【課題】大きな光路長変動であっても、位相変動を補償することで光路長の変動の補償を行う。
【解決手段】レーザ光を２分岐する光分配器２と、変調用マイクロ波信号に基づき、光分配器２により分岐された一方のレーザ光の角周波数をシフトさせる光周波数シフタ３と、光周波数シフタ３から光サーキュレータ４および伝送光ファイバ５を介して出力されたレーザ光の一部を伝送光ファイバ５に反射し、残りを透過して光基準信号として出力する光部分反射鏡６と、光分配器２により分岐された他方のレーザ光と、光部分反射鏡６から伝送光ファイバ５および光サーキュレータ４を介して出力されたレーザ光とを合波する光合波器７と、光合波器７により合波されたレーザ光をマイクロ波信号に変換する光電変換手段８と、光電変換手段８により変換されたマイクロ波信号の位相と基準マイクロ波信号の位相とに基づき、変調用マイクロ波信号を生成する位相同期回路１０とを備えた。 （もっと読む）

【課題】高周波信号の周波数調整範囲を拡大して、周囲の環境温度の変動が大きい場合でも、信号周波数の安定化を実現することができるようにする。
【解決手段】カプラ１３から出力された制御信号にしたがって光カプラ２により分岐された一方のレーザ光の周波数をシフトさせる光周波数シフタ３と、電圧制御発振器１７から出力された制御信号にしたがって光周波数シフタ３により周波数がシフトされたレーザ光の周波数をシフトさせる光周波数シフタ４と、カプラ１１から出力された制御信号にしたがって光カプラ２により分岐された他方のレーザ光の周波数をシフトさせる光周波数シフタ５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】中心波長の異なる複数の光に対して、高い回折効率と高い走査性能を実現する技術を提供する。
【解決手段】２次元光スキャナ６に入射したレーザ光は、駆動手段７ｄにより波長毎に入射角が調整されたＡＯＤ７で偏向される。ＡＯＤ７で生じた角度分散は、ＡＯＤ７の射出端近傍に配置されたプリズム８により補償される。プリズム８から射出されたレーザ光は、リレーレンズ９を通過して、駆動手段１０ｄにより波長毎に入射角が調整されたＡＯＤ１０で偏向される。ＡＯＤ１０で生じた角度分散は、ＡＯＤ１０の射出端近傍に配置されたプリズム１１により補償されて、２次元光スキャナ６から射出される。ＡＯＤ７とＡＯＤ１０は偏向平面が直交している。 （もっと読む）

【課題】被露光体上を走査する光ビームの走査距離を短くして露光工程のタクトを短縮する。
【解決手段】一定方向に一定速度で搬送される被露光体４の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで一列に平行に並んだ複数のレーザビームに強度変調を与えて射出するパターンジェネレータ６と、パターンジェネレータ６から射出した複数のレーザビームを被露光体４上に一定間隔に並べて集光するｆθレンズ７と、ｆθレンズ７を射出した複数のレーザビームを被露光体４の搬送方向と交差する方向に回折させて、互いに隣接するレーザビームの間の領域を同時に往復走査する音響光学素子８と、を備え、音響光学素子８は、レーザビームの回折方向の軸が光軸を中心に被露光体４の搬送方向と直交する方向に対して一定角度だけ回転した状態に配設され、音響光学素子４の光射出側には、複数のレーザビームの０次回折光を遮断する遮光マスク２２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】レーザ光のスポット位置の調節が可能なレーザ光源装置を提供する。
【解決手段】光源と、前記光源から発射するレーザ光を集光する集光レンズ部と、前記レーザ光を偏向する光偏向素子と、前記集光レンズ部により集光された前記レーザ光を伝搬する光学素子を有するレーザ光源装置であって、前記光偏向素子は、液晶素子、音響光学素子、電気光学素子のいずれかにより形成されており、前記光偏向素子に印加される電圧によって生じる電位分布に応じて前記レーザ光が前記光学素子に集光する方向を偏向するレーザ光源装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】レーザによる穴加工において、移動時間の短縮化を図ると共に、加工パターンを変更せず加工径を変更または調整する場合も、その変更を容易にし、調整に要する時間も短縮する。
【解決手段】本発明では、穴中心間を移動するポイントからポイントへの移動を機械的に動作するガルバノスキャナーで実施し、加工時に求められる滑らかな軌跡に追従する移動に音響光学素子を用いて機械的な移動ではなく周波数を制御して光学回折角を変化させることで、円滑な加工を実施するものである。 （もっと読む）

【課題】クロストークと挿入損失を低減し、偏光無依存の光スイッチを提供する。
【解決手段】光スイッチは、間にある相互接続領域を有する２つの強誘電体液晶空間光変調器を使用する。このスイッチは、光を入力ファイバアレイから第１の空間光変調器に集束させ、並びに、第２の空間光変調器から出力アレイに集束させるためにバルクレンズを使用する。各空間光変調器は、予め計算されたセットから選択されたそれぞれのホログラムを表示し、それによって、入力ファイバアレイから出力アレイへの光の所望のスイッチングを生じさせる。 （もっと読む）

【課題】各サブアレーでの位相差の補正と共に各サブアレーの指向角の補正さらに所望の位置への焦点調整を同一の装置により行うフェーズドアレーレーザ装置を提供する。
【解決手段】基準レーザ光源の出力光をサブアレーに分岐し、サブアレーごとに増幅後、コヒーレント加算を行うフェーズドアレーレーザ装置において、前記各サブアレー毎に、前記サブアレーの１つに基づき生成された参照光とサブアレー出力光の合波光を各象限ごとに電気信号にする４象限光検出器９と、サブアレー出力光をコリメートする光学系のための並進駆動機構１１と、前記４象限光検出器からの信号に基づき、参照光とサブアレー出力光の光位相差を検出しサブアレーのための光位相変調器にフィードバック制御すると共に、サブアレー出力光の指向方向誤差を検出し前記並進駆動機構にフィードバック制御するフィードバック制御手段１０と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 所望の波長範囲で、安定的に発振可能で且つ高速に波長掃引可能な光源装置を提供する。
【解決手段】 発振波長を連続的に変化可能な波長掃引光源装置であって、共振器内に、光を増幅させる光増幅媒体と、該光増幅媒体より放出される光を波長に応じて分散させる第一の手段と、第一の手段により分散した波長の異なる光束同士を平行化させる非集光光学素子で構成された第二の手段と、第二の手段により平行化した光束から所定波長の光束を選択する選択手段と、を備え、前記選択手段により選択された前記所定波長の光束を前記光増幅媒体に帰還させる波長掃引光源装置。 （もっと読む）

【課題】外部共振器型のレーザー光源を前提として、出力レーザー光の可干渉性を低下させることでスペックルノイズを確実に低減し得る光源装置を提供する。
【解決手段】レーザー光を射出するエミッター２２を有する第１発光素子１２と、エミッター２２から射出されたレーザー光が入射するように配置されたエミッター２３を有する第２発光素子を備え、エミッター２３は、射出されたレーザー光がエミッター２２へ入射するように配置され、エミッター２２と異なる２つのエミッター２３の間の光路上に、空間的に選択波長が異なる波長選択素子１７が配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光の振幅と位相を独立して制御可能な光学素子を走査型顕微鏡に用いる場合に、より画質のよい観察画像を得ることができるようにする。
【解決手段】分散フィルタ６２は、入射した赤外光の振幅と位相を独立に制御可能であるが、有効に動作できる期間とできない期間が生じる。そこで、調整部２２は、各時刻において、３つの分散フィルタ６２のうちの何れかが有効に動作するように、それらの動作を制御し、音響光学素子６１は、３つの分散フィルタ６２のうち、有効に動作している分散フィルタ６２に赤外光を入射させる。合成素子６３は、分散フィルタ６２からの赤外光が同一光路を通って試料に照射されるように、赤外光を合成する。これにより、常に振幅と位相が適切に調整された赤外光を試料に照射することができ、より画質のよい観察画像を得ることができるようになる。本発明は、走査型顕微鏡に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】感光性基板に対するマイクロリソグラフィ描画および検査のためのレーザ走査の時間効率および偏向器の制御を改善するシステムを提供する。
【解決手段】本システムは、偏向方向における基板のオフセットの程度を測定する少なくとも１つのセンサと、横方向に移動する走査に対応するように位置データまたは位置データの供給を修正するための手段と、前記のオフセットを補償するために、検出器によって測定されたオフセットに依存して偏向器のためのデータの読み出しを制御する制御ユニットとを備える。 （もっと読む）

【課題】ファイバアンプ出力光による光学部品の損傷を回避するとともに、ファイバアンプ出力光の異常検知後における迅速な復帰が可能なレーザ発生装置を提供する。
【解決手段】複数のレーザダイオードに対して給電する電源ユニット５と、第１レーザダイオードからの第１励起光に基づいてシード光を出力するシード光源ユニット１と、第２レーザダイオードからの第２励起光と第３レーザダイオードからの第３励起光とにより励起されたエネルギーをシード光に付与して増幅して、レーザ光を出力するファイバアンプユニット３と、シード光を遮光するビーム遮蔽ユニット２と、電源ユニット５とビーム遮蔽ユニット２とを制御する制御ユニット６と、ファイバアンプユニット３の出力レーザ光の強度を検知して異常の有無を判断するビームモニタユニット７とを備え、異常と判断された場合には、制御ユニット６は、ビーム遮蔽ユニット２を制御してシード光を遮光させる。 （もっと読む）

【課題】特定波長の光を効率よく遮光することができる可変フィルタ装置を提供する。
【解決手段】入射ピンホール板２を通過した発散光は、コリメートレンズ３により平行光束に変えられ、音響光学可変フィルタ４に入射する。音響光学可変フィルタ４に所定周波数の電圧を印加することにより回折格子の働きをさせ、回折光が破線で示すように光軸に対して斜め方向に出射するようにし、０次光のみが直進するようにする。音響光学可変フィルタ４を出射した光束は、集光レンズ５によって集光されるが、このとき、直進した０次光は、出射ピンホール板６のピンホールを通過し、可変フィルタ装置１の外部に放出される。回折光は、出射ピンホール板６の板部にあたって遮光され、可変フィルタ装置１の外部には放出されない。 （もっと読む）

【課題】特定波長の光を効率よく遮光することができる可変フィルタ装置を提供する。
【解決手段】入射ピンホール板２を通過した発散光は、コリメートレンズ３により平行光束に変えられ、音響光学可変フィルタ４に入射する。音響光学可変フィルタ４に所定周波数の電圧を印加することにより回折格子の働きをさせ、回折光が破線で示すように光軸に対して斜め方向に出射するようにし、０次光のみが直進するようにする。音響光学可変フィルタ４を出射した光束は、集光レンズ５によって集光されるが、このとき、直進した０次光は、出射ピンホール板６のピンホールを通過し、可変フィルタ装置１の外部に放出される。回折光は、出射ピンホール板６の板部にあたって遮光され、可変フィルタ装置１の外部には放出されない。 （もっと読む）

【課題】カラーブレーキング現象を発生しない光源を提供する。
【解決手段】レーザによる光を出射する半導体レーザ11と、出射された光を偏向して励振する音響光学素子12と、偏向された光の照射により、その照射位置に応じて複数の色相の光源光を時分割で周期的に出力する蛍光板13とを備える。 （もっと読む）

【課題】本願発明は、モード結合レーザ（３）の短レーザパルスの列（２、２）が、関連周波数コムに含まれる個別ラインのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数に関して補償される方法およびデバイス（１）に関連する。
【解決手段】本願発明の狙いは、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を決定すること、及び、音響光学周波数シフタ（１３）を動作させるためにその周波数を利用すること、である。そのシフタにおいて、時間的に等距離で短いレーザパルスの非補償列は、周波数コムの個別ラインが、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数によってシフトされるように、第１次数において回析される。短レーザパルスの結果として生じる補償列は、周波数コム、短レーザパルスの列において個々の光パルスの繰り返し周波数の整数倍である個別ラインを有する。 （もっと読む）

【課題】光偏向器の解像点数を増大する。
【解決手段】本発明によれば、ＫＴＮなどの電気光学結晶に電圧を印加して偏向角を制御する光偏向器と、薄層ホログラム導波路を組み合わせることによって、光偏向器の単体での解像点数をさらに増大することができる。本発明の一実施形態によれば、薄層ホログラムは、シングルモードの平面型導波路にグレーティングを形成することによって実現することができる。このグレーティングは、グレーティングの波数ベクトルと、入射光の波数ベクトルとの和の絶対値に等しい大きさの波数ベクトルを有する導波光が存在するように構成する。 （もっと読む）

【課題】音響光学偏向器を用いた偏向速度の増大に伴う照明光の集光径の増大を防止する。
【解決手段】光源２からの照明光Ｌを偏向する音響光学偏向器４，５と、該音響光学偏向器４，５の前段に配置され、照明光Ｌの光束径を調節する入射ビーム整形光学系３と、音響光学偏向器４，５により偏向された照明光Ｌを標本Ａに集光する対物レンズ８と、該対物レンズ８と音響光学偏向器４，５との間に配置され、対物レンズ８の瞳位置に入射する照明光Ｌの光束径を調節する瞳投影光学系７と、音響光学偏向器４，５による照明光Ｌの偏向速度が高められたときに、音響光学偏向器４，５に入射する照明光Ｌの光束径を細くし、かつ、瞳投影倍率を増大させるよう入射ビーム整形光学系３および瞳投影光学系７を制御する制御部９とを備える顕微鏡装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】理想的なビーム分岐ができ、かつビーム間ピッチを任意に調整することができるレーザー加工装置、レーザービームのピッチ可変方法、及びレーザー加工方法の提供。
【解決手段】レーザービーム発振器２１と音響光学素子２２とこの音響光学素子に接続したＲＦ電源２３と集光レンズ２４、２５とを有し、レーザービーム発振器から発振される単一のレーザービームを音響光学素子を入射せしめ、音響光学素子にＲＦパワーを印加し、単一のレーザービームに音波振動を与え、ラマンナス回折により複数のビームに分岐してビームのピッチ間隔を調整し、ビーム間隔の調整された複数のビームを集光レンズを透過させ、被加工物表面に照射させてライン状の加工を行うために使用されるレーザー加工装置。この加工装置によるレーザービームのピッチ調整、及びこの加工装置を用いた被加工物表面のレーザー加工。 （もっと読む）