に挟む位置に設けられたサイドクラッド４４を備えている。第１クラッド層３０及び第２クラッド層５０の屈折率は、コア４２の屈折率より低く、かつ、サイドクラッド４４の屈折率は、コア４２、第１クラッド層３０及び第２クラッド層５０の屈折率よりも低い。 （もっと読む）