【課題】 貴金属材料の使用量を削減しつつ、低抵抗の電気配線を高い生産能力で形成することができる成膜方法等を提供する。
【解決手段】 基板５０上に薄膜５２のパターン１２を形成する成膜方法であって、マスク１０を用いて気相成長法により基板５０上に金属下地膜６０を成膜し、パターン１２を形成する第１工程と、基板５０にメッキ処理を施して金属下地層からなるパターン１２上に金属膜６５を成膜する第２工程と、を有する。
（もっと読む）

【課題】簡明な構造でありながら、十分な吸湿能力を得ることができる複合吸湿機能を備えた、有機ＥＬ素子の封止キャップを提供する。
【解決手段】少なくとも透明電極膜、有機ＥＬ層、陰極用電極からなる複数個の有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）のアレイを搭載した透明基板に対応するサイズを備え、縁辺部に脚部を有し前記脚部の先端が前記透明基板の縁辺部に気密接着される有機ＥＬ素子の封止キャップであって、前記ＯＬＥＤのアレイに面する内表面が吸湿性を有し、さらに前記内表面に通水性を有する吸湿材が設置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ベタ封止された有機ＥＬパネルの劣化を長期間防止する。
【解決手段】有機ＥＬ素子をなす積層体１１が形成されているガラス基板１上の、基板面内の全周縁部に、カルシウム（Ｃａ）からなる部材７を形成する。積層体１１の反基板側の面に合成樹脂からなる封止層８を形成する。この封止層８は部材７より外側まで形成する。封止層８の反基板側の面にガラス板９を固定する。 （もっと読む）

【課題】 発光効率、耐水性などに優れた有機ＥＬ素子の正孔輸送層の形成材料として有用なチオフェン誘導体、該誘導体を単量体とする重合体および有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされることを特徴とするチオフェン誘導体、該誘導体からなる重合体、有機ＥＬ素子。


（上記一般式（１）におけるＸはハロゲン原子であり、Ｒはアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子に悪影響を及ぼすことなく、効果的な封止を行うことにより、ダークスポットの発生・成長を確実に抑制して、長期間にわたって安定な発光特性を維持することが出来る有機ＥＬ素子封止用の硬化性樹脂性組成物を得ること。
【解決手段】 ガラスもしくはフィルム基板１上に透明電極２、正孔輸送層３、有機物ＥＬ層４及び背面電極５からなる有機ＥＬ層を形成し、有機ＥＬ素子封止材層７を積層して非透水性ガラスもしくはフィルム６と貼り合わせることにより得られる有機ＥＬ素子に使用することができる有機ＥＬ素子封止材であり、該有機ＥＬ素子封止材が、（Ａ）分子中にグリシジル基を有する化合物：１００重量部（Ｂ）酸無水物硬化剤：５０〜１５０重量部を主成分とすることを特徴とする有機ＥＬ素子封止材。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子（特にトップエミッション方式の有機ＥＬ素子）用乾燥剤として好適な吸湿容量の高い透明性乾燥剤を提供する。
【解決手段】金属アルコキシドとポリオールとを反応させることにより得られる有機金属化合物を含有することを特徴とする透明性乾燥剤。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子に悪影響を及ぼすことなく封止を行うことにより、ダークスポットの発生・成長を確実に抑制して、高透過率を保持させることにより長期間にわたって安定な発光特性を維持することができる有機ＥＬ素子封止用の硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）分子中にグリシジル基を有する化合物、（Ｂ）平均粒径７μｍ以下、最大２０μｍ以下の２，４−ジアミノ−６−〔２’−メチルイミダゾリル−（１’）〕−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物、（Ｃ）テトラブチルアンモニウムブロマイドもしくはテトラブチルホスホニウムブロマイドまたは混合物、及び（Ｄ）シランカップリング剤の上記（Ａ）〜（Ｄ）を主成分とする有機ＥＬ素子封止用の一液型硬化性樹脂組成物とした。 （もっと読む）

【課題】 ＯＬＥＤ表示パネルのダウンサイズ化を図れると共に高信頼性を確保でき、しかも装置の稼働率の向上を図れ、ランニングコストも削減できる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置並びに有機ＥＬ素子を提供することである。
【解決手段】 基板11上に陽極，有機発光層，陰極を順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する封止膜13を形成して成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止膜13を基板11の略全面に積層成膜する封止膜形成機構と、陽極若しくは陰極の端子部14上に積層された複数の有機膜から成るまたは一若しくは複数の有機膜と無機膜とを積層して成る封止膜13の一部若しくは全部にレーザー光を照射して、この端子部14上の封止膜13を除去することで、前記端子部14を露出せしめる給電用開口部15を形成する封止膜除去機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 表示装置において、水分による劣化を防止し、製造時に下側の配線がエッチングによってダメージを受ける程度を軽減する。
【解決手段】 表示装置は、基板１と、有機平坦化膜８と、画素電極９と、発光層１１と、発光層１１の上側を覆うように配置され、さらに対向電極接続領域７５にまで延在する対向電極１２と、画素電極９に対して電気的に接続された状態で基板１の表面に配置されたトランジスタ素子２と、対向電極接続領域７５に形成された外部端子引出用導電層１４とを備える。対向電極接続領域７５においては、対向電極１２は、対向電極１２の下側を覆う仲介導電層１５を介して外部端子引出用導電層１４と電気的に接続されている。有機平坦化膜８は、対向電極接続領域７５の少なくとも表示領域７３寄りの辺に沿って分断された箇所を有する。 （もっと読む）

【課題】 水分や酸素の影響を抑制し安定した発光特性を維持するための粘性粘性吸湿部材を、適切に有機ＥＬパネルに塗布する。
【解決手段】 本発明の一態様における表示パネルの製造方法は、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間の封止空間内に形成された表示素子とを有する表示パネルの製造方法であって、粘性吸湿部材を前記第１の基板上に塗布し、前記第１の基板上に塗布された粘性吸湿部材に対して、前記粘性吸湿部材の厚みが小さくなるようにガスを吹き付け、前記粘性吸湿部材が前記封止空間内に配置されるように、前記第１の基板と前記第２の基板を接着剤によってシールするものである。 （もっと読む）

【課題】 マイグレーションの発生による引出配線と金属封止部材との短絡を未然に防いで、自発光パネルを正常に稼働させる。
【解決手段】 自発光素子部２が形成された透明な支持基板上に自発光素子部２を覆う封止空間Ｍを形成するように、金属製の封止部材３の周縁に形成される接着領域Ｌａに光硬化性の接着剤層４を形成して、支持基板１と封止部材３とを貼り合わせる。自発光素子部２から封止空間Ｍの外に引き出される引出配線５を備え、引出配線５は、支持基板１上に形成された透明導電膜５０と透明導電膜５０上に積層されたマイグレーションを生じ易い金属元素を含む金属電極層５１とからなり、接着領域Ｌａを横切る引出配線５上で、接着剤層４の少なくとも最外部分に水分遮断領域４ｈを形成した。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、コンタクトにおける開口部の段差を絶縁層によって被覆し、段差を軽減し、なだらかな形状に加工する。その絶縁層に接して配線等は形成されるため、配線の被覆性が向上する。また、透水性を有する有機材料を含む層を表示装置の中にシール材で封止してしまうため、発光素子の水等の汚染物質による劣化を防ぐ事ができる。シール材は表示装置の駆動回路領域の一部に形成されるため表示装置の狭額縁化も達成できる。 （もっと読む）

【課題】 含ハロゲン芳香族化合物のうち、重合後に水分や酸素の遮断性に優れた膜を形成することのできる化合物を見出して、高性能なパッシベーション膜を備えた半導体装置および有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される繰り返し単位を有するフッ素含有重合体からなることを特徴とするパッシベーション膜である。
−（Ｘ₂Ｃ−Ａｒ−ＣＸ₂）− …（１）
（ただし、式中、Ｘは水素かフッ素を示し、Ａｒはフッ素で置換されていてもよい２価の芳香環を示し、Ａｒがフッ素を有していないときはＸのいずれか１個以上がフッ素である。） （もっと読む）

【課題】 水及び酸素に対して強力な捕捉能力を有すると共に透明な捕捉剤を提供すること。
【解決手段】
有機ＥＬパネル用捕捉剤は下記式によって表される。
Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｍ
但し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、環式アルキル基及、アリール基及びアルコキシ基、カルボキシル基から選ばれた１種以上のものであって同一でも異なっていてもよいが、１つ以上のＣ−Ｍ結合を有する。Ｍはアルミニウム及びボロンから選ばれた１種のものである。 （もっと読む）

【課題】 容易な構造で、有機絶縁膜からの水分の放出を防止できるアクティブマトリクス型表示装置を提供する。
【解決手段】 アクティブマトリクス型表示装置は、ＴＦＴ２との電気的な接続を行なうためのコンタクトホール４ａを含む有機絶縁膜４と、有機絶縁膜４の表面の少なくとも一部に形成された画素メタル電極７ａとを備える。有機絶縁膜４は、隣り合う画素の画素メタル電極７ａを互いに分離するように形成された第１溝部４ｂを含む。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子や液晶表示素子等の、精密で、極めて低湿度、低酸素濃度の動作環境が要求されるデバイスに十分な寿命を与えることが可能な電子デバイス用可とう性封止フィルム、およびそれらを用いた表示素子を提供する
【解決手段】 １２０℃、２４時間の高温試験における寸法変化が一定値以下であり、６０℃、相対湿度９０％１００時間の高温高湿試験における寸法変化が一定値以下であり、酸素透過率が一定値以下であり、透湿度が一定値以下であり、酸素吸着能力が一定値以上であり、かつ、吸湿能力が一定値以上であることを特徴とする電子デバイス用の可とう性封止フィルム。 （もっと読む）

【課題】密封状態が破壊されることなく、他の部材を貫通させることができる有機発光装置およびこれを備えた時計を提供する。
【解決手段】基板３１の下面にダイオード・マトリックス３２を設け、かつ、その下方に、上面に吸湿部材３４が取り付けられている蓋体３３を設け、この蓋体３３と基板３１との間にダイオード・マトリックス３２及び吸湿部材３４を周りから囲んで密封するようにシール手段３５を挟持している。シール手段３５内のダイオード・マトリックス３２と吸湿部材３４の両者以外の部分に、中間部材３６が蓋体３３と基板３１との間に密接に挟まれていると共に、基板３１、中間部材３６および蓋体３３を上下方向に貫通している通孔３７が形成されている有機発光装置。 （もっと読む）

【課題】 極薄の基板を用いた有機電子デバイスを簡便な方法で製造すること。
【解決手段】 基板の第一表面を研磨する第一工程と、第一表面に保護高分子層を設ける第二工程と、基板の第一表面の裏側にある第二表面をエッチングにより基板の厚みを薄くする第三工程と、エッチングされた第二表面上に高分子材料を含んだ高分子層を設ける第四工程と、保護高分子層を除去する第五工程と、保護高分子層が除去された第一表面に有機電子デバイスを形成する第六工程を備えることとした。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れる窒化シリコン膜を低温で形成することができる窒化シリコン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る窒化シリコン膜の製造方法は、冷却可能な基材ホルダ４上にプラスチックフィルム１５が設置され、かつ、このプラスチックフィルム１５の上方に加熱可能なタングステンワイヤ６が設けられた真空槽２の内部を、減圧装置３により減圧して真空状態にする減圧工程と、減圧工程により減圧された真空槽２の内部に、シャワーヘッド５によりシランガス、アンモニアガス及び水素ガスを導入するガス導入工程と、ガス導入工程により真空槽２の内部に導入されたガスを、タングステンワイヤ６を加熱しつつタングステンワイヤ６により接触分解するガス分解工程と、ガス分解工程により得られるガスの分解種を、基材ホルダ４を冷却しつつプラスチックフィルム１５の表面に堆積させることにより、プラスチックフィルム１５の表面に窒化シリコン膜を形成する成膜工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法による封止膜のパターニング精度及び膜厚均一性の向上を図ることができる封止膜の形成方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板１の下面１ａ上に配置されるメタルマスク２は、０．５ｍｍ程度の板厚を有するマスク本体部４を有すると共に開口の周縁部に位置する開口エッジ部５がマスク本体部４の板厚よりも薄く形成されている。メタルマスク２は、一対の主面のうち第１の主面２ａが基板１の表面に当接される一方、第２の主面２ｂの開口エッジ部５が切り欠かれることによりマスク本体部４と開口エッジ部５との間には段差が設けられている。封止膜の形成時には、まず基板１の下面１ａ上にメタルマスク２を配置し、次にメタルマスク２の開口を介してプラズマＣＶＤ法により基板１上の第１電極６、発光層７及び第２電極８を覆うように封止膜９を形成する。 （もっと読む）