【課題】フロート法で製作されたＰＤＰ用のガラス基板などのように、微少な表面研磨が要求されるガラス物品の研磨量を高精度に測定する。
【解決手段】ガラス基板１の表面の一部を保護膜で保護した状態で、研磨パッド６によりガラス基板１の表面を研磨した後、研磨後にガラス基板１の表面に残存する保護膜２を除去し、保護膜２が除去されたガラス基板１の未研磨面１ｂと、保護膜２が形成されていなかったガラス基板１の研磨面１ａとの段差Ｄから研磨量を測定する。 （もっと読む）

【課題】上定盤の一部が下定盤の外側にはみ出して上定盤がその自重により傾いてしまう構成でも、上定盤の研磨パッドを基板の全面に均一に当接させることが可能な基板研磨装置を提供すること。
【解決手段】載置される基板６００を吸着保持可能な基板保持面３ｃを有して回転可能な下定盤３と、下定盤３の基板保持面３ｃと並行な平面内で揺動可能であると共に下面に研磨パッド４を有して回転可能な上定盤２を備え、下定盤３上の基板６００に上定盤２の研磨パッド４を押し付けて該基板６００の上面を研磨する基板研磨装置１において、下定盤３の基板保持面３ｃの外縁部には基板６００の外縁部６００ｂを該基板６００の中央部６００ａよりも高くなるように支持する凸部６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】ガラス物品の表面に所期のパターンを正確に形成することができ、且つ、当該パターンを構成する凹部の面性状を幅広い範囲で調整可能なガラス物品の表面加工方法を提供する。
【解決手段】ガラス物品である板ガラス１の表面に凹設するパターンに対応したマスキングを保護膜２で施した後、保護膜２が形成された状態の板ガラス１の表面を機械研磨する。そして、この機械研磨により、板ガラス１の表面のうち、保護膜２の非形成領域を部分的に研磨し、板ガラス１の表面にパターンを構成する凹部１ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学レンズのプレス成形に用いられるボール硝材の成形方法に関し、光学レンズのプレス成形における特性バラツキを抑制することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために本発明は、一対の研磨盤４間に複数の光学硝材１を配置し少なくとも一方の研磨盤４を回転させて光学硝材１を球状に研磨加工するボール硝材３の加工方法であって、光学硝材１を研磨加工する際にボール硝材３より研磨され難い素材からなる基準スペーサ５を研磨盤４の間に複数介在させて光学硝材１の研磨量を制限したのである。 （もっと読む）

【課題】作業効率および作業精度を高めるとともに、発泡系断熱材を切削したときの切り屑を簡単に処分することができる切削装置を提供することを課題とする。
【解決手段】一対の枠部材の間に吹き付けられて膨張した発泡系断熱材の表面を切削するための切削装置１０であって、開口部２１が形成されるとともに、内部空間に通じる吸気孔２２が形成されたカバー部材２０と、カバー部材２０内に取り付けられた基軸部材３０，３０と、基軸部材３０，３０の外周面に設けられ、枠部材の表面よりも柔軟な切削部材４０と、基軸部材３０，３０を軸回りに回転させる駆動機構と、を備え、カバー部材２０の開口部２１を発泡系断熱材の表面に対向させ、基軸部材３０，３０を回転させることで、切削部材４０によって発泡系断熱材の表面が切削される。 （もっと読む）

【課題】研磨される基板が載置される研磨ステージから流下する砥液または洗浄液を回収する側溝内で、これらの液が滞留してしまうことが防止される基板研磨装置を提供すること。
【解決手段】研磨される基板Ｗが載置される研磨ステージ３から流下する砥液または洗浄液を回収する側溝１０内に、その側溝１０の下流側に向けて流体を噴出するノズル２０が設けられることにより、側溝１０内の液をノズル２０から噴出される流体の圧力によって押し流すことができ、側溝１０に傾斜が全くないか、傾斜があってもその傾斜が十分に急ではなく砥液や洗浄液が流れにくい場合でも、側溝１０内の砥液や洗浄液の流れをスムーズにしてこれらを十分に回収することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】研磨傷を低減させることが可能な酸化セリウム粒子を含有する研磨液を提供する。
【解決手段】酸化セリウム粒子及び水を含む研磨液において、研磨液１ｍｌ中の粒子径０．７５μｍ以上の粒子数が３×１０^６個以下である、研磨液。酸化セリウム粒子が、（Ｉ）炭酸セリウムと有機酸とを加熱混合し加熱混合粉体を得る工程、（ＩＩ）該加熱混合粉体を焼成して酸化セリウム粉体を得る工程、（ＩＩＩ）該酸化セリウム粉体を粉砕して、酸化セリウム粒子を得る工程、を有する製造方法により作製された酸化セリウム粒子である前記の研磨液。 （もっと読む）

【課題】優れた研磨速度（研磨レート）を示し、被研磨基材表面での線状痕発生も大幅に抑止可能な研磨用粒子が分散した分散液を提供する。
【解決手段】 動的光散乱法による測定される平均粒子径（Ｄ１）が３〜３００ｎｍ、比表面積（Ｓａ）が１０〜８００ｍ^２／ｇの範囲にある無機酸化物微粒子が分散媒に分散してなる無機酸化物微粒子分散液であって、該無機酸化物微粒子が次の条件を満たすことを特徴とする無機酸化物微粒子分散液。１）顕微鏡により求められる短径／長径比が０．３〜０．８の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の２０〜４５％の範囲。２）電子顕微鏡により求められる短径／長径比が０．５以下の範囲にある無機酸化物微粒子の個数が、全無機酸化物微粒子個数の１０％以下。 （もっと読む）

【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性有機高分子および平均粒径が０．４〜１．８μｍの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整する研磨パッドのドレス処理と、該ドレス処理で調整した研磨パッドを用いてガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨方法及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整するドレス治具として、ドレス処理を行う表面の算術平均粗さＲａが０．１０μｍ〜２．５μｍのドレス治具を用いる。該ドレス治具を用いてドレス処理した研磨パッドの研磨面でガラス基板の主平面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】効果的に加工液の液漏れを防止して、安定した加工作業を行うことができる加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被加工物１００における被加工面１０１の一部を覆って、内部に加工液１５を有する加工室１１を形成するチャンバー容器２０と、チャンバー容器内部に配置され、加工室において加工液を用いて被加工面の加工を行う加工ツール３０と、チャンバー容器の被加工面側に環状に設けられ、被加工面と接触するシール部材２１と、加工室の圧力を、加工室外に対して相対的に減圧する圧力変化装置４０と、加工室を形成した状態のチャンバー容器を、被加工物に対して相対的に移動させる移動手段５０と、チャンバー容器外部に複数配置され、チャンバー容器の複数箇所を、被加工面に対してそれぞれ独立して押圧する押圧手段６０と、を有する加工装置１０とした。 （もっと読む）

原料を切断するためのワイヤおよび該ワイヤで原料を切断する方法。ワイヤは、少なくとも３５ａｔ％の鉄と、略７から５０ａｔ％の範囲内のニッケルおよび／またはコバルトと、略１から３５ａｔ％の範囲内で存在する、ホウ素、炭素、シリコン、リンおよび／または窒素からなる群から選択される少なくとも１つの非金属または半金属と、略０から２５ａｔ％の範囲内で存在する、銅、チタン、モリブデン、アルミニウム、および／またはクロムからなる群から選択される１つの金属と、を含む鉄系合金を有してよく、該ワイヤは１を超えるアスペクト比を有し、５００ｎｍ未満の寸法の金属相および／または結晶相を示す。
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【課題】研磨品質を安定させ、生産効率を向上させるガラス板局所研磨装置、ガラス板局所研磨方法、ガラス製品の製造装置、及びガラス製品の製造方法を提供すること。
【解決手段】検出手段４によりガラス板Ｇ表面の欠陥を検出した後にガラス板Ｇをテーブル２へ吸着固定し、ガラス板Ｇの外形サイズよりも小さい外形サイズの研磨パッド３４により検出手段４により検出された欠陥Ｄの位置とその周囲を研磨することにより、全面研磨せずとも欠陥Ｄを除去する。 （もっと読む）

【課題】下記１）〜３）を満足するガラスポリッシング加工用組成物の提供。１）研削性の向上：研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。２）スクラッチの低減：ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。３）研削クズ除去性の向上：ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】ポリアルキレンポリアミンとＣ２〜Ｃ１２のアルキレン又はアリーレンジカルボン酸との重縮合物のアルキレンオキシド付加物を含有することを特徴とするガラスポリッシング加工用組成物。 （もっと読む）

【課題】フロートガラスの大型化に伴う研磨システムの大型化によって生じる、回転する上定盤の半径位置毎の線速度の差による上定盤の半径位置毎の研磨量のバラツキを最小化することで、全体的な研磨平坦度を改善させることができるフロートガラス研磨システム及びその方法を提供すること。
【解決手段】加工対象であるフロートガラスを回転させる下部ユニット、フロートガラスに接触して回転し得るヘッド組立体１２０、及びヘッド組立体１２０を水平方向に移動させるための移動ユニットを備えるフロートガラス研磨システムにおいて、ヘッド組立体１２０は独立的に回転可能な少なくとも２つ以上のヘッドＨを備える。 （もっと読む）

【課題】研磨ヘッド４０に面ダレが起こり、研磨液の供給量が両端部に多くても、カラーフィルタ１の周縁部にて過研磨の状態になら枚葉研磨機を提供する。
【解決手段】カラーフィルタを水平搬送しながら、その上面に矩形の研磨ヘッドを加圧し公転させて研磨を行う枚葉研磨機にて、進行方向と直角な幅方向に、複数の研磨液滴下ノズル１１を有し、各々の研磨液滴下ノズルは任意な濃度の研磨液を滴下する。複数の研磨液滴下ノズルは、各々のチューブポンプ５０及び各々の研磨液タンクを有し、各々の研磨液滴下ノズルが、任意な濃度の研磨液を、任意な量の滴下をする。 （もっと読む）

【課題】サイズが従来の下定盤と同じであり、その重さを著しく低減させるとともに強度を改善したフロートガラス研磨システム用下定盤を提供する。
【解決手段】花崗岩粒子と熱硬化性樹脂との混合物が成形及び硬化された複合材料で形成される。 （もっと読む）

【課題】長期間安定した研磨性能を維持し被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１０は、湿式成膜法によりウレタン樹脂で一体形成された発泡シート２を有している。発泡シート２は、発泡３が形成された発泡部２ａと発泡３が無形成の無発泡部２ｂとを有している。発泡部２ａは研磨面Ｐ側に、無発泡部２ｂは研磨面Ｐと反対の面側に形成されている。発泡部２ａの厚さは、全体の厚さに対して少なくとも１／２である。無発泡部２ｂの厚さは、全体の厚さに対して少なくとも１／６である。無発泡部２ｂが発泡部２ａを支持する。 （もっと読む）

【課題】被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１０のポリウレタン樹脂製の発泡シート２を備えている。発泡シート２は発泡３が連続発泡状に形成されている。発泡シート２は、研磨面Ｐから全体の厚さに対して５０％の厚み範囲に中空状の樹脂微粒子４が６０％以上局在するように含有されている。発泡シート２の研磨面Ｐ側に研削処理が施され、微粒子４は研磨面Ｐ側で開孔し開孔５が形成されている。発泡シート２は、研磨面Ｐの単位面積あたりに形成され開孔径が１μｍを超える開孔のうち、微粒子４で形成された開孔５の数が、発泡３で形成された開孔の数より大きくなるように形成されている。スラリの分散供給が均一化される。 （もっと読む）

【課題】摩耗を軽減し被研磨物保持性を向上させることができる保持パッドを提供する。
【解決手段】保持パッド１０は、ウレタン樹脂で形成された発泡シート２を有している。発泡シート２は、湿式成膜法により形成された連続状の発泡構造を有している。発泡シート２には、発泡シート２の重量に対してそれぞれ、５重量％以下に制限されたカーボンブラック５と１〜５重量％の範囲のコロイダルシリカ４とが母材中に略均一かつ略均等に含有されている。コロイダルシリカ４の平均粒子径は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲に制限されている。カーボンブラック５およびコロイダルシリカ４が共に発泡シート２の発泡形状を保つ役割を果たし、発泡シート２の発泡形状安定性が確保される。 （もっと読む）