【課題】有機EL層にダメージを与えることなく、発生した光を効率良く外部へ放出可能な表示素子および表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】第１保持基板10上にまず透明電極保護材料11を成膜し、その上に従来の素子例と同様の順序で有機ＥＬ発光素子(12,13,14)を製造し、封止材15、第２保持基板16によって封止、保持を行った後に、第１保持基板10、透明電極保護材料11をエッチング等によって取り除く。本発明によれば、第１保持基板10を除去することにより、ＥＬ層13において発生した光の取り出し効率が向上し、表示素子の輝度やコントラストが向上する。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板５０と、基板上に配される薄膜トランジスタＴＦＴと、薄膜トランジスタ上にピクセルごとに形成される第１電極６１と、少なくとも二層を備え、第１電極のエッジを覆うように形成される第１画素定義膜７１と、第１画素定義膜上に第１画素定義膜の少なくとも一部を覆うように形成される第２画素定義膜７２と、第１電極上に形成され、発光層を備える有機層６２と、第１電極と対向するように位置する第２電極６３と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】結晶粒の位置とその大きさを制御した結晶質半導体膜を作製し、さらにその結晶質半導体膜をＴＦＴのチャネル形成領域に用いることにより高速動作を可能にする。
【解決手段】基板１上に、島状で且つ端部にテーパーを有する膜２を設け、無機絶縁膜３、非晶質半導体膜を形成する。そして、レーザーアニールにより非晶質半導体膜を結晶化させる。島状で且つ端部にテーパーを有する膜２または無機絶縁膜３の材料及び膜厚を適宜調節することによって半導体膜の冷却速度を遅くして結晶粒径の大きな第１領域４ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いて蒸着を行った際、構成材料がマスクに付着してその一部が剥離し、発光欠陥を引き起こすことを防止した、有機ＥＬ装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】画素電極２０と対向電極６０との間に、少なくとも有機発光層を含む有機機能層４０を有してなる有機Ｅ素子７０を備えた有機ＥＬ装置である。基板１０上に設けられた画素電極２０と、画素電極２０を囲って設けられた隔壁３４と、隔壁３４上に設けられた突起状のマスクスペーサー３７と、画素電極２０上及び隔壁３４上に設けられた有機機能層４０と、有機機能層４０上に設けられた対向電極６０と、隔壁３４の直上に位置する対向電極６０上に設けられた補助対向電極５０と、対向電極６０と補助対向電極５０との間に設けられた無機膜６２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】発光部の膜厚を均一にし、下部ＴＦＴ部の平坦化をなすことが可能な、新規かつ改良された有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光ディスプレイ装置は、第１電極６１の間に設けられ、第１電極６１の外郭部を覆う第１画素定義膜８１ａと、第１画素定義膜８１ａのエッジが露出するように、第１画素定義膜８１ａを覆う第２画素定義膜８１ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】被剥離層に損傷を与えない剥離方法を提供し、小さな面積を有する被剥離層の剥
離だけでなく、大きな面積を有する被剥離層を全面に渡って歩留まりよく剥離することを
可能とすることを目的する。また、様々な基材に被剥離層を貼りつけ、軽量された半導体
装置およびその作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板上に金属層１１を設け、さらに前記金属層１１に接して酸化物層１２を
設け、さらに被剥離層１３を形成し、前記金属層１１をレーザー光で照射することで酸化
を行い、金属酸化物層１６を形成させれば、物理的手段で金属酸化物層１２の層内または
金属酸化物層１６と酸化物層１２との界面において、きれいに分離することができる。 （もっと読む）

【課題】有機材料からなる第１の光路長調整層及び無機材料からなる第２の光路長調整層を有し、耐久性が向上した有機電界発光装置、及び製造プロセスを簡易化する有機電界発光装置の製造方法、並びに有機電界発光ディスプレイの提供。
【解決手段】赤色、緑色、及び青色に対応する複数の画素領域のうち、少なくとも１つの画素領域に、反射金属層と、半透明部材と、少なくとも発光層を有する有機電界発光素子と、光路長調整層とを有し、前記有機電界発光素子からの発光を共振させる共振構造を備えた有機電界発光装置であって、前記光路長調整層が、光透過性樹脂からなる第１の光路長調整層と、無機材料からなる第２の光路長調整層とからなる有機電界発光装置である。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することを可能とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜の上に配置されるとともに前記第１絶縁膜を露出する格子状の溝が形成され、上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第２絶縁膜と、前記溝によって囲まれた前記第２絶縁膜の上面に配置された画素電極と、前記第２絶縁膜の上面及び側面、及び、前記溝によって露出した前記第１絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第３絶縁膜と、前記画素電極の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することが可能な有機ＥＬ装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板１０１と、絶縁基板１０１の上方に配置された第４絶縁膜１１４と、第４絶縁膜１１４の上に配置された第１画素電極ＰＥ１と、第４絶縁膜１１４の上に配置されるとともに第１画素電極ＰＥ１から離間した第２画素電極ＰＥ２と、第１画素電極ＰＥ１の周縁に沿って配置された第１隔壁ＰＩ１と、第１隔壁ＰＩ１と離間しているとともに第２画素電極ＰＥ２の周縁に沿って配置された第２隔壁ＰＩ２と、第１画素電極ＰＥ１の上に配置された第１有機層ＯＲＧ１と、第２画素電極ＰＥ２の上に配置された第２有機層ＯＲＧ２と、第１有機層ＯＲＧ１及び第２有機層ＯＲＧ２の上に配置された対向電極ＣＥと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、発光素子で生じた発光の取り出し効率の向上を図るとともに、低消費電力であり、且つ、安定性の高い発光装置を実現することを課題とする。
【解決手段】安定性の高い発光装置とするため、少なくとも層間絶縁膜（平坦化膜を含む
）、陽極、および該陽極の端部を覆う隔壁に化学的および物理的に安定な酸化珪素を含ま
せる、或いは酸化珪素を主成分とする材料で構成する。本発明の構成により、発光パネル
の効率（輝度／電流）向上に加え、発光パネルの発熱が抑制でき、発光装置の信頼性にお
いて相乗効果が得られる。 （もっと読む）

【課題】水分や酸素の透過による劣化を抑えることが可能な半導体装置、例えば、プラスチック基板上に形成されたＯＬＥＤを有する発光装置、プラスチック
基板を用いた液晶表示装置の提供を課題とする。
【解決手段】本発明は、基板上に素子を含む被剥離層を形成した後、支持体に被剥離層を接着して基板から引き剥がして被剥離層を剥離した後、被剥離層に接する薄膜を成膜した後、転写体２２と貼り合わせる。こうすることによって、剥離の際に生じるクラックを修復し、被剥離層に接する薄膜として熱伝導性を有する膜２０、具体的にはアルミニウムの窒化物またはアルミニウムの窒化酸化物を用いることによって、素子の発熱を拡散させ、転写体２２、具体的にはプラスチック基板の変形や変質を保護する効果を有する。 （もっと読む）

【課題】絶縁層による光透過率の低下を防止することができる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置は、第１基板１１０上に位置する第１絶縁層１１６と、第１絶縁層１１６上に位置する下部電極１１８ｂと、下部電極１１８ｂの上面及び側面を囲むように形成された誘電体層１２０ａと、誘電体層１２０ａ上に位置する上部電極１２２ａと、を備える。第１絶縁層１１６は、誘電体層１２０ａに対してエッチング選択比を有してもよい。第１絶縁層１１６は、シリコン酸化物を含み、誘電体層１２０ａは、シリコン窒化物を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。
【解決手段】半導体材料に代表されるターゲット材と、前記ターゲット材と同じ材質の溶射物に被覆された部品を具備するスパッタリング装置を用いて、希ガスを含む雰囲気中で高周波電力を印加して、前記ターゲット材を用いて半導体層の成膜を行う発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】外部からの水分や酸素などの浸透を防止し、大型表示装置への適用が容易であって、量産性にすぐれる有機発光表示装置及びその製造方法を提供するためのものであり、ゲート電極、ゲート電極と絶縁された活性層、及びゲート電極と絶縁され、活性層にコンタクトされるソース電極及びドレイン電極を含む薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に連結された有機発光素子と、薄膜トランジスタと有機発光素子との間に介在された絶縁層とを含み、該絶縁層は、薄膜トランジスタを覆う第１絶縁層と、第１絶縁層上に金属酸化物で備わった第２絶縁層と、第２絶縁層上に金属酸化物または金属窒化物で備わった第３絶縁層とを含む有機発光表示装置及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】容易に製造ができ、開口率の高い３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイは、基板１０１と、基板１０１上にマトリクス状に配置された複数の副画素１２０と、前記副画素１２０が配置された領域を規定するバンク１０５と、を有する。本発明の３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイでは、それぞれの前記副画素１２０が、前記基板１０１上に配置された画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌと、前記バンク１０５によって規定された領域内全面に亘って配置され、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌを覆う有機機能層と、を有し、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌが、互いに対向する前記バンク１０５の間に配置される。 （もっと読む）

【課題】異なる発光色の発光が得られると共に、輝度ムラなどが少ない安定した発光特性が得られる有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ装置１００は、下地層上において、有機ＥＬ素子２０Ｂの発光層２６ｂが設けられた第１膜形成領域７ａと、有機ＥＬ素子２０Ｇの発光層２６ｇが設けられた第２膜形成領域７ｂと、有機ＥＬ素子２０Ｒの発光層２６ｒが設けられた第３膜形成領域７ｃとを区画する隔壁部１９を有し、隔壁部１９は、平面的に駆動回路部を含むように第１膜形成領域７ａを区画し、駆動回路部の少なくとも一部を含まないように第２膜形成領域７ｂと第３膜形成領域７ｃとを区画しており、発光層２６ｂに対して発光層２６ｇおよび発光層２６ｒが異なる成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用いた、表示装置に代表される半導体装置において、画面サイズの大型化や高精細化に対応し、表示品質が良く、安定して動作する信頼性のよい半導体装置を提供することを課題の一つとする。
【解決手段】引き回し距離の長い配線にＣｕを含む導電層を用いることで、配線抵抗の増大を抑える。また、Ｃｕを含む導電層を、ＴＦＴのチャネル領域が形成される酸化物半導体層と重ならないようにし、窒化珪素を含む絶縁層で包むことで、Ｃｕの拡散を防ぐことができ、信頼性の良い半導体装置を作製することができる。特に、半導体装置の一態様である表示装置を大型化または高精細化しても、表示品質が良く、安定して動作させることができる。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板上のゲート電極及び下部電極を含む上部に第１絶縁層を形成し、第１絶縁層上に酸化物半導体で活性層を形成し、第１絶縁層上に酸化物半導体で上部電極を形成する段階と、活性層及び上部電極を含む上部に第２絶縁層を形成し、第２絶縁層上に活性層と連結されるソース電極及びドレイン電極を形成し、ソース電極及びドレイン電極を含む上部に有機物で第３絶縁層を形成し、第３絶縁層をパターニングしてソース電極又はドレイン電極を露出させ、水素（Ｈ）を含む洗浄液で洗浄する段階と、第３絶縁層上にアノード電極を形成し、アノード電極を含む上部に画素定義膜を形成した後、発光領域のアノード電極を露出させ、露出したアノード電極上に有機発光層を形成し、有機発光層上にカソード電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡素な工程で、異物等に起因した短絡を低減することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子および表示装置を提供する。
【解決手段】基板１１に、第１電極１４、発光層を含む有機層１６、第２電極１７および抵抗層１８を順に形成する。抵抗層１８，第２電極１７および有機層１６には、異物等５３の逆テーパ状側面５３Ａの下に、途切れ部分５１が生じている。抵抗層１８の上に、窒化ケイ素などの絶縁材料よりなる埋込み層を形成し、途切れ部分５１以外の埋込み層を異方性エッチングにより除去して、途切れ部分５１に絶縁材料よりなる埋込み部５２を設ける。抵抗層１８および埋込み部５２の上に第３電極１９を設ける。途切れ部分５１で第１電極１４と第３電極１９とが接触して短絡を生じることが抑えられる。 （もっと読む）