【課題】Ｓｉベースのフォトニクスプラットフォーム上で、フォトニックデバイス、Ｇｅ導波路一体型光検出器、およびハイブリッドＩＩＩ−Ｖ／Ｓｉレーザの共集積化のための方法を提供する。
【解決手段】パターン化したＳｉ導波路構造を含むＳｉデバイスを備えたＳｉベースのフォトニクス基板を用意する工程、誘電体層、例えば、ＳｉＯ_２層を、平坦化したＳｉベースのフォトニクス基板の上部に堆積する工程、適切なエッチング深さで溝を誘電体層にエッチング形成して、フォトニクス基板のパターン化したＳｉ導波路構造を露出させる工程、露出した導波路を選択エッチングして、Ｇｅ成長用のテンプレートを作成し、薄いＳｉ層をＧｅ成長用のシード層として残す工程、意図的なＧｅ過成長を伴って、シード層からＧｅを選択成長させる工程、Ｇｅ表面を平坦化し、１００ｎｍ〜５００ｎｍの減少した厚さを持つＧｅ層を残す工程を含む。 （もっと読む）

【課題】メサ部上の樹脂領域の開口が狭い場合であっても、ＡｕＺｎ膜を含む金属膜をメサ部上に容易に形成することが可能な半導体光変調素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】メサ部３２を保護膜２２によって覆う第１の絶縁膜形成工程と、メサ部３２を樹脂領域２０によって埋め込むとともに、メサ部３２上の該樹脂領域２０の部分に開口２０ｃを形成する工程と、開口２０ｃにおいて露出した保護膜２２、及び樹脂領域２０を保護膜２４によって覆う第２の絶縁膜形成工程と、メサ部３２上の保護膜２２，２４の部分に開口を形成する工程と、Ｔｉ膜を含む金属膜２６ａを、該Ｔｉ膜と保護膜２４とが互いに接触するように開口２０ｃ内を除く樹脂領域２０上に形成する工程と、Ａｕ膜を含む金属膜２６ｂを、該Ａｕ膜とメサ部３２とが互いに接触するようにメサ部３２上から金属膜２６ａ上に亘って形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、回路規模を大きくせず回路設計製造を難しくせず、光がスラブ導波路からアレイ導波路に向けて入射するとき、または、光がアレイ導波路からスラブ導波路に向けて入射するときに、挿入損失を低減することができる技術を提供する。
【解決手段】本発明は、光伝搬の方向と略平行な方向に間隔を置いて配置された、伝搬される光を回折させる複数の位相格子ＧＰ１、及び光伝搬の方向と略平行な方向に複数の位相格子ＧＰ１と交互に配置された、複数の位相格子ＧＰ１において回折された光を干渉させる複数の干渉領域ＩＦを有するスラブ導波路１と、複数の位相格子ＧＰ１が一体の位相格子として形成する自己像の明干渉部分の位置でかつスラブ導波路１の端部に、端部が接続されるアレイ導波路２と、を備えることを特徴とする光導波路である。 （もっと読む）

【課題】小型で低光損失な光導波路の折り返し回路を提供し、素子の小型化・低損失化を実現すると共に、機械的信頼性を高めた光変調器を提供する。
【解決手段】ニオブ酸リチウム材料からなるＬＮ変調器と、ガラス材料からなり、前記ＬＮ変調器への光信号の入出力のために前記ＬＮ変調器と突き合わせ接続された第１及び第２のＰＬＣとを含む光変調器であって、前記第１のＰＬＣの光導波回路は、一方の端面にファイバブロックを介して接続された少なくとも２本のファイバと、他方の端面に突き合わせ接続された前記ＬＮ変調器の光導波路とを接続し、前記第２のＰＬＣの光導波回路は、一方の端面に突き合わせ接続された前記ＬＮ変調器の光導波路どうしを接続する折り返し光導波路であり、該折り返し光導波路は、前記第２のＰＬＣ上に実装された半導体光導波回路に形成されている。 （もっと読む）

【課題】高速駆動が可能であり、駆動電圧のより一層の低減が可能な光制御素子を提供する。
【解決手段】電気光学効果を有し、厚みが１０μｍ以下の薄板１と、薄板１に形成された光導波路５２、５３と、光導波路５２、５３を伝播する光を制御するための光制御部を複数有する光制御素子において、光制御部の少なくとも一部には、光導波路５２、５３に電界を印加するための制御電極が、第１電極と第２電極とから構成される。第１電極は信号電極３３、３４と接地電極６１、６２とを有すると共に、第２電極は少なくとも接地電極６３を有し、第１電極の信号電極３３、３４と協働して光導波路５２、５３に電界を印加するように構成される。複数の光制御部の間は、コプレーナ型線路、コプレーナ型線路と裏面に配置された接地電極、又はマイクロストリップラインのいずれかで構成される制御信号配線で接続し、光と電気信号の到達時間がほぼ同じになるように設定する。 （もっと読む）

【課題】研磨による端面の切削量を精確に調整するためのマーカを備える導波路型光素子を提供すること。
【解決手段】導波路型光素子３００は、導波路型光素子３００の端面３００Ａで一端が露出した光導波路３０１と、当該端面３００Ａで一部が露出した研磨マーカ３０２とを備える。研磨マーカ３０２の幅３０２Ａは、端面３００Ａからの距離に応じて増加または減少する。図３（ａ）には、三角形状で、端面３００Ａからの距離に比例して幅３０２Ａが減少する研磨マーカ３０２の例が示されているが、幅３０２Ａが増加するようにしてもよい。導波路型光素子３００の研磨の際、研磨マーカ３０２を端面方向から観察し、その幅３０２Ａを測定することにより、切削量を容易にモニタすることができる。 （もっと読む）

【課題】光電気フレキシブル配線モジュールの低コスト化及び高信頼化を実現する。
【解決手段】光電気フレキシブル配線モジュールであって、電気配線１２０及び該電気配線１２０を外部に電気接続するための第１の電気接続端子１３０を有するフレキシブル配線板１００と、光配線路２５０、電気配線２２０及び該電気配線２２０を外部に電気接続するための第２の電気接続端子２３０を有し、フレキシブル配線板１００の一部の領域に搭載された光電気フレキシブル配線板２００と、光電気フレキシブル配線板２００上に搭載され、該配線板２００の電気配線２２０に電気的に接続され、且つ光配線路２５０に光結合された光半導体素子２８０と、第１の電気接続端子１３０と第２の電気接続端子２３０との間に設けられ、各々の電気接続端子１３０，２３０を電気接続する導電性の接続部材と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】
モニタ光としてエバネセント波を利用する光導波路デバイス及びその製造方法において、汚染物質の除去が容易であり、あるいは、再汚染を抑制することが可能な光導波路デバイス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
焦電性又は圧電性を有する材料で構成された基板１と、該基板の一部形成された光導波路２とを有する光導波路デバイスにおいて、該光導波路を跨ぐように配置される受光素子３と、該受光素子と該光導波路との距離を調整するために、該基板上に形成された台座４とを備え、該台座は、膜体で構成され、少なくとも該受光素子に面した表面材料が、光触媒物質、導電性物質又は半導体物質のいずれかで形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来の導波路型光フィルターと比較して、小型化及び低コスト化を図ることができる導波路型光フィルターを提供するものである。
【解決手段】 導波路型光フィルターは、１×３型マルチモード干渉導波路４ａと、３×１型マルチモード干渉導波路５ａの入力ポートに一端が接続される１本の入射光導波路１ａからなる第１の光導波路群１と、１×３型マルチモード干渉導波路４ａの出力ポートに一端が接続される３本の光導波路（直線導波路２ａ、第１の曲線導波路２ｂ、第２の曲線導波路２ｃ）からなる第２の光導波路群２と、を備え、第２の光導波路群２のうち、一の光導波路の長さが、他の光導波路の長さと異なる。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を有する導波路構造において、簡易かつ精度よく、コア層と上部クラッド層におけるメサ中心のずれを小さくする。
【解決手段】下部クラッド層１０３とコア層１０２と上部クラッド層１０１とを積層し、上部クラッド層１０１上に、互いに並行に配置される第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂと、第一のストライプ状マスク１０５ａと第二のストライプ状マスク１０５ｂとの間に配置される第三のストライプ状マスク１０６とからなる３本のストライプ状マスク１０７を形成し、第一、第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂ及び第三のストライプ状マスク１０６をマスクとして第一メサを形成し、第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂをそれぞれ除去し、第一及び第二のストライプ状マスク１０５ａ、１０５ｂを除去した後に、第三のストライプ状マスク１０６をマスクとして、第一メサの上部に位置し、第一メサよりも幅の狭い第二メサを形成する。 （もっと読む）

【課題】機能的な光学コンポーネントを有するシリコン光学ベンチを提供する。
【解決手段】シリコン光学ベンチに光路となるトレンチ５０１−５０３を形成し、その間に機能的なコーテイング１２８が形成された光学コンポーネント１０１−１０３を配置する。光学コンポーネントは、アーム-取付部分および下部を含む光学路部、アーム-取付部分の第１の端部から伸びる第1のアーム１４１と、アーム-取付部分の第２の端部から伸びる第２のアーム１４２を含む。第1のアームは、少なくとも一つのレスティング特徴を有し、第２のアームは少なくとも一つのレスティング特徴を有する。光学路部は、入力表面を有する。第1のアームおよび第２のアームのレスティング特徴が、トレンチシステムのトレンチの短い端で頂部表面に配置されるときに、光学路部はトレンチに垂直に整列配置される。 （もっと読む）

【課題】出力側でのクロストークを低減し、分光された光がそれぞれ単一波長の光として、固有の出力側端面から出力することができる平面導波路素子を提供する。
【解決手段】それぞれの光導波路アレイにおける光導波路５，６においては、光導波路５，６の並ぶ方向において一方向に向かって、等価屈折率分布に勾配が形成されている。第１光導波路アレイおよび第２光導波路アレイの連結部は、光が第１光導波路アレイから第２光導波路アレイに伝搬する際に、ｍを整数として、この光が起こす光学的ブロッホ振動の位相が(２ｍ−１)×π変化するように形成されている。それぞれの光導波路アレイの光導波路の長さの平均値は、それぞれの光導波路アレイを伝搬する光が、光学的ブロッホ振動において１／２周期の振動する間に、光導波路５，６を伝搬する長さに略一致している。 （もっと読む）

【課題】所定の角度をなす傾斜端面を有する光導波路コアを効率的に製造できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に形成されたクラッド層の表面に、感光性材料からなるコア材料層を形成するコア材料層形成工程と、コア材料層表面に、屈折率が１より高い高屈折率物質を密着させるように被覆する高屈折率物質被覆工程と、高屈折率物質の被覆されている側からクラッド層表面に対して所定の傾斜角度から露光光を照射することにより、コア材料層に対して、コア部を形成するための所定形状のパターン露光をする露光工程と、露光工程により露光されたコア材料層表面から高屈折率物質を除去する高屈折率物質除去工程と、高屈折率物質除去工程により前記高屈折率物質が除去された後のコア材料層を現像することにより、傾斜端面を有するコア部を形成する現像工程とを備える光導波路の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】各々の径が数１０ｎｍオーダーの微細な貫通孔を構成要素とする微細なパターンを形成する目的で用いられる微細パターン形成用部材の提供。
【解決手段】マイクロポア貫通孔を複数有するアルミニウム陽極酸化皮膜のマイクロポア貫通孔の内部に有機溶媒で現像可能な樹脂組成物が充填された微細パターン形成用部材。前記部材に所望のパターンとなるように露光を行い、その後、有機溶剤を用いた現像処理を行うことにより、前記部材に微細パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】中心波長の偏波依存性ＰＤλを大幅に抑制しかつ歩留まりを向上させたアレイ導波路格子チップおよび平面光波回路を提供する。
【解決手段】アレイ導波路格子チップ１０では、入力導波路３１_１〜３１_３と出力導波路３３_１〜３３_ｎとをそれぞれ有するＡＷＧ回路３０、４０が１チップに２回路形成されている。ＡＷＧ回路３０，４０それぞれの中心波長の偏波依存性ＰＤλが異なっている。ＡＷＧ回路３０におけるアレイ導波路３５の各導波路３５ａの幅とＡＷＧ回路４０におけるアレイ導波路４５の各導波路４５ａの幅とを異ならせることにより、１チップに、中心波長の偏波依存性ＰＤλの分布が２つできる。ＡＷＧ回路３０，４０のいずれか一方の中心波長の偏波依存性ＰＤλが許容値以下であれば、アレイ導波路格子チップ１０が合格品となる。合格品となる割合が高くなり、歩留まりが向上する。 （もっと読む）

【課題】保持部材に光導波路を保持する場合において、光導波路の光路変換面の損傷を抑制することができる光導波路、光デバイス及び光伝送装置を提供する。
【解決手段】貫通孔７１ａが設けられた第１保持部材７、及び第１保持部材７に実装された発光素子５を有する光送信装置２と、発光素子５に対応する受光素子１０、及び受光素子１０を実装して貫通孔１２１ａが設けられた第２保持部材１２を有する光受信装置３と、第１保持部材７及び第２保持部材１２に保持され、発光素子５に貫通孔７１ａを介して光結合する光路変換面４０ａ、及び受光素子１０に貫通孔１２１ａを介して光結合する光路変換面４１ａを含むコア層４ａを有する光導波路４とを備え、光導波路４は、一方側の端面４０ｂのクラッド層４ｂの部分が第１保持部材７に接触して位置決めされ、他方側の端面４１ｂのクラッド層４ｂの部分が第２保持部材１２に接触して位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】 ＣＭＯＳ適合の集積型誘電体光導波路カプラ及びその製造法を提供する。
【解決手段】 光電子回路製造方法、及び、それによる集積回路製造装置を提供する。集積回路は、光ファイバからの光エネルギーを集積回路上の集積型光導波路に効率的に結合させる集積型光結合移行部を有するように製造される。特定の材料の層を半導体回路上に堆積させて、光ファイバと、移行チャネル内に途中まで延びる回路上の光導波路との間の適切なインピーダンス整合を行う光カプラを収容するトレンチのエッチング形成をサポートする。エッチング形成されたトレンチ内に、光ファイバの一区域と実質的に等しい屈折率を有する少なくとも一部分を含むシリコン・ベースの誘電体を堆積させて、光カプラを形成する。段階的屈折率を有するシリコン・ベースの誘電体を用いることも可能である。光移行部と集積回路の調製を仕上げるために化学機械研磨を用いる。 （もっと読む）

【課題】シリコン細線よりなるリブ型導波路を、損失を抑制して高効率な状態で、光ファイバーと光結合できるようにする。
【解決手段】シリコン酸化層１０５の上に、所定の方向（導波方向）に延在するライン状のレジストパターン１２１およびレジストパターン１２２が形成された状態とする。レジストパターン１２１およびレジストパターン１２２は、連続して一体に形成され、先端部のレジストパターン１２２は、端部に向けて先細りのテーパ形状に形成された状態とする。次に、これらにより、酸化シリコンパターン１４１および酸化シリコンパターン１４２が形成された状態とする。この後、これらをマスクとしてシリコン層１０３をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】この発明は、多芯の光接続時の光軸ずれを抑えて、光接続効率の高い、安価な光学部品および光路変換デバイスを提供する。
【解決手段】複数の第1コアおよび複数の第２コアがそれぞれ平行に形成され、複数の第1コアおよび第２コアが直交する光導波路を持ち、複数の第１コア端面３ａがマトリックス状に露出する第１端面４ａ、複数の第２コア端面３ｂがマトリックス状に露出する第２端面４ｂ、および複数の第１コアと複数の第２コアとが交差する位置に光路を変換するミラー面４ｃを備えた光路変換デバイス２と、シリコン基板２７上に形成された光電変換素子２１Ｂと、を具備する。そして、シリコン基板２７は、光電変換素子２１Ｂと第２コア端面とを光軸調整されて第２端面４ｂに固定され、光電変換素子２１Ｂは、シリコン基板２７上の電極パッド２８およびスルーホール２７ａによりシリコン基板２７の外側電極パッドに電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】この発明は、多芯の光接続時の光軸ずれを抑えて、光接続効率の高い、安価な光路変換コネクタ、およびその製造方法、並びに光路変換コネクタを具備する回路基板を提供する。
【解決手段】基板５０に第１クラッド層を形成し、さらに第1クラッド層上に第１コア層を形成する。ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、さらに第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。ついで、複数の導波路体５１を積み重ねて作製された導波路ユニット５２を、第１コア５３ａと第２コア５３ｂとが交差する位置でダイシングしてミラー面４ｃを形成して、光路変換デバイス２を作製する。さらに、光路変換デバイス２を位置決め部材を備えた外装部品に収容する。 （もっと読む）