【課題】サブ波長（たとえばナノメートルスケール）の半径変動を有する光ファイバを利用して結合共振空洞を作製するマイクロデバイスを提供する。
【解決手段】複雑な結合フォトニック・マイクロデバイスが、共振空洞を作製するのに十分なサブ波長サイズの放射状の摂動を含むように形成され、これらのデバイスが、単一光ファイバ１０の長さ方向に沿って形成され、互いに結合されて相対的に複雑なフォトニック・デバイスを形成する。これら局所的な半径変動１２の配置および分離を注意深く選択することにより、またマイクロファイバ１４（または他の適切な構成）を使用して、デバイス・ファイバ１０との間で光信号Ｏを結合することにより、ウィスパリングギャラリーモード（ＷＧＭ）の形での共振がデバイス・ファイバ１０内に生成され、その結果、複数の結合された微細構造（たとえば、リング共振器など）を形成する。 （もっと読む）

光ファイバの多段階膨張化を実施する方法が説明され、該方法は、断熱条件がファイバ全体で維持されるように連続的な膨張化工程を実施する工程を含む。このように多段階膨張された光ファイバを用いる様々な光デバイスならびにその光デバイスの製造方法もまた説明される。
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本発明は多色光発生器を形成する光装置であって、第１周波数でポンプ放射を提供することのできるレーザ源と、少なくとも第１および第２領域を含むコアを有するマイクロ構造光ファイバとを含む光装置に関する。第１および第２領域は、ポンプ放射による非線形モード励起の場合に、ファイバが主としてポンプ放射ならびに４波混合非線形効果によるポンプ放射から得られる放射からなる多色光出力を提供するように位相整合を画定するよう構成されたそれぞれの化学組成を有する。 （もっと読む）

【課題】ＧＶＤを高精度に制御可能はフォトニッククリスタルファイバを提供する。
【解決手段】本発明では、酸化ビスマス系ガラスで構成されたコア１（コアロッド２０２）と、前記コア１の周りに、各層間が等間隔となるように同心円状に各層６ｎ本、ｎ層(ｎ≧３)の空孔２を具備してなる空孔形成クラッド３と、空孔形成クラッド３の周りに配された第２クラッド４（３００）とを有する。この構成により、わずかな寸法ばらつきが生じても１つ１つの空孔が小さいため、特性変化を抑制することができ、高精度のＧＶＤを得ることができる。また、このようなフォトニッククリスタルファイバと、石英系光ファイバなどの光伝送部と融着接続する際、空孔が小さいため、接続対象となる領域が空孔のまわりに分散することになる。このため、融着時における接続強度が増大し、信頼性の高い融着部を得ることが可能となる。 （もっと読む）

光ファイバの先端を形成する方法であって、光ファイバの端部の少なくとも一部分を粗面処理する工程と、光ファイバの先端を形成する粗面処理された端部をエッチング工程と、を含んでいる。 （もっと読む）

再イメージング装置によって終端されたフォトニック結晶ファイバを有する導波路が開示されている。この再イメージング装置は、例えば、所定の長さのマルチモードファイバであり得る。このような導波路のためのコネクタも開示されている。さらに、フォトニック結晶ファイバにコネクタを取着する方法も開示されている。この方法は、終端されたフォトニック結晶ファイバの端部を形成するために、このフォトニック結晶ファイバの一端部にマルチモードファイバを接続することによって、このフォトニック結晶ファイバを終端する工程と、前記接続とこのフェルールの出力端部との間に、所定の長さのマルチモードファイバが在るように、前記終端されたフォトニック結晶ファイバにフェルールを配置する固定と、コネクタ本体内に前記フェルールを配置する工程とを具備する。
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【課題】テーパー付き光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】本方法は、光ファイバ１１２に張力を付与しつつテーパーが画成される位置に熱エネルギを付加する。その際に、光ファイバの細長部１１４，１１６，１１８に沿って所定のレートで第１の移動方向で前記位置を変化させ、前記位置が前記細長部の第１の部位１１６の外側にあるときに前記張力を取り除く。本方法は、また、前記位置が前記光ファイバの前記細長部の第２の部位１１４内にあるときに、前記第１の移動方向から反対の第２の移動方向へと遷移させる。本方法は、また、前記位置が前記光ファイバの第３の部位１１８内にあるときに、第２の移動方向から第１の移動方向へと遷移させる。 （もっと読む）

【課題】高次モードの伝搬を制限し、低次モードを伝搬させる光ファイバを提供する。
【解決手段】大コアマルチモード光ファイバのような光導波路を有する。このマルチモード光ファイバはコアとクラッド領域を有する。この光ファイバは複数の穴を持つマトリックス材料を含み、複数の穴はクラッド領域にあり、コア領域の境界を与える。前記マトリックスはシリカガラスを含み、穴は空気でもよい。穴あきロッドを含む。該ロッドと光ファイバは、光増幅システム、レーザ、短パルス発生器、Ｑスイッチレーザ等の多くの光システム使用される。 （もっと読む）

一態様では、本開示が、導波路軸に沿って延びるコアと、コアを取り囲む閉じ込め領域とを含む、導波路軸に沿って延びるファイバ導波路を含む物品を開示する。閉じ込め領域は、導波路軸に沿って第１の波長λ_１の放射を導くように構成されており、ある経路に沿ってそれ自体に入射した第２の波長λ_２の放射の少なくとも一部を透過させるように構成されており、λ_１とλ_２とは異なる。コアは、λ_１の放射と相互作用して、λ_２の放射を発生させるように選択されたコア材料を含む。
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被押出し部材を形成するために押出し可能な材料を押し出すための金型及び方法が説明される。１つの実施形態では、金型が障壁部材を含み、この障壁部材は、それを貫通する複数の送りチャンネルを備える。さらには、金型は、障壁部材から実質的に押出し方向へ延びる通路形成部材を組み込む。送りチャンネルは、対応する通路を被押出し部材の中に形成するために、押出し可能な材料が実質的に通路形成部材の周囲を流れることを可能にするように、通路形成部材に対して配置される。
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【課題】材料分散の影響を避けることができ、且つ非線形性を利用した光信号処理などに大きな効果をもたらし、通信波長帯での広帯域な零分散を実現できる、高非線形を有するテルライトガラスからなる光ファイバを提供する。
【解決手段】２μｍ以上の零材料分散波長を持つテルライトガラスからなる光ファイバ１００であって、コア領域１０１と、コア領域１０１を包囲するように配設されて当該コア領域１０１の軸方向に沿った空孔１０２ａを当該コア領域１０１の周方向にわたって複数有する第１のクラッド部１０２と、第１のクラッド部１０２を包囲するように配設されて当該第１のクラッド部１０２の等価屈折率と等しい屈折率を有する第２のクラッド部１０３とを備える。コア領域１０１と前記第１のクラッド部１０２との比屈折率差を2％以上とすることで、零分散波長を通信波長帯である１．５５μｍ帯に制御する。 （もっと読む）

【課題】一体型回折素子を備えたマルチコア光ファイバを提供すること。
【解決手段】マルチコア光ファイバは、初期屈折率を有する非感光性材料で形成された第１の光ファイバコアと、第１の縦方向コア軸と実質平行な第２の縦方向コア軸を含む第２の光ファイバコアを含む。第１の光ファイバコアは、第１の縦方向コア軸と、初期屈折率と異なる変更された屈折率を有する複数の指標変更部とを備える。複数の指標変更部は、第１の光ファイバコアの非感光性材料内に配置されて一体型回折素子の回折構造を形成する。 （もっと読む）

本発明は、短コヒーレンス干渉分光法および共焦検鏡法、ならびに、内視鏡短コヒーレンス干渉分光法および内視鏡共焦検鏡法のための光源として特に使用され得る広帯域スペクトルを発生させるための装置に関する。本装置は、波長λ_ｐの短い光パルスを発生させるためのレーザ、特にレーザ・ダイオード、および、波長λ_ｐの付近での群速度のゼロ分散および異常分散を有する高い非線形性の微小構造光ファイバ（１）、ならびに、微小構造光ファイバ内に光パルスを結合するための手段を含む。
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一般に、一態様において、本発明の特徴は、導波路軸に沿って波長λにおいてあるモードの電磁放射をガイドするように構成されたフォトニック結晶ファイバ（２００、９００）を含む装置である。ファイバには、導波路軸に沿って延びるコア（２１０）と、導波路軸に沿って延びコア（２１０）を囲む閉じ込め領域（２２０、９１０）とが、含まれる。閉じ込め領域（２２０，９１０）には、厚さｄ_１およびｄ_２ならびに異なる屈折率ｎ_１およびｎ_２をそれぞれ有する第１および第２の誘電体材料からなる交互層（２１１〜２１９、９２０〜９２２）が含まれる。第１の材料の交互層の少なくとも１つの厚さは、厚さｄ_１^ＱＷとは異なり、または第２の材料の交互層の少なくとも１つは、厚さｄ_２^ＱＷとは異なり、ここで、ｄ_１^ＱＷおよびｄ_２^ＱＷは、２つの誘電体材料に対する４分の１波長条件、式（Ｉ）および式（ＩＩ）に、それぞれ対応する。フォトニック結晶ファイバの波長λにおける被ガイド・モードに対する減衰は、４分の１波長条件に対応する交互層厚さを有すること以外はフォトニック結晶ファイバと同一である基準ファイバに対する減衰に対して、約２以上の因子分の１に低減される。
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本発明は、密着した所定の形状の導電性材料と、半導電性材料と、絶縁材料とを含むファイバの延伸技術を提供する。この結果得られるファイバは、延長したファイバの長さ全域で技術的に改良された電気的光学的特性を示す。本発明は、このようなファイバの製造に対応した処理を提供する。この処理は、たとえば、導電性材料と、半導電性材料と、絶縁材料とからなる複数の異なる材料のファイバプリフォームを組み立てる処理と、プリフォームをファイバに延伸する処理とを含む。
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