本発明は、歯科治療装置の吸引ライン１の洗浄、又は歯科治療装置とは物理的に別個のものとして実施される吸引ラインの洗浄に関し、この吸引ライン１は、負圧を発生させる手段と少なくとも１つの吸引ホース２とを備える。本発明では、吸引ライン１に、所望の点を通過して洗浄剤を流すことを可能にする手段及び／又は所望の点までラインを充填することを可能にする手段が配置されることが重要である。本発明は、吸引ライン１の少なくとも一部に洗浄剤が充填されて吸引ライン１又はその一部に所望の時間にわたって残り続けることができるように、液体状の洗浄剤を吸引ライン１に送り込むことを可能にする。 （もっと読む）

洗浄機内において容器が、容器支持体の収容部内に配置されて、容器引渡し部と容器取り出し部との間において処理機械内に形成された送り区間において、複数の処理領域を通って動かされ、これらの処理領域のうち少なくとも１つが、液状の処理媒体を含む浸漬浴によって形成されている、洗浄機内において瓶または類似の容器を処理する方法。
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【課題】 建物等の構造物に付着しているアスベスト除去する場合、その除去作業により曝露されたアスベストを吸い込む危険性や周囲に与える悪影響を全て回避できるアスベスト除去の施行方法を提唱すること。
【解決手段】 建築物のアスベスト施工面に付着しているアスベスト層を除去するにあたり、アスベスト層に対しコンニャク芋，粉，粒，すり身，小塊，ぺーストまたはエキス等のコンニャク芋加工品と水などとの混合物であるコンニャク混合液を浸透させて、前記アスベスト層を半固溶体の状態にするコンニャク混合液付与行程と、その半固溶体の状態とされた前記アスベスト層を前記アスベスト施工面から剥離するアスベスト層剥離行程からなる。 （もっと読む）

【課題】超臨界流体基板洗浄装置において、リンス終了時に、液化した添加剤が基板洗浄槽に流入することによって、ウェハを濡らし、微細構造を破壊してしまうのを防ぐこと。
【解決手段】基板処理槽２に添加剤２２、２３を含む超臨界流体を供給して被洗浄体を洗浄処理し、その後に前記超臨界流体によるリンス処理を行う洗浄方法であって、前記リンス処理時に、添加剤配管から分岐した分岐配管１１、１２の背圧弁１３、１４を開放し、前記超臨界流体を前記添加剤配管４、５及び分岐配管１１、１２に流通させて、前記添加剤配管４、５内の残留添加剤２２Ａ、２３Ａをパージする。 （もっと読む）

【課題】水熱処理装置の詰まり発生を抑制し、安定した稼働を実現する。
【解決手段】水熱管を通過させることにより有機性廃棄物を水熱処理し、冷却管を通過させることにより水熱処理液を冷却する水熱処理装置の洗浄方法であって、有機性廃棄物に代えて、油脂を鹸化する鹸化剤を前記水熱管に供給して洗浄運転を行う。 （もっと読む）

【課題】
ヘッド洗浄機構搭載により密集して複数個配列されたヘッドの全吐出口から安定した吐出を行う事が可能となり生産性の高いインクジェット装置の提供が求められていた。
【解決手段】
複数列配置されたヘッドの洗浄機構を備えたインクジェット装置において、洗浄機構が少なくとも、ヘッドに当接しながらロール状又はシート状の洗浄部材を繰り出す洗浄手段と、前記洗浄手段に洗浄液を供給する洗浄液供給機構と、前記洗浄手段の下側にあり、繰出可能なシート状のインキ浸透防止手段と、前記インキ浸透防止手段の下側から前記洗浄手段及び前記インキ浸透防止手段を前記ヘッドに押し当てる押当手段とを備えることを特徴とするインクジェット装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
実質的にアルカリ金属を含まず、再付着防止性に優れる界面活性剤を提供する。
【解決手段】
２又は３個の疎水基、２個の親水基及び１個の連結基から構成される酸（Ａ）と、
プロトン付加反応における生成熱変化が１０〜１５２ｋｃａｌ／ｍｏｌであるアミン（Ｂ）との中和塩からなることを特徴とするジェミニ型界面活性剤を用いる。（Ｂ）は分子内に少なくとも１つのグアニジン骨格を有する化合物、分子内に少なくとも１つのアミジン骨格を有する化合物及び分子内に少なくとも１つのＮ＝Ｐ−Ｎ骨格有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種、又はプロトンスポンジ誘導体が好ましい。（Ａ）はジカルボン酸、ジスルホン酸、ジリン酸、カルボキシスルホン酸、カルボキシスルホン酸エステル、カルボキシリン酸、カルボキシリン酸エステル、スルホリン酸、スルホリン酸エステル又はホスホノスルホン酸エステルが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 水処理機器の内部及び／又はこれらと連絡する配管内部の殺菌洗浄及び微粒子洗浄を効率的に行い、殺菌洗浄時間及び垂直立ち上げ時間を短縮する超純水製造システムの殺菌洗浄方法を提供する。
【解決手段】 水処理機器の内部及び／又はこれらと連絡する配管内部を、殺菌洗浄及び微粒子洗浄を行う超純水システムの洗浄方法であり、過酸化水素溶液を注入して殺菌洗浄を行い、該過酸化水素水溶液を廃棄することなく、続いてテトラメチルアンモニウムヒドロキサイド溶液を注入して微粒子洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】洗浄液中で光学部品を洗浄する際に光学部品が傾倒、回転する等、保持姿勢に変化が発生することにより、光学部品を洗浄槽外へ取り出して乾燥させる際に、洗浄液が光学部品の角隅部等に溜まった状態で固化することを防止することができる光学部品の保持治具を提供する。
【解決手段】少なくとも底辺３１と、底辺の両端部から夫々起立する側端縁３２とを備えた光学部品３０を縦置き状態で保持する保持治具１であって、光学部品の底辺を２箇所で支持する２つの底辺支持部３と、該光学部品の両側端縁を夫々支持する２つの側端縁支持部５と、該２つの底辺支持部と該２つの側端縁支持部との間を連結する連結部１０と、を一体的に備えている。 （もっと読む）

【課題】チャンバに形成された開口部を内カバーによって確実に密閉できるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】内部に搬入された基板を処理するためのチャンバ５と、チャンバの一側面に形成された開口部６を開閉する内カバー１５と、内カバーの内面の周辺部に設けられ内カバーを閉じたときにチャンバの一側面の開口部の周辺部に接触するシール材２４と、チャンバの一側面の開口部の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ内カバーを閉じたときに内カバーの周辺部の複数箇所を押圧保持してシール材をチャンバの一側面に圧接させるとともに内カバーを押圧する押圧力の調整が可能な複数のクランパ２７を具備する。 （もっと読む）

【課題】 界面活性剤の使用を回避して十分な洗浄効果を発揮することが可能であり、なおかつ除菌効果を有する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 電解質溶液を含む水に超音波をかけて電解水を生成するとともに１００ナノメートル程度の空気泡を生成して得られた除菌洗浄剤を、対象物に塗布して、その後物理的に汚れ及び微生物を剥離する。 （もっと読む）

【課題】従来の熱酸化膜やＣＶＤ法による絶縁膜の形成方法のみでは、今後の高速、低消費電力デバイスへの応用は不十分である。また、良好なデバイス特性を得るためには様々な形体を持った装置を使用する必要があり、操作性やフットプリントの点で問題がある。
【解決手段】本発明により、大気への暴露を避けて、洗浄、酸化、窒化、薄膜化などの処理を行うことで、洗浄度の高い絶縁膜の形成が可能となる。さらに、同一の動作原理を用いて絶縁膜の形成に関する様々な工程を行うことで、装置形体の簡略化を実現し、特性の優れた絶縁膜を効率よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 熱硬化性樹脂用の成形機用の洗浄剤として好適な洗浄剤樹脂組成物の提供。
【解決手段】
（Ａ）非晶性樹脂１００質量部に対して、（Ｂ）モース硬度が３〜８の無機充填材を２０〜２００質量部、必要に応じて（Ｃ）界面活性剤を１〜１０質量部含有し、比重が１．１５〜２．５である成形機用の洗浄剤樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 基材に擦過痕などを残さず、基材に形成された導電性金属酸化物薄膜を除去する方法と装置を提供する。
【解決手段】 保持手段１７によって導電性金属酸化物薄膜１２を有する基材１３を電解液１１の界面近傍に位置させる。電解液１１に第１電極１４の一端側を浸漬させる。基材１３の導電性金属酸化物薄膜１２と対向状に、第２電極１５の一端を電解液１１の界面と間隔を存して配置する。電解液供給手段１８により第２電極１５に沿わせて電解液１１を供給しつつ、第１電極１４が負極、第２電極１５が正極となるように電源１６より電圧を印加し、第２電極１５の一端側と、供給する電解液１１の界面との間に発生させる放電現象によって導電性金属酸化物薄膜１２を除去する。
【効果】 基材に形成された導電性金属酸化物薄膜を効率良く除去でき、半導体分野で用いられる高価な機能性ガラス基板などの再生利用が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 ポリエチレン容器に充填された尿素水溶液の品質を長期間に亘って保つ。
【解決手段】 ポリエチレン容器１０にカルシウム溶解可能な洗浄溶液を充填する洗浄溶液充填工程と、ポリエチレン容器１０を超音波洗浄器２０で所定時間洗浄する超音波洗浄工程と、ポリエチレン容器１０から洗浄溶液を排出する洗浄溶液排出工程と、ポリエチレン容器１０に純水を充填する純水充填工程と、ポリエチレン容器１０から純水を排出する純水排出工程と、ポリエチレン容器１０を乾燥機３０で乾燥させる乾燥工程と、を順次実行する。そして、洗浄溶液充填工程，超音波洗浄工程及び洗浄溶液排出工程により、ポリエチレン容器１０の内壁に残存するカルシウムを洗浄溶液に溶出させて除去し、その絶対量を減少させる。 （もっと読む）

【課題】安全かつ簡便に効率良く使用することができ、かつ、有機物の分解作用、微生物の殺菌作用及び膜状物の剥離作用に優れた風呂釜洗浄剤を提供すること。また、風呂釜内における炭酸カルシウム等のスケールを除去する作用に優れた風呂釜洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくとも風呂水出入穴が水没する水位まで風呂水を浴槽内に張った状態で、風呂釜に連通し浴槽の壁面に開口された風呂水出入穴の浴槽内部側の周囲を一定の容積に区画するように浴槽の壁面に当接された風呂釜洗浄用具に投入して使用することを特徴とする、発泡性過炭酸ナトリウムを含有する風呂釜洗浄剤である。また、前記風呂釜洗浄用具に投入して使用することを特徴とする酸性物質を含有する風呂釜洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】 フレキシブルプリント基板の高精細化されたリード端子に損傷を与えることなく、また効率のよい洗浄をすることができる、フレキシブルプリント基板のリード端子に付着する表面付着物を除去する基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】 上下方向に移動可能な押圧子と、前記押圧子の押圧面に沿って移動可能なワイピングクロスと、前記ワイピングクロスに洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、洗浄されるフレキシブルプリント基板を固定し得る、少なくとも、水平方向に移動可能である基板テーブルとを備える基板洗浄装置であって、前記押圧子の移動により前記ワイピングクロスを前記基板テーブル上に固定されている前記フレキシブルプリント基板に所定の圧力で当接させ、前記フレキシブルプリント基板を洗浄するに際し、前記押圧子と基板テーブルとが相対的に前記フレキシブルプリント基板のリード端子が延びる方向に移動する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを介したフォトレジストの塗布膜への露光、現像処理によりカラーフィルタを構成するパターンを形成する際に、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの欠陥及び規格外のパターンの発生を回避するフォトマスクの交換頻度を減少させるフォトマスクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ用フォトマスクをアルカリ洗浄液を用いてウエット洗浄をし、その後、該カラーフィルタ用フォトマスクを紫外線を用いて光洗浄をすること。紫外線の主となる波長が１６５ｎｍ〜１７５ｎｍであること。 （もっと読む）

【課題】成形金型の洗浄クォリティーを向上させる。
【解決手段】成形金型の洗浄方法は、成形金型１の表面に形成された堆積物２を溶剤によって膨潤させる工程と、膨潤した堆積物を成形金型１の表面をブラッシングすることによって除去する工程とを含む。 （もっと読む）

プロセスチャンバのコンポーネント上に形成されたプロセス堆積物が洗浄される。洗浄法においては、コンポーネント内のガスホールに機械的にピンを押し込み、その中のプロセス堆積物を洗浄する。その後、コンポーネントのセラミック部分を、フッ化水素酸や硝酸のような酸性溶液に晒す。酸洗浄プロセスステップの後、ガスホールのメカニカルピンニングを繰り返すことができる。その後、コンポーネントを、プラズマゾーンに非反応性ガスを導入するとともにプラズマゾーン内に非反応性ガスのプラズマを形成することによりプラズマゾーン内でプラズマ安定化させる。一変形例においては、コンポーネントは、電極を覆っているセラミックを備え且つその中にガスホールを有する静電チャックを備えている。 （もっと読む）