【課題】本発明の課題は、電子機器等のディスプレイやタッチパネル等に対して有効に防汚機能を付与することができると共に、ユーザの意思によって自由に再剥離、再付着を行うことができるディスプレイ／タッチパネル用保護フィルムを提供することにある。
【解決手段】本発明に係る積層フィルム１００は、基層１２０、防汚層１１０および粘着層１３０を備える。防汚層は、基層の片側に形成される。粘着層は、基層の防汚層形成側の反対側に形成される。この粘着層は、ＪＩＳ Ｚ０２３７規格に規定される「テープ及びシートをステンレス試験板に対して１８０°に引きはがす試験方法（方法１）」にて剥離速度を５ｍｍ／秒に設定して測定されるガラス板に対する粘着力が４ｃＮ／２５ｍｍ以上２５ｃＮ／２５ｍｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】ハードコート層の本来の機能である機械的強度を有するとともに、防指紋性にも優れたハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルム２上に、第１のハードコート層３、第２のハードコート層４がこの順に設けられ、第１のハードコート層３は鉛筆硬度が３Ｈ以上であり、第２のハードコート層４は厚み０．１〜１μｍ、オレイン酸の接触角３０°以下かつ水の接触角８０°以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム基材上に、他の層を介して又は介さずに、撥水・撥油性で、且つ耐擦傷性を兼ね備えた、低屈折率層を形成した反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】 透明プラスチック基材フィルム上に、直接又は他の層を介して、最表面層として低屈折率層を形成して反射防止フィルムを製造する方法である。該低屈折率層内には、撥水・撥油性基の導入処理及び架橋基の導入処理が施された空隙を有するシリカ微粒子が含まれている。該撥水・撥油性基の導入処理及び架橋基の導入処理が施された空隙を有するシリカ微粒子は、以下の１）〜３）の工程を用いて製造する。
１）空隙を有するシリカ微粒子をイオン交換樹脂にて前処理することにより、不純物イオンを取り除いてシリカ微粒子表面にあるシラノール基の活性を高める工程。
２）該シラノール基の活性が高められた空隙を有するシリカ微粒子に対して撥水・撥油処理剤を添加し加熱を行うことにより、撥水・撥油性基を導入する工程。
３）該撥水・撥油性基を導入した空隙を有するシリカ微粒子に対して架橋性基を有する化合物を添加し還流することにより架橋基を導入する工程。 （もっと読む）

【課題】防汚性等の機能性に優れた薄膜の形成方法及び当該薄膜を有する機能性材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明の薄膜形成方法では、疎水液相と、親水液相との２相からなる処理液を調製し、疎水液相と親水液相との界面に、機能性分子を配列させた後、疎水液相と親水液相との界面を光学レンズに横切らせて、光学レンズの表面に機能性分子を移し取って薄膜を形成する。従って、光学レンズの表面に親水性基が配向した状態で機能性分子を移し取ることができ、防汚性等の機能性に優れた薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材１の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成することと、第１の層の表面に、遷移金属カーバイド、遷移金属シリサイド、遷移金属ゲルマニドの少なくともいずれかを含む透光性薄膜３３を物理的蒸着により形成することとを有する。透光性薄膜を物理的蒸着により形成することは、炭素、ケイ素、ゲルマニウムのいずれかを含む第１の化合物群に含まれる少なくとも１種を含む第１の気体をイオン化することを含む。 （もっと読む）

光管理フィルム構成体は、第１主表面及び第１主表面と反対側の第２主表面を有する第１光学フィルムを含む。第１主表面は非対称構造を有する微細構造表面である。非対称構造は、複数の多面屈折性プリズムの順序付けられた配列を形成し、多面屈折性プリズムを含み、多面屈折性プリズムは、３つ以上の辺を有する。第２光学フィルムは、第１光学フィルムの第１主要構造化表面の構造の実質的に全部と接触し、これらと結合される。光管理構成体は、窓などの光学物品に組み込まれ得る。
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【課題】 透光性基体上に光学機能層を積層した構成であっても、帯電防止性、防汚性、防眩性、高コントラスト、高精細性の特徴を持つ光学積層体、およびそれを用いた偏光板ならびに表示装置の提供。
【解決手段】 透光性基体上に、直接あるいは他の層を介して、少なくとも透光性微粒子と導電材料を含有する光学機能層を設けた光学積層体であって、該光学積層体の全ヘイズが０〜１０の範囲であり、かつ、光学積層体の画像鮮明性が５０〜８０％の範囲であり、光学機能層表面の算術平均粗さＲａが０．０５〜０．２０μｍの範囲であり、光学機能層表面の凹凸平均間隔Ｓｍが５０〜１５０μｍであり、光学機能層の表面における水の接触角が１００°以上であり、光学機能層表面の飽和帯電圧が０．５ｋＶ以下であることを特徴とする光学積層体。 （もっと読む）

【課題】プライマー層とハードコート層との間の密着性が良好であり、しかも、干渉縞の発生を抑制できる光学物品を提供する。
【解決手段】光学基材１の上に形成されたプライマー層２と、プライマー層２の上にバインダー層３を挟んで形成されたハードコート層４とを有する光学物品１０である。この光学物品１０では、プライマー層２の層厚は少なくとも７００ｎｍであり、バインダー層３の屈折率はプライマー層２の屈折率およびハードコート層４の屈折率よりも低く、さらに、その層厚は少なくとも３５ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有しながらも、硬度及び耐擦傷性に優れた低屈折率層を備えた低コストな光学フィルムを提供すること。
【解決手段】光透過性基材の一面側に、膜厚ｄの低屈折率層を備える光学フィルムであって、当該低屈折率層は、平均１次粒径が１０〜１００ｎｍの中空粒子及び分散平均粒径が１〜２０ｎｍ、且つ、当該膜厚ｄの半分以下である中実粒子を含み、当該低屈折率層の膜厚方向の断面、且つ、層平面方向の幅５００ｎｍの領域において、少なくとも１個の当該中空粒子が、当該低屈折率層の硬化した樹脂に被覆されて当該低屈折率層の光透過性基材とは反対側の界面に接しており、当該中実粒子が、当該中空粒子の接している部分以外の当該界面の５０％以上の範囲を占め、且つ、当該界面から膜厚方向の当該中実粒子の分散平均粒径２個分までの深さに、偏在していることを特徴とする、光学フィルム及びそれを備えた偏光板、ディスプレイパネル、ディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】防塵性能の高い光学物品を提供する。
【解決手段】基板１の上に複数層からなる無機薄膜２を有する防塵ガラス１０であって、無機薄膜２は、複数の酸化ケイ素層２Ａと、複数の金属酸化物の層２Ｂと、が積層され、金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンのいずれかを含んだ金属酸化物であり、酸化ケイ素の層２Ａには、低密度の酸化ケイ素層と、この低密度の酸化ケイ素層より密度の高い高密度の酸化ケイ素層とがあり、無機薄膜２の最表層２Ｓは、低密度の酸化ケイ素層であり、無機薄膜２の最表層２Ｓの表面粗さは０．５５ｎｍ以上０．７０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違する基材；および前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含み、これを含む光学製品および前記基板の製造方法に関する。本発明に係る基板は、反射防止性および撥水性がすべて優れている。 （もっと読む）

【課題】表示画面を指で触れて操作した場合でも、表示画面に皮脂等の生体由来脂質成分による指紋等が付着することに対して優れた防汚性を有し、しかもフィルムの干渉縞の発生を抑制した光学フィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルムの少なくとも一方の面に一層以上の樹脂層を設けた光学フィルムにおいて、最表の樹脂層にたとえばセルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステルを含有させる。 （もっと読む）

【課題】指紋などの汚れを拭き取ることができる光学素子を提供する。
【解決手段】反射防止機能を有する光学素子は、表面を有する基体と、基体の表面に可視光の波長以下の微細ピッチで多数配置された、凸部または凹部からなる複数の構造体とを備える。構造体を形成する材料の弾性率が、１ＭＰａ以上１２００ＭＰａ以下であり、構造体のアスペクト比が、０．６以上１．５以下である。 （もっと読む）

【課題】後加工性が良く、透明性が高く、様々な使用環境に耐え得る高付加価値を有する反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】透明基材フィルムである、厚み７０μｍ以上２００μｍ以下、ヘイズ０．５％以下、全光線透過率８８％以上のポリエチレンテレフタラートフィルムの少なくとも一方の面上に、厚み１．５μｍ以上６μｍ以下の全光線透過率８９％以上の光硬化性樹脂からなるハードコート層と、高屈折材料層と、低屈折率層を交互に積層させた４層以上の反射防止層を積層した反射防止フィルムであり、ヘイズが０．３％以下、全光線透過率が９２％以上であり、視感反射率が０．９％以下であり、水蒸気透過速度が２．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ安価に製造可能であり、しかも十分な反射防止性能と耐傷性、さらには防汚性を有する反射防止フィルム及びその製造方法、並びにこの優れた反射防止フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置等の画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体から最も遠くに位置する低屈折率層に、ユニバーサル硬度が１７０Ｎ／ｍｍ^２以上である硬化膜を形成することができる架橋性化合物を含み、該架橋性化合物が（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素共重合体と光重合性多官能モノマーを併用したものであり、該低屈折率層は、屈折率が１．１５以上１．４０以下の中空のシリカ微粒子を含有する、反射防止フィルム。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性に優れたクリア塗膜を与えることが可能で、かつ使用時の手垢や指紋などの皮脂汚れを目立たせずに意匠性を維持し、また、使用時に付着した手垢や指紋などの皮脂汚れを容易に除去可能な、紫外線硬化性組成物を提供。
【解決手段】紫外線硬化性化合物（Ａ）と脂肪酸、脂肪酸エステルまたはそれらの誘導体（Ｂ）と変性ポリシロキサン化合物（Ｃ）とを含む紫外線硬化性組成物である。さらに好ましくは、前記紫外線硬化性化合物（Ａ）が、１分子中に５つ以上の官能基を有する化合物（Ａ１）と、１分子中に３官能あるいは４官能の官能基を有する化合物（Ａ２）および／または１分子中に１官能あるいは２官能の官能基を有する化合物（Ａ３）との混合物である。 （もっと読む）

【課題】優れた帯電防止性を有し、かつ生産性に優れた積層体を提供することにある。また、前記積層体を反射防止フィルムとして用いた際、優れた反射特性、耐擦傷性、密着性、防塵性、防汚性、ハードコート性を有する反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも（Ａ）有機導電性化合物及び（Ｂ）含フッ素硬化性化合物を含む組成物から形成される層を有する積層体であって、該支持体に対して該層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数値（ＬｏｇＳＲ）が１３．０以下であり、
かつ、下記式で表される、前記（Ａ）有機導電性化合物の前記層内における下部偏在率が５５〜１００％である積層体。
下部偏在率＝[（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む組成物から形成される層の膜厚方向において、中央から該層の前記支持体側の界面までの膜厚領域に存在する（Ａ）成分の質量]÷[（Ａ）及び（Ｂ）の成分を含む組成物から形成される層全体に存在する（Ａ）成分の総質量]×１００（％） （もっと読む）

【課題】ハードコート性と耐指紋性とを共に満たし、高硬度で指紋汚れを防止する耐指紋性ハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】耐指紋性フィルムは、透明基材１に、ハードコート層２と耐指紋層３とがこの順で積層された耐指紋性フィルムである。ハードコート層２の厚みは耐指紋層３の厚みに対して１．５〜１０倍である。ハードコート層２と耐指紋層３の屈折率差が０．１以内である。ハードコート層２は、好ましくは、アクリルモノマー又はウレタンアクリレートオリゴマーを主成分とした樹脂で形成される。耐指紋層３は、好ましくは、ポリアルキル基及びポリエーテル基の少なくとも一方を含有する、アクリル樹脂又はウレタンアクリレート樹脂により形成される。 （もっと読む）

【課題】機械強度及び防汚性及び光学特性が安定的に保たれたハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】透明基材上の少なくとも一方の面にハードコート層を備え、且つ、ハードコート層が最表面に位置するハードコートフィルムであって、該ハードコート層がフッ素化合物および／またはケイ素系化合物を含んでなり、且つ、Ｘ線光電子分光分析装置で測定される前記ハードコート層表面のフッ素原子：酸素原子：炭素原子の存在率20atomic%以上50atomic％未満:20atomic％以上〜30atomic％未満:30atomic％以上〜60atomic％未満の範囲であり、且つケイ素の存在率が0atomic％以上〜10atomic％未満の範囲内であり、且つ、表面接触角から算出される表面自由エネルギーが１５ｍＮ／ｍ以上２０ｍＮ／ｍ以下の範囲内であるハードコートフィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第１の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン−ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。 （もっと読む）