垂直型電気的接触体及びその製造方法を提供する。本発明は犠牲基板上に第１保護膜パターンを形成する第１段階と、エッチング工程を実行することによって前記犠牲基板上にトレンチを形成する第２段階と、前記第１保護膜パターンを除去し、前記犠牲基板の上部に第２保護膜パターンを形成して空間部を形成する第３段階と、前記トレンチと前記空間部に導電性物質を埋め込ませてチップ及び支持ビームを形成する第４段階と、前記チップ及び支持ビームが形成された犠牲基板の上部に第３保護膜パターンを形成して空間部を形成する第５段階と、前記空間部に導電性物質を埋め込ませて中孔型容器本体を形成する第６段階と、前記中孔型容器本体をＭＰＨ上に形成されたバンプにボンディングする第７段階と、前記犠牲基板を除去させることによって電気的接触体のチップを開放する第８段階とを含んで構成されることを特徴とする。
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ＭＥＭデバイスは、可動要素（３０）と、可動要素を移動させるための一対の電極（ｅ１，ｅ２）と、電極のプルイン（引き込み）に対する更なる抵抗を与えるために他のそれぞれの電極に対して弾性的に結合された独立可動部（ｅ３）を有する一つの電極とを有している。これは、高い解放電圧Ｖ_ｒｅｌを可能にし、従って、スティクションの危険を低減することができる。また、Ｖ_ｒｅｌに対するＶ_ＰＩの比率も減少させることができ、そのため、可動要素の移動のために幅広い範囲の電圧を利用できる。これにより、高速切り換えが可能になる。独立可動部の面積は他の電極よりも小さく、また、弾性カップリングのバネ定数はフレキシブルな支持体のそれよりも大きい。あるいは、可動要素は、それが基板と接触するときにプルインに対する更なる抵抗を与えるために基板に対して弾性的に結合され且つ基板に向けて突出する可動スタンプ部分を有することができる。
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微小電気機械システム（１００、２００、３００、４００及び５００）は、屈曲部（１２０）を含み、屈曲部（１２０）はアモルファス材料で作成される。同様に、微小電気機械システム（１００、２００、３００、４００及び５００）を形成する方法は、基板（１１０，２１０）を形成することと、アモルファス屈曲部（１２０）を形成することとを含み、アモルファス屈曲部（１２０）は、基板（１１０，２１０）に結合されている。
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【課題】薄膜トランジスター製造技術を使用して反射表示デバイスを作る方法を提供する。
【解決手段】（光干渉変調器などの）ＭＥＭＳデバイスは薄膜トランジスター（ＴＦＴ）製造技術を使用して製造されうる。ある実施形態では、ＭＥＭＳ製造プロセスは、ＴＦＴ生産ラインを識別することと、ＴＦＴ生産ラインでＭＥＭＳデバイスの製造の準備をすることとを含んでいる。別の実施形態では、光干渉変調器は、あらかじめＴＦＴ生産のために構成された生産ラインで少なくとも部分的に製造される。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイのアクティブ領域の方へ光を方向付けるための光学膜を提供する。
【解決手段】 本発明のさまざまな実施形態では、干渉計測ディスプレイデバイスは、光をディスプレイの非アクティブ領域からディスプレイのアクティブ領域に方向付ける複数の構造体を備えた外部膜を有する。一般にディスプレイの非アクティブ領域に向かって連続している外部膜への入射光が、光学キャビティを形成する可動反射面と静止反射面とを備えるディスプレイのアクティブ領域の方へ反射されるか回折されるか散乱される。 （もっと読む）

干渉変調器のヒステリシスウインドウの幅とロケーションは、干渉変調器の種々の物理的特性を調節することにより変更されてもよい。従って、干渉変調器が製造される特定のアプリケーションに応じて、ヒステリシスウインドウの幅とロケーションは変更されてもよい。例えば、いくつかのアプリケーションにおいて、干渉変調器のアレイを動作させるのに必要な電力を低減することは重要な考察かもしれない。他のアプリケーションにおいて、干渉変調器の速度は、より重要かもしれない。この場合、ここで使用されるように干渉変調器の速度は可動鏡をアクチュエートさせたり弛緩させたりする速度を指す。他のアプリケーションにおいて、コストと製造の容易さは最も重要であるかもしれない。種々の物理的特性を調節することによりヒステリシスウインドウの幅とロケーションの選択を可能にするシステムと方法が導入される。
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【課題】インターフェロメトリック変調器の欠陥を視覚的に検査する方法
【解決手段】様々な駆動状態における、インターフェロメトリック変調器のアレイ６０の視覚的検査のための方法が提供される。この方法は、検査パッド７２等の単一の検査パッド又は検査リードを介して、インターフェロメトリック変調器の多数の列又は行を駆動することと、その後に、アレイ６０の予想した光出力と実際の光出力の相違についてアレイ６０を観察することとを含むことができる。この方法は、特に、例えば、列６２等の隣接しない行又は列からなるセットを、列６４等の間にある行又は列とは異なる状態に駆動することと、その後に、アレイ６０の光出力を観察することとを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】充てん物質を使用した光干渉光変調器と方法を提供する。
【解決手段】基板と可動ミラーと変形可能層と支持構造とを備えているＭＥＭＳデバイスたとえば光干渉変調器を備えている装置と製造するための方法とシステムとが記述されている。いくつかの実施形態では、支持構造は複数の支持ポストを備えている。コネクターは、変形可能層に固定された可動ミラーを固定する。コネクターと支持ポストの少なくとも一つが、第一の構成部分と第一の構成部分と第二の構成部分とからなる複合物であり、ここで第一の構成部分においてがコネクターと支持ポストの周囲の少なくとも一つの少なくとも一部を形成する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイの角度特性を制御するための光学フィルム。
【解決手段】本発明の種々の実施形態において、光干渉ディスプレイ・デバイスは、ディスプレイの視界を狭くする複数の構造を用いる外部フィルムを有して提供される。これらの構造は、例えば、バッフル又は複合パラボラ集束器のような非結像光学素子を備えることができる。バッフルは、例えば、グリッドに配列された複数の垂直に向きを揃えて並べられた表面を備えることができる。ある種の好ましい実施形態では、これらのバッフルは、不透明又は反射性である。したがって、これらの垂直な面は、光が実質的に垂直でない方向に光干渉ディスプレイ・デバイスを出ることを実質的に遮ることができる。しかしながら、これらの垂直な面は、実質的に垂直な方向に向けられた光がディスプレイを出ることを可能にする。非結像光学素子、例えば、複合パラボラ集束器は、大きな入射角からディスプレイに向かってさらに垂直な角度へと光の向きを変える。その結果、ユーザへディスプレイによって反射された光は、同様にさらに垂直な角度である。 （もっと読む）

インターフェロメトリックモジュレータデバイス中の支持構造（１８）はデバイス中の様々な他の構造と接触する。支持構造（１８）と他の構造との間の接合強度の増加は様々な方法、例えば、粗面及び／または支持構造と他の構造との間の界面に接着材料を使用することによって達成される。実施形態では、接着力増加は支持構造（１８）と基板層（２０）との間で達成される。別の実施形態では、接着力増加は支持構造（１８）と可動層（１４）との間で達成される。接着力増加は支持構造とインターフェロメトリックモジュレータ内に取付けられる他の構造との間の望ましくない滑りを減少させる。
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【解決手段】電圧が加えられると変形可能となる薄膜あるいは層を備えたＭＥＭＳスイッチが形成される。いくつかの実施形態では、電圧の印加が、スイッチコンタクトを開く。 （もっと読む）

可動電極の周縁から延びる３の倍数の支持腕を含む微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）スイッチが提供される。さらに、ＭＥＭＳスイッチは、固定電極と可動電極との間の空間内に延びる部分を有する複数の接触構造を含む。ある場合には、支持腕と接触構造の相対配置は、固定電極の全体と可動電極の全体をひとまとめにして構成するＭＥＭＳスイッチの３つの領域の間で合同である。他の実施形態では、接触構造は、ＭＥＭＳスイッチ内で合同に配置されなくてもよい。
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本発明は、電気的機械的共振器に関するものであって、振動ボディ（４）と、少なくとも１つの励起電極（１４，１６）と、少なくとも１つの検出電極（１０，１２）と、を具備してなる共振器において、振動ボディが、第１ヤング率を有した第１材料から形成された第１部分（２０）と、第１ヤング率よりも小さな第２ヤング率を有した第２材料から形成された第２部分（２２）と、を備え、この第２部分が、少なくとも部分的に、検出電極（１０，１２）に対向して配置されていることを特徴としている。
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ＭＥＭＳは、基質材を使用しないでファイバーから作られる。装置は、ファイバーが基板のエッジに取り付けられる場所にのみ作ることが出来る（例えば、カンチレバー、ブリッジ）。動きは、弱い結合を有する複数のファイバー間の結合を調整することによって制御可能である（例えば、基礎部、先端、その中間）。駆動機構は、基礎部の加重（磁気、圧電、静電気）または先端の加重（磁気）を含む。光スキャナーを形成するために、ミラーがカンチレバーの自由端に形成される。 （もっと読む）

【課題】マイクロマシン技術（ＭＥＭＳ）スイッチ用のビームを提供する。
【解決手段】カンチレバービームを有するＲＦマイクロマシン技術（ＭＥＭＳ）スイッチは、応力勾配が小さいポリシリコンと金属コンタクトから形成されるとしてもよい。本発明の幾つかの実施形態によれば、ビームと基板の間の領域には誘電体が存在しない構成としてもよい。また、酸化物層が窒化物保護層によって保護されるとしてもよい。 （もっと読む）

静電アクチュエータは第１電極を備えたベースと、お互いに接触する異なる材料から成る少なくとも二つの材料層を備えたフレキシブル膜とを備える。材料層の少なくとも一つは前記第１電極から電気的に絶縁された第２電極を備える。フレキシブル膜は、ベースに接続された固定端部分と、固定端部分の反対にある自由端部分とを有する。フレキシブル膜において、第２電極は、第３部分から区分されており固定端部分周辺に備えられる段差を組み合わさって画定する少なくとも第１及び第２部分を有する。第１部分は、固定端部分に最も近く、第１電極からの距離が第２部分よりも短く区分されている。フレキシブル膜の一部には、自由端部分の向かうフレキシブル膜上に硬化部材を配置可能である。静電アクチュエータは、ベースを貫通して延伸し固定端部分から離れる方向に沿って延伸する細長い開口部を備えることができる。
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ＭＥＭＳデバイスは基板（ＭＥＭＳ構造を有する）の上面からその基板の下面へと延びる少なくとも一つの導電経路を有する。少なくとも一つの導電経路は、その基板を介して延び、下面とＭＥＭＳ構造とを電気的に接続する。本発明が提供するは、例えば、上面および下面を有する基板であって、該上面がＭＥＭＳ構造を含む、基板と；ＭＥＭＳ構造から該下面まで該基板を介して延びる少なくとも一つの導電経路であって、該少なくとも一つの導電経路は、該ＭＥＭＳ構造と統合され、該ＭＥＭＳ構造と実質的に同じ材料から形成される、少なくとも一つの導電経路とを備える。
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２次元運動可能でありアクチュエータ支持体（１２）に接続された駆動エレメント（１４ａｄ）を有する電気機械式アクチュエータ（１０）が開示される。アクチュエータ支持体（１２）はフェロメカニカル的に非能動的である材料で作られる。さらに、駆動エレメント（１４ａ−ｄ）とアクチュエータ支持体（１２）との間のジョイントは堅固であり非常に安定している。これは、たとえば、熱硬化プラスチック接着、拡散ボンディング、又は、共焼結によって作られた不可逆的なジョイントの使用によって実現される。共焼結が好ましい。アクチュエータ支持体（１２）材料は、堅固であるように選択され、好ましくは７０ＧＰａ、より好ましくは１００ＧＰａを超える剛性を有し、好ましくは５Ｗ／ｍＫ、より好ましくは１０Ｗ／ｍＫを超える高い熱伝導率を有する。電極（２２）は、剛性を増大させると同時に熱伝導率を改善するため、好ましくはアクチュエータ支持体に一体化される。駆動エレメント（１４ａ−ｄ）は、好ましくは、少なくとも駆動面において、熱伝導材料によって覆われる（２８、２６）。 （もっと読む）