【課題】貫通孔形成位置又はプリフォーム径がプリフォームの長手方向に沿って変化する場合であっても、光ファイバの空孔径を所望の値にする製造方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ製造装置１００においてプリフォーム２０の各部分を溶融延伸する際に貫通孔２０ａに導入するガスの圧力を、該部分におけるプリフォーム２０の外径、及び、該部分における貫通孔２０ａの位置の少なくとも何れか一方に基づいて決定する圧力制御装置２００を備えている。 （もっと読む）

【課題】通信帯域が拡大され、安定的に製造可能なマルチモード光ファイバを提供する。
【解決手段】コア部にＧｅＯ_２が添加されたグレーデッドインデックス型光ファイバであって、クラッド部には塩素が添加され、コア部にもＧｅＯ_２とともに塩素が添加されている。クラッド部内の平均塩素濃度Ｐ_Ｃ１が、コア部内の平均塩素濃度Ｐ_Ｃ２よりも高くなるよう、塩素が添加されている。 （もっと読む）

【課題】大口径コアおよび／または高いドーピングを可能にするガラスを提供すること。
【解決手段】本明細書に記載の様々な実施形態には、コア・サイズの大きい光ファイバおよびロッドで使用されてもよい、希土類がドープされたガラス組成物が含まれる。このような光ファイバおよびロッドは、ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器で使用されてもよい。ガラスの屈折率は、実質上均一でもよく、実施形態によってはシリカの屈折率に近くてもよい。これらの特徴に対する実現可能な利点には、コア内での追加導波路の形成を低減させることが含まれ、コア・サイズが大きくなるにつれて、ますます問題になる。 （もっと読む）

【課題】格子状の凹溝と凸条の繰り返しパターンのエッジ精度が高い光ファイバー加工用位相マスクと、このような位相マスクを簡便に製造するための製造方法とを提供する。
【解決手段】描画工程において、透明基板１２上の電子線感応型のレジスト層１７に対して、可変成形ビーム型の電子ビーム描画装置１００を用いて矩形の電子ビームをベクタースキャン方式で描画し、レジストパターン形成工程において、レジスト層１７を現像してレジストパターン１７′を形成し、エッチング工程において、レジストパターン１７′を介して透明基板１２にエッチングを施して格子状の凹溝１５と凸条１６の繰り返しパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】低コストで計測システムを構築可能としつつ、センシングが可能な範囲を広げることを実現したセンサ用光ファイバの製造方法及びセンサ用光ファイバを提供することを目的とする。
【解決手段】移動ステージ３７上の位相マスク３２に光ファイバ３１が保持されている。位相マスク３２は、その一端３２ｃ側から他端３２ｄ側に向かって格子周期が漸次長くなる回折格子３４を有しており、回折格子３４を介して紫外線レーザビーム４０を光ファイバ３１に照射可能となっている。移動ステージ３７の移動速度は、紫外線レーザビーム４０の照射位置が位相マスク３２の一端３２ｃ側から他端３２ｄ側に向かうにつれて徐々に遅くなるように制御されており、紫外線レーザビーム４０の照射中に移動ステージ３７を移動させることにより、ＦＢＧ１０を有する光ファイバ１が製造される。 （もっと読む）

【課題】良好な密着性を維持しつつ、被覆樹脂の硬化性を損なうことなく良好なものとする光ファイバ素線を提供する。
【解決手段】ベース樹脂と、下記一般式（Ａ）で示され且つ分子構造中にメルカプト基を有さないシランカップリング剤とを含む放射線硬化型樹脂組成物を被覆した光ファイバ素線１０。


（式中、ｎは０〜３の整数を表し、ｍは０〜２の整数を表し、且つｎ＋ｍ≦３であり、Ｘは炭素数２以上の非加水分解性の疎水性基を表し、Ｙはアルコキシ基、アセトキシ基又はハロゲン基を表し、Ｘ’はＨ又はＣＨ_３を表す。） （もっと読む）

【課題】通信帯域が拡大されるとともに安定的に製造可能なマルチモード光ファイバを提供する。
【解決手段】マルチモード光ファイバに関し、直径２ａを有するコア部には、ＧｅＯ_２と塩素が添加されている。コア部における塩素濃度分布２５０は、コア部の中心において最小となり、コア部の中心からその半径方向に距離０．９ａから１．０ａだけ離れた範囲内において最大となる。コア部はＧｅＯ_２の添加濃度の変化が特に大きく、コア部の外周を含む周辺領域であってコア部の中心を取り囲む環状領域において特に変化が大きくなるように塩素濃度を意図的に制御している。 （もっと読む）

【課題】曲げ損失特性および耐破断特性に加えて耐マイクロベンド特性も良好な光ファイバを提供する。
【解決手段】光ファイバ１は、ガラスからなるコア１０と、コア１０の屈折率より低い屈折率を有する樹脂からなりコア１０の周囲を覆うクラッド２０と、紫外線硬化型樹脂からなりクラッド２０の周囲を覆うオーバーコート３０とを備える。光ファイバ１のＮＡは０.２５〜０.４５である。光ファイバ１の曲げ剛性率は１.５Ｎ・ｍｍ^２以下である。光ファイバ１のＮＡをＹとし、光ファイバ１の曲げ剛性率をＸ［Ｎ・ｍｍ^２］としたとき、これらＸ，ＹがＹ＞−１.０６６Ｘ＋０.５０３ なる関係式を満たす。 （もっと読む）

【課題】 信頼性の高い光ファイバを製造可能な光ファイバ用母材の製造方法、及び、それを用いる光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 光ファイバ用母材１０Ｐの製造方法は、ＭＣＶＤ法を用いて光ファイバ用母材を製造する光ファイバ用母材の製造方法であって、ガラス管１５Ｇを回転しながら加熱すると共に、ガラス管１５Ｇの貫通孔Ｈ内にガスを供給する工程を備え、この工程の少なくとも一部において、ガラス管１５Ｇの外径が大きくなるように、貫通孔Ｈ内を加圧することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 工数の増加を抑制して、安価に光ファイバ用母材を製造することができる光ファイバ用母材の製造方法、及び、これを用いた光ファイバの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 光ファイバ用母材１０Ｐの製造方法は、ガラス体から成る中間母材１９Ｐを準備する準備工程Ｐ１と、中間母材１９Ｐにドリルツール５０により孔を形成する穿孔工程Ｐ２と、を備え、穿孔工程Ｐ２において、ドリルツール５０の振動を検出し、検出した振動から孔のずれ量を測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】コアの周囲のクラッド中に複数の空孔を有する光ファイバであって破断強度を大きく伝送損失を小さくすることができる光ファイバを提供する。
【解決手段】光ファイバ１Ａは、ガラスからなるコア１０と、このコア１０の周囲を取り囲むガラスからなるクラッド２０と、このクラッド２０中に形成されファイバ軸方向に延在する複数の空孔３０とを備える。複数の空孔３０は、コアを中心とする円の周上に一定間隔で設けられ、断面が略円状である。クラッド２０は、クラッド２１とクラッド２２とに区分される。クラッド２０にはハロゲン元素が添加されており、複数の空孔３０の外接円より内側の領域におけるハロゲン元素のモル濃度を、外側の領域より高くすることにより、内側の領域の粘性を低くして、内側の領域の残留応力を圧縮応力とする。これにより、破断強度を大きくすることができる。 （もっと読む）

【課題】線引時の有害ガス使用量を削減することができ、所望の空孔径を有し伝送損失が低い光ファイバを容易に製造することができる方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ母材１０の空孔１３の表面積をＳとし、光ファイバ母材１０の半径をＲとし、空孔１３の体積を含む光ファイバ母材１０の体積をＶとする。また、光ファイバ２０の空孔２３の表面積をＳ’とし、光ファイバ２０の半径をＲ’とし、空孔２３の体積を含む光ファイバ２０の体積をＶ’とする。このとき、（(Ｓ’／Ｖ’)／(Ｓ／Ｖ)）がＲ／Ｒ’より大きくなるように光ファイバ母材１０を線引して光ファイバ２０を製造する。 （もっと読む）

【課題】低コストで高品質のマルチモード光ファイバ用の母材を製造することができる光ファイバ母材の製造方法を提供する。
【解決手段】グレーデッドインデックス形の屈折率分布を有するコア部１１の外側に、屈折率が純石英よりも低く、かつコア部１１の半径を超えない厚さのトレンチ層１３を備える光ファイバ母材Ｇの製造方法であって、コア部１１となるガラス微粒子をＶＡＤ法で堆積させた後に脱水及び焼結して透明なコアガラス体Ｇ２を製造し、コアガラス体Ｇ２を延伸してコアガラスロッドＧ３とし、コアガラスロッドＧ３の外側にフッ素を含むガスを用いてＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後に脱水及び焼結する、または、コアガラスロッドＧ３の外側にＯＶＤ法でガラス微粒子を堆積させた後にフッ素を含むガスで脱水及び焼結することにより、トレンチ層１３を含む透明ガラス体Ｇ４とし、透明ガラス体Ｇ４の外周部にクラッド層１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】傾斜型ファイバーブラッググレーティングの計測精度を向上させること。
【解決手段】予め設定された間隔で凹凸が形成された位相マスク（１４）の光が照射される面（１４ａ）に対して、接近離間する方向に長手方向が傾斜した状態の光ファイバー（１５）のコア（１５ａ）に、位相マスク（１４）を通過させた２５０ｎｍ帯のコヒーレントなレーザー光（２ａ）を照射することにより、光ファイバー（１５）のコア（１５ａ）の屈折率が、光ファイバー（１５）の長手方向に対して周期的に異なり、且つ、屈折率が異なる部分が長手方向に対して傾斜する傾斜型ファイバーブラッググレーティング（１５ｄ）を作製することを特徴とする傾斜型ファイバーブラッググレーティングの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 信頼性を確保して敷設できる条件において、より多くのコアを配置することができる通信用マルチコアファイバを提供することを目的とする。
【解決手段】 光信号を伝播する通信用マルチコアファイバ１０であって、クラッド１２と、クラッド１２の中心に配される１個のコア１１ａと、１個のコア１１ａを囲むように等間隔で配される７個〜１０個のコア１１ｂと、を備え、クラッド１２の外径が２３０μｍ以下とされ、互いに隣り合うコア１１ａ，１１ｂの中心間距離が３０μｍ以上とされると共に、コア１１ｂの中心とクラッド１２の外周面との距離が、それぞれ３５μｍ以上とされ、それぞれのコア１１ａ，１１ｂを伝播する光のモードフィールド径が９μｍ〜１３μｍとされる。 （もっと読む）

【課題】誘電体多層膜のレーザ耐性を高める。
【解決手段】レーザ光用光ファイバ構造体１０は、レーザ光入射端及び出射端の少なくとも一方に誘電体多層膜１２が設けられている。誘電体多層膜１２は、その形成後に酸素雰囲気下でＣＷレーザが照射され、その光吸収によるアニール処理が施されている。 （もっと読む）

【課題】高開口数を有すると共に耐湿性に優れるポリマークラッド光ファイバを得る。
【解決手段】ポリマークラッド光ファイバ１１は、ガラスで形成された光伝送路１１ａとそれを被覆するように設けられたクラッド１１ｂとを有する。クラッド１１ｂを形成するクラッド材料は、ヒドロシリル化反応による架橋によって硬化したパーフルオロエーテルポリマーを含む。 （もっと読む）

【課題】 コア同士の結合を維持しつつ、モード多重伝送におけるモード分離が容易な結合型マルチコアファイバを提供することを目的とする。
【解決手段】 結合マルチコアファイバ１０は、複数のコア１１と、複数のコア１１を囲むクラッド１２と、を備え、複数のコア１１は、互いに隣り合うコア１１の外周面同士が互いに接するように配置され、それぞれのコア１１は、クラッド１２よりも高い屈折率とされ、外周面から所定の厚さの外側領域１６と、外側領域１６よりも高い屈折率とされ、外側領域１６に囲まれる内側領域１５とを有することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い結合型マルチコアファイバを製造可能な結合型マルチコアファイバ用母材の製造方法、結合型マルチコアファイバの製造方法、及び、結合型マルチコアファイバの提供。
【解決手段】結合型マルチコアファイバ用母材１０Ｐの製造方法であって、複数のコア１１となる複数のコアガラス体１１Ｐがクラッドガラス体１２Ｐにより囲まれると共に、互いに隣り合うコアガラス体１１Ｐの外周面同士が互いに接するように、複数のコアガラス体１１Ｐと、クラッドガラス体１２Ｐとを配置する配置工程Ｐ１と、コアガラス体１１Ｐとクラッドガラス体１２Ｐとの間の隙間を潰すコラプス工程Ｐ２とを備え、それぞれのコアガラス体１１Ｐの外周面から所定の厚さの外側領域１６は、ゲルマニウムが非添加とされるシリカガラスから成り、クラッドガラス体１２Ｐは、コアガラス体１１Ｐの外側領域よりも屈折率が低いシリカガラスから成る。 （もっと読む）

【課題】より簡易かつ短時間に光ファイバ母材を製造することができる光ファイバ母材の製造方法およびこれを用いた光ファイバの製造方法を提供すること。
【解決手段】第１領域と該第１領域の外周に形成された第２領域とを有しガラス微粒子からなる多孔質体を形成し、フッ素ガスを含む雰囲気下で前記多孔質体を熱処理する第１の熱処理を行い、前記第１の熱処理を行った多孔質体を前記第１の熱処理よりも高い温度で熱処理する第２の熱処理を行って透明ガラス体とし、前記透明ガラス体の外周にクラッド部を形成する。 （もっと読む）