【課題】 溝幅が80μｍ以下の狭いパターン溝であっても容易に溝形成が可能なパターン溝の形成方法及びそれを用いたガラス導波路型光回路の製造方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係るパターン溝の形成方法は、
石英ガラス基板１１上にメタル層１２を形成する工程、
そのメタル層１２に幅がW1のギャップパターン１３を形成し、石英ガラス基板１１の一部をギャップパターン１３から露出させる工程、
ビームスポット径がW2（≧W1）のCO₂レーザビームＬをギャップパターン１３に沿って照射、走査し、石英ガラス基板１１の表面に溝幅W1のパターン溝２３を形成する工程、
を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】適用対象範囲や回路構成等の設計の自由度が広く、製造が容易な光導波路形成基板を提供する。
【解決手段】光導波路形成基板１７は、面方向に見て、硬質の基板２および１２を有する硬質部１７１、１７３と、それらの間に位置する湾曲変形可能な可撓性部１７５とを有している。硬質部１７１の内部には、発光素子または受光素子で構成される素子１が設置されている。可撓性部１７５は、基板２および基板１２からそれらの一部である不要部２３および１２３が除去されて得られたものである。光導波路９は、硬質部１７１と可撓性部１７５と硬質部１７３とにまたがって形成されている。光導波路９は、クラッド層９１、コア層９３およびクラッド層９７をこの順に積層してなるものであり、コア層９３には、屈折率が異なるコア部９４およびクラッド部９５が形成されている。 （もっと読む）

【課題】形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性に優れた光導波路を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）及び特定の構造を有する重合体を含有する。
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【課題】 高耐熱性、低吸水性で光透過性に優れた光導波路を提供することを目的とする。
【解決手段】 ガラス転移温度が１５０℃以上の高分子材料で構成されるコア部と、脂環式多価アクリレートを含む高分子材料で構成されるクラッド部とを有する光導波路。前記導波路は、ガラス転移温度が１５０℃以上の高分子材料で構成されるコア部とクラッド部とを有する単層を、脂環式多価アクリレートを含む高分子材料で構成されるクラッド部の２層で侠持した構造を有するものである。 （もっと読む）

【課題】光ファイバを搭載するためのＶ溝を有する基板上にポリマーからなるコア及びクラッドを有する光導波路デバイスを製造する際に、コア及びクラッド層用ポリマー塗布液が隣接するＶ溝の開口部方向へ垂れ込みを起こし、得られた光導波路のコア中心が設計値よりも低い位置となることを防止する。
【解決手段】基板上にＶ溝２を設ける工程、前記基板上にＮＶが３５％以上である埋め込みポリマー４用塗布液を塗布し、乾燥した後、前記Ｖ溝２内にのみ埋め込みポリマー４が残存するように、他の不要部分を除去する工程、前記基板上にポリマーからなる光導波路６を形成する工程、前記光導波路６の端面位置に切り込みを入れる工程、及び前記Ｖ溝２内及びＶ溝２上のポリマー４を全て除去する工程、を有する光導波路デバイスの製造方法。 （もっと読む）

フェムト秒レーザを用いて光ファイバ（１）または導波路上にレンズを作製する方法。レンズは、熱を適用することによってさらに滑らかにすることができる。
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【課題】 光路変換部の形成位置等の設計自由度が高く、且つ漏光及び散乱損失の発生が抑制された光導波路デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本光導波路デバイスの製造方法は、基部３と、基部３上に配置された下部クラッド部２１と、下部クラッド部２１上に積層され且つ光を伝搬するコア部１と、コア部１上に配置された上部クラッド部２２と、基部３上に形成されており且つコア部を伝搬した光の光路を変換する光路変換部４１、４２と、を備える光導波路デバイス１００を製造する方法であり、上記基部３と、基部３上に形成された上記下部クラッド部２１及び上記光路変換部４１、４２と、を備える積層体上に、コア部形成用未硬化フィルムを配設するコア部形成用未硬化フィルム配設工程と、上記コア部１を形成するコア部形成工程と、上記上部クラッド部２２を形成する上部クラッド部形成工程と、を備える。 （もっと読む）

分子中に酸無水基及び／又は酸基がブロック化されてなる酸性基とラジカル重合性不飽和基を有するラジカル重合性化合物（ａ）と、それ以外のラジカル重合性化合物（ｂ）との共重合体（Ａ）、重合性不飽和化合物（Ｂ）、及び重合開始剤（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする光導波路用硬化性樹脂組成物；この組成物からなる光導波路用硬化性ドライフィルム；及び、これらを用いて、下部クラッド層１３、コア部分１５及び上部クラッド層１７の少なくとも一つが形成されて成る光導波路が開示される。 （もっと読む）

フォトニック結晶を製造する方法は、（ａ）実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、（ｂ）少なくとも３本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、光反応性組成物の少なくとも一部に、適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元周期パターンを形成する工程と、（ｃ）光反応性組成物の未反応部分または反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程とを含む。 （もっと読む）

本発明は、光透過要素の少なくとも一側または一端がエアクラッドであるように定義されるパターニングされたクラッドを有する集積光導波路に関する。パターニングされたクラッドを有する光導波路の製造方法は、所定の波長を透過する基板の一部に所定の波長を透過しないパターニングされたブロッキング層を形成し、パターニングされたブロッキング層及び／または基板の覆われていない部分上にコア層を堆積し、コア層を上方からパターニングして光透過要素を設け、光透過要素上及び／またはパターンニングされたブロッキング層上及び／または基板の覆われていない部分上に、所定の波長の光に晒すことによって硬化可能な材料を含む上部クラッド層を設け、上部クラッド層に下方から所定の波長の光を照射し、パターニングされたブロッキング層上に位置しない上部クラッド層の部分を硬化し、上部クラッド層の非硬化部分を除去することを含む。
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