【課題】ガラス等の研磨性を確保しつつ、酸化セリウム量を低減できる研磨材を提供する。
【解決手段】本発明の研磨材は、酸化セリウムよりも比重が小さい無機材からなる基粒子により形成されたコア部と該基粒子よりも粒径が小さく酸化セリウムを含んでなる微粒子が該基粒子の外表面にバインダーにより結合されて形成されたシェル部とを有する複合砥粒を含有することを特徴とする。この複合砥粒は、研磨性に影響するシェル部に酸化セリウムを有し、研磨性に直接影響しないコア部は比重の小さい無機粒子からなる。このため、酸化セリウムによる研磨性の確保と酸化セリウムの低減が両立されることに加えて、複合砥粒のスラリー中における分散安定性も高まり、さらなる研磨性の向上も図られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面異物欠陥が少ないガラス基板製品の提供を目的とする。また、表面異物欠陥が少ないガラス基板製品にガラス基板を研磨する両面研磨装置、及びガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、上下主平面と側面からなる板形状を有するガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨工程において、
ガラス基板に対して霧状の液体を噴霧する霧発生ノズルを有する両面研磨装置と、該両面研磨装置を用いたガラス基板の研磨方法と、該ガラス基板の研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。本発明によれば、表面異物欠陥を大幅に低減したガラス基板製品を提供できる。 （もっと読む）

【課題】精密部品の表面に残存している研磨用のシリカ微粒子を検出すること。
【解決手段】研磨液は、チタン、バナジウム、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ルビジウム、ストロンチウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、インジウム、錫、アンチモン、テルル、セシウム、バリウム、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、イリジウム、白金、金、鉛、ビスマス、並びに希土類元素のグループのうち、前記精密部品に含まれる元素を除く元素を不純物として何れか一つ以上を組成の中に含有するシリカ微粒子を有する。不純物をマーカーとしてサンプル検査工程１０で検出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】高研磨速度と高清浄性の両立を実現でき、循環研磨において長時間高い研磨速度を維持できるガラスハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アミン化合物と、酸と、シリカ粒子と、水とを含有するガラスハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記アミン化合物は、アミノアルコール並びにピペラジン及びその誘導体からなる群から選択され、分子内に窒素原子を２個又は３個有し、そのうち少なくとも１個は１級アミンもしくは２級アミンであるガラスハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】ガラス等の研磨性を確保しつつ、酸化セリウム量を低減できる研磨材を提供する。
【解決手段】本発明の研磨材は、酸化セリウムよりも比重が小さい無機材からなる基粒子により形成されたコア部と合成された酸化セリウムを含み基粒子の外表面に形成されたシェル部とを有する複合砥粒を含有することを特徴とする。この複合砥粒は、研磨性に影響するシェル部に酸化セリウムを有し、研磨性に直接影響しないコア部は比重の小さい無機粒子からなる。このため、酸化セリウムによる研磨性の確保と酸化セリウムの低減が両立されることに加えて、複合砥粒のスラリー中における分散安定性も高まり、さらなる研磨性の向上も図られる。 （もっと読む）

【課題】 生産コストを低減でき、低密度でありながら研磨粒子を含むスラリーが気孔内に浸透することがなく、復元性に優れるため長期間使用可能で、被研磨物との間にエアーの貯留の発生もなく、溶剤使用量が少なく環境汚染を改善できる研磨保持用パッドを得る。
【解決手段】 長径が１０μm以下の微細な開孔を有する連続気泡型発泡ウレタンシートの一面側に熱硬化性ウレタン発泡体が形成されており、研磨対象物を保持するための定盤に前記熱硬化性ウレタン発泡体の他面側を固着させて前記連続気泡型発泡ウレタンシートの他面側が前記研磨対象物に当接する研磨保持用パッドにおいて、前記連続気泡型発泡ウレタンシートは厚みが１１０μｍ以下であり、密度が９９０ｋｇ／ｍ^３以下であって、前記熱硬化性ウレタン発泡体は圧縮永久歪が１０以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化マンガンを研摩粒子として用いた場合、酸化セリウムと同等な研摩特性となる良好な研摩速度と研摩面精度とを実現可能な研摩処理技術を提供する。
【解決手段】本発明は、基材を研摩するための研摩スラリーにおいて、研摩粒子は三酸化二マンガンを主成分とし、研摩粒子の含有量は、研摩スラリーに対して１０重量％未満であり、研摩スラリーのｐＨはｐＨ４以上であることを特徴とする。この研摩スラリーによれば、酸化セリウムと同等以上の研摩速度と研摩面精度を維持できる （もっと読む）

【課題】本発明はガラス基板積層体を保持する作業を効率良く行えると共に、ガラス基板積層体の研磨を高精度に行えることを課題とする。
【解決手段】ワークホルダ１０は、ホルダ本体５０と、上側保持部６０とを有する。ホルダ本体５０は、下側保持部２０の上部に円筒状保持部４０を起立させるように組み合わせてなる。下側保持部２０及び円筒状保持部４０は、複数のボルト２３、８０により締結される。円筒状保持部４０は、第１、第２外周保持部材４０Ａ、４０Ｂを組み合わせて円筒形状を形成するように構成されている。上側保持部６０は、円筒状保持部４０の上部に取付けられ、円筒状保持部４０の内部に収納されたガラス基板積層体１３０を上方から押圧して保持する。本発明は、ガラス基板積層体１３０の基準となるセンタリングシャフトとガラス基板が接触しないため、ガラス基板の内周端面にキズを発生させることなく、破壊強度に優れるガラス基板を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の成分を含むハードディスクガラス基板研磨用潤滑液組成物。
（Ａ）炭素数６〜２５で水酸基を２個以上有する脂肪族モノカルボン酸
（Ｂ）多価アルコール類
（Ｃ）アルカノールアミン
（Ｄ）水 （もっと読む）

【課題】固定砥粒ワイヤソーを用いた、ガラス、サファイア、セラミックス、シリコン、ネオジウム等の脆性材料の切断加工において、防錆性に優れ、従来の市販水溶性加工油剤より切断性に優れ、切断加工能率を向上させることができ、また低起泡性である固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工油剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）グリコール類、例えばジエチレングリコール、（Ｂ）炭素数２〜６のカルボン酸、例えばクエン酸、（Ｃ）アルカリ金属化合物、例えば水酸化カリウム、及び（Ｄ）水を含有し、ｐHが8.0〜8.6である固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工油剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板を製造する方法及び基板を提供する。
【解決手段】研磨部材及び研磨粒子を含む流体を用いて基板を研磨する工程並びに前記基板を研磨する前に前記研磨部材を用いて被研磨板を研磨する工程を含む、基板を製造する方法において、前記被研磨板を研磨する工程は、前記研磨部材及び前記研磨粒子を含む流体を用いて前記被研磨板を研磨するときの前記研磨粒子を含む流体に含まれる前記研磨粒子のＤ９０の値の単位時間当たりの増加率が、前記研磨粒子を含む流体に含まれる前記研磨粒子のＤ９０の値の単位時間当たりの増加率が一定の値であるときの前記一定の値の１．１倍以下となるような時間まで、前記被研磨板を研磨することを含む。基板は、上記の基板を製造する方法によって製造され得るものである。 （もっと読む）

【課題】クーラント液の液圧の影響を排除することにより、加工面品位の向上や、割れおよび落下を防止することが可能なワイヤソー装置およびワイヤソーによる切断加工方法の提供。
【解決手段】走行するワイヤ３に対してクーラント液Ｃを掛けながら被削材Ｘを押し当てることにより被削材Ｘを切断していき、この切断された被削材Ｘを、クーラント液Ｃを受ける水槽５内に浸漬していくワイヤソー装置１であって、水槽５内に、ワイヤ３の走行方向に対して被削材Ｘの前方および後方に仕切壁８ａ，８ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れ、同一ロットで研磨されたガラス基板間の板厚偏差が小さい磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れ、同一ロットで研磨されたガラス基板間の板厚偏差が小さい磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く研磨するガラス基板の研磨方法、及び該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したとき、前記ガラス基板を研磨する前の研磨液の温度Ｔｓ１から、ガラス基板を研磨した後の研磨液の温度Ｔｓ２を差し引いた、研磨液温度差ΔＴｓ（＝Ｔｓ１−Ｔｓ２）が−３℃〜０℃であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ワークホールの内周面に弾性体を設けることなく、ワークホールの周囲の部位に穴加工することで、ワークホール内に装填の被加工物に加えられる水平方向の応力を穏やかにして、不良の発生を抑える。
【解決手段】ラッピングキャリヤ本体２に所望の形状で複数のワークホール４を形成する。そのワークホール４の周囲に沿って１個もしくは複数個の貫通穴６を形成する。この貫通穴６の加工によりその内側に枠体７と、この枠体７を支える支持体８とが設けられる。この支持体８の構造からばね作用が付加され、被加工物にかかる水平方向の応力を穏やかにする。 （もっと読む）

【課題】逆オスカー型の研磨装置において、上定盤の外部のカラーフィルタ上に研磨液を滴下させて研磨を行っても、研磨量の制御が容易で、安定した研磨のできる研磨装置を提供する。
【解決手段】上定盤３３に対向する下定盤１への荷重の分布を上定盤の外周部のみとするために、上定盤は上定盤上層３３ａと上定盤下層３３ｂで構成し、上定盤の下面を中凹状５０にする調整機構として押込みボルト３１を上定盤上層３３ａの中心部ｑを除く内面部ｒから外周部ｔに向かって複数個設けたこと。上定盤４３を厚さ方向を２分するスリット４４を中心部を除く内面部から外周部に向かって設け、押込みボルト４１を上定盤上半部４３ａの中心部を除く内面部から外周部に向かって複数個設けたこと。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、および該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの両面研磨装置の上定盤の内周端側で測定した表面温度ｔｐ１と外周端側で測定した表面温度ｔｐ２との差Δｔｐ（ｔｐ１−ｔｐ２）の絶対値が３℃以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用反射型マスクなどに使用されるガラス基板のように極めて高い表面平滑性と表面精度が要求されるガラス基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５０ｎｍ以下のコロイダルシリカ、酸および水を含み、ｐＨが０．５〜４の範囲になるように調整してなる研磨スラリーを用いて、ＳｉＯ_２を主成分とするガラス基板の表面を、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さＲｍｓが０．１５ｎｍ以下になるように研磨する。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のうねりの低減を実現できるアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物は、シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が１．５〜５．０Ｌ／ｇである。前記スルホン酸基を含有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を含有する重合体の重量平均分子量は、３０００〜１０００００であると好ましい。 （もっと読む）

【課題】 下記１）〜３）を満足するガラスエッチング組成物、ガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法の提供。
１）研削性の向上： 研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。
２）スクラッチの低減： ハードディスク表面上のスクラッチ（傷）を減らし、収率を向上させる。
３）研削クズ除去性の向上： ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】 アルカリ化合物と（１）分子中に３個以上のアルコール性水酸基を有するアルコール、（２）分子中に２個以上のアルコール性水酸基を有するアミン化合物及び（３）リン系キレート剤からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物とを含有する水溶液であることを特徴とするガラスエッチング組成物、これを利用するガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法。 （もっと読む）

【課題】大型基板の研磨時の大きな研磨抵抗が小さくなるよう改善してより高い荷重で効率よく研磨できるようにする。
【解決手段】研磨布を貼り付けた定盤と、マスクブランク用基板とを、一定荷重をかけた状態で相対的に移動させ、その際研磨液を研磨布とマスクブランク用基板との接触面間に供給してマスクブランク用基板の研磨を行う工程を有するマスクブランク用基板の製造方法であって、 前記研磨布を貼り付けた定盤は、定盤１の研磨布貼り付け面に溝を有し、この溝の断面形状は、少なくとも溝の開口周縁部において曲線状又は曲面状に形成されてなる定盤と、 前記定盤１の研磨布貼り付け平面及び前記所定の開口周縁部形態を有する溝の形態に沿って貼り付けられた研磨布２と、で構成され、この「研磨布を貼り付けた所定の定盤」３を用い、マスクブランク用基板４の研磨を行うことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 （もっと読む）