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Fターム[3K107DD16]の内容

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Fターム[3K107DD16]に分類される特許

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【課題】本発明の目的は、極めて高いバリア性能をもち、かつ経時安定性に優れたバリア性フィルムを安価に製造するための製造方法を提供すること、およびその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めて耐久性の高い有機光電変換素子や有機EL素子の様な有機電子デバイスを提供することにある。
【解決手段】樹脂基板の少なくとも一面上に、ポリシラザン骨格を有するシリコン化合物層を設け、該シリコン化合物層を少なくとも波長200nm以下の真空紫外光を照射することにより改質して酸化ケイ素または酸窒化ケイ素からなるガスバリア性層を成膜するガスバリア性フィルムの製造方法に於いて、特定の式1を満足する条件でガスバリア性層を成膜することを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】青色領域で優れた発光効率を示すうえ、物質の安定性に優れた新しい構造のナノ結晶を提供する。
【解決手段】2種以上の物質からなる多層構造のナノ結晶において、前記物質の合金層を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、相対的に低温工程で製造された薄膜トランジスターと、前記薄膜トランジスターを使用して相対的に低温工程で製造された表示装置と、前記表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る薄膜トランジスターは、基板本体と、前記基板本体上に位置し、2000〜8000ohm/sq範囲内の表面抵抗を有する多結晶シリコン膜で形成された半導体層と、前記半導体層とそれぞれ互いに接触し、350〜2000ohm範囲内の抵抗を有する金属物質で形成されたソース電極およびドレイン電極とを含む。 (もっと読む)


【課題】 製造工程数を減らすとともに誘電体層の信頼性を高めることが可能な無機EL素子および無機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 無機EL素子10は、透明電極22が設けられた基板20、発光層24、および背面電極26を備える。基板20は、透明樹脂または透明ガラスからなっており、第1の面に透明電極22が設けられる。発光層24は、基板20の第2の面上に重ねて設けられる。発光層24は、その第1の面が基板20の第2の面に接するように配置される。背面電極26は、発光層24の第2の面上に重ねて設けられる。 (もっと読む)


【課題】 誘電体層等の内部の層における光の吸収損失を少なくし、発光効率を高めることが可能な無機EL素子および無機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 無機EL素子10は、第1の積層体20、第2の積層体30、第1の貼合層28、および第2の貼合層38を備える。第1の積層体20は、透明な第1の電極24が設けられた透明樹脂または透明ガラスからなる第1の基板22、および第1の基板22に重ねて設けられた発光層26を少なくとも含む。第2の積層体30は、透明な第2の電極34が設けられた透明樹脂または透明ガラスからなる第2の基板32、および第2の基板32に重ねて設けられた発光層36を少なくとも含む。第1の貼合層28および第2の貼合層38は、透明な熱可塑性樹脂のみから構成されており、第1の積層体20および第2の積層体30の間に介在するように配置される。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能とデバイス素子用フィルムとして高い耐水性、耐熱性とともに、UVカット性または光散乱性にも優れる多機能ガスバリア性フィルムを提供すること。及びそれを用いた有機素子デバイスを提供すること。
【解決手段】基材の片面にガスバリア層を有するガスバリア性フィルムであって、該ガスバリア層とは反対面に、該基材に隣接する層に光散乱剤またはUVカット剤を有していることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】有機EL照明から放射される光線の利用効率が高く、輝度およびフィルムの耐久性、埃、汚れ等の付着防止性および除去性に優れた光取り出しフィルムおよびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に光拡散層を有するフィルムであって、前記光拡散層が、第一の重合体からなる(X)粒子と、前記(X)粒子の表面の少なくとも一部に配置された、第二の重合体からなる(Z)粒子と、を有する有機系異形粒子(A)、バインダーポリマー(B)を含有することを特徴とする光取り出しフィルム。 (もっと読む)


【課題】ロール状に巻き取ってもガスバリア層の損傷や劣化を抑制できる防眩性ガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】透明樹脂で構成された基材フィルムの一方の面に、1又は複数のポリマーと、1又は複数の硬化した硬化性樹脂前駆体とを含み、かつ表面に凹凸形状を有する相分離構造で構成された防眩層を形成し、かつ他方の面にバリア層が形成し、防眩性ガスバリアフィルムを製造する。前記防眩層は、液相からのスピノーダル分解により相分離可能な複数のポリマーを含み、複数のポリマーのうち、少なくとも1つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基を有し、かつ硬化性樹脂前駆体が、複数のポリマーのうち、少なくとも一種のポリマーと相溶性を有していてもよい。 (もっと読む)


【課題】水分や酸素やアルカリ金属やアルカリ土類金属などの不純物の拡散による劣化を抑えることが可能な発光装置、具体的には、プラスチック基板上に形成されたOLEDを有するフレキシブルな発光装置の提供を課題とする。
【解決手段】プラスチック基板上に、酸素や水分がOLEDの有機発光層に入り込むのを防ぎ、且つアルカリ金属およびアルカリ土類金属などの不純物がTFTの活性層に入り込むのを防ぐことの可能なAlNXYで示される層からなるバリア膜を2層以上設けて、さらに該2層のバリア膜の間に樹脂を含む応力緩和膜を設ける。 (もっと読む)


【課題】外気と遮断された環境内で搬送ロールに両端に凸部を有する段付き搬送ロールを使用して帯状可撓性支持体の両端を保持して搬送する時に、座屈による搬送不良の発生が生じない帯状可撓性支持体の搬送方法及びこの搬送方法を使用した有機エレクトロニクス素子の製造方法の提供。
【解決手段】外気と遮断された環境内で、帯状可撓性支持体を搬送ロールとして胴部の両端に受け部を有する段付き搬送ロールを使用して、前記帯状可撓性支持体の両端部を前記受け部で保持し、連続的に搬送する帯状可撓性支持体の搬送方法において、前記可撓性支持体が樹脂フィルムであり、前記段付き搬送ロールの前記受け部の前記胴部の中央部からの高さと、前記受け部の幅との比が0.004から0.03であることを特徴とする可撓性支持体の搬送方法。 (もっと読む)


【課題】 銅を主成分とする電気的導通部位の形成において、基材として樹脂を利用できる温度で電気的導通部位の形成が可能であり、且つスクリーン印刷法によるパターン形成が可能な導電性インク組成物、それを用いた電気的導通部位の製造方法、及びその用途を提供する。
【解決手段】 還元力を有するカルボン酸と銅イオンとからなる銅塩の微粒子(A)、及び配位性化合物(B)を含有する導電性インク組成物を、基材中の電気的導通を得たいと所望する部位に塗布又は充填し、当該基材を加熱処理して、電気的導通部位を形成する。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性、耐熱性に優れ、尚且つ、ガラス基材などの剛直な基材に依らず、汎用(膜厚・光学特性・その他の市販グレードが最も多い)・安価・可撓性のあるPETフィルムを使用可能とするため工業的な価値が高いガスバリア性フィルムを提供すること、およびそれを用いた有機光電変換素子や有機EL素子の様な有機電子素子を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、応力緩和層と、少なくとも珪素と酸素を有する化合物を含有するガスバリア層とを、この順に有するガスバリア性フィルムであって、該応力緩和層の熱膨張係数が0.5〜20×10−6/℃であることを特徴とするガスバリア性フィルム、該ガスバリア性フィルムを用いた有機光電変換素子、有機エレクトロルミネッセンス素子。 (もっと読む)


【課題】低いプロセス温度で形成でき、高い水蒸気バリア性と高い光透過性とを備え、かつ、プラスチック基板等のフレキシブルな有機材料からなる基板の封止に使用できる、SiNx膜のバリア膜を提供する。
【解決手段】
表面波プラズマCVD装置を用いて、窒素Nと珪素Siの原子比率を表す比率N/(Si+N)が0.60から0.65の間である窒化珪素(SiN)からなるバリヤ膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】多面取りで製造される画像表示装置の切断面からの水分や酸素等のTFT層への侵入を防止することが可能な画像表示装置及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】
湾曲可能な透明基板からなる第1基板と、前記第1基板に接着され、その上層に薄膜トランジスタが形成される樹脂フィルム層とを備える画像表示装置であって、前記樹脂フィルムの表面を被う無機膜からなるバリア層を備え、前記バリア層を介して、前記樹脂フィルムの上層及び下層に薄膜層が形成される画像表示装置である。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率を向上でき、且つ、耐候性および防水性を高めることが可能な面状発光装置を提供する。
【解決手段】第1の透光性基板11の一表面側に発光層を含む有機EL層13が形成された有機EL素子10であって厚み方向の一面側から光を取り出す有機EL素子10と、有機EL素子10における上記一面側に配置され第1の透光性基板11よりも屈折率が低く且つ第1の透光性基板11よりも防水性および耐候性が高い第2の透光性基板21と、有機EL素子10の厚み方向の他面側を覆い第2の透光性基板21とともに有機EL素子10への水分の到達を阻止する保護部30と、有機EL素子10の上記一面と第2の透光性基板21との間に設けられ発光層から放射された光の上記一面での反射を抑制する光取出し構造部50とを備えている。 (もっと読む)


【課題】
数10μm以下の厚みを有する薄ガラス基板を利用した表示装置を提供すること。
【解決手段】
薄ガラス基板(塗布薄ガラス)を利用し、該薄ガラス基板上に薄膜トランジスタ回路(TFT回路層)が形成された表示装置において、該薄ガラス基板が、保持部材上に透明樹脂膜(樹脂薄膜)を形成し、該透明樹脂膜上に塗布ガラス材を塗布してから焼成し、その後、該保持部材が除去されて形成されたガラス基板であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、所定の方法で算出した相対溶存酸素飽和率が95%以下となるように、ポリイミド樹脂組成物を脱気する脱気工程と、金属基材上に、上記ポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】製造工程に対する投資を抑え、余分な部材を使用せず、製品のコストを上げることなく製造工程に発生する異物付着に起因するリークの発生を抑制することが可能な有機EL素子の製造方法及び有機EL素子の提供。
【解決手段】基材上に、第1の電極と、少なくとも1層の有機機能層と、第2の電極と、封止層とを順次積層した構成を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記製造方法は除電工程を含み、少なくとも前記除電工程の環境が、酸素濃度100ppmから1000ppmであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】気密性の向上を図れ、有機EL素子の長寿命化を図れる発光装置を提供する。
【解決手段】有機EL素子11および有機EL素子11の陽極12、陰極14それぞれに電気的に接続された配線層15,17が透明なプラスチックフィルム10の一表面側に形成された有機EL素子ユニット1を備えている。陽極12と陰極14とが厚み方向に離間した一対の電極を構成している。フリットガラスにより形成されてベース基板20とパッケージ用基板50との間に介在してベース基板20とパッケージ用基板30とを接合する枠状の接合部40と、第1の接合部40と有機EL素子ユニット1との間に配置されて有機EL素子ユニット1を内側に収めベース基板20とパッケージ用基板30との間の距離を規定距離に保つ額縁体60とを備えている。 (もっと読む)


【課題】画素アレイ部の各画素を駆動する周辺回路部の機能を制限することなく、表示パネルの更なる狭額縁化を図ることを可能にする。
【解決手段】表示パネル70を構成する基板として、折り曲げ可能な基板、例えば、ステンレス基板やプラスチック基板を用いる。そして、画素アレイ部30を基板本体部70Aに搭載し、画素アレイ部30の周辺の少なくとも1辺において折り曲げられて表示裏面側に位置する基板端部70B,70C,70Dに周辺回路部80A,80B,80Cを配置する。これにより、周辺回路部80A,80B,80Cの機能を制限することなく、表示パネル70の更なる狭額縁化を図る。 (もっと読む)


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