説明

Fターム[3K107EE03]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 表示装置 (18,722) | 表示装置構造 (6,644) | アクティブマトリックス (5,008)

Fターム[3K107EE03]の下位に属するFターム

Fターム[3K107EE03]に分類される特許

261 - 280 / 3,965


【課題】駆動回路の駆動周波数を抑えつつ、擬似輪郭の発生を抑える。
【解決手段】複数のサブフレーム期間を用いて、階調表示される画素部を有し、
第1のテーブルは、画素部のうち第1の画素の階調に応じた複数のサブフレーム期間が記録され、第2のテーブルは、画素部のうち、第1の画素に隣接する第2の画素の階調に応じた複数のサブフレーム期間が記録され、同一階調を表示するために第1のテーブルに記録された複数のサブフレーム期間の数と、第2のテーブルに記憶された複数のサブフレーム期間の数は異なり、記第1のテーブルに記憶された、階調が1段階異なっている2つのサブフレーム期間において、共通して発光の状態にあるサブフレーム期間が存在し、記第2のテーブルに記憶された、階調が1段階異なっている2つのサブフレーム期間において、共通して発光の状態にあるサブフレーム期間が存在している表示装置である。 (もっと読む)


【課題】発光効率が高く駆動電圧の低い有機発光素子の提供。
【解決手段】下式A−1と異なる、例えば、下式B−1で示される縮合多環化合物で示されるスピロ化合物。また、B−1において、ジベンゾチオフェン骨格を、ジベンゾフラン骨格あるいはフルオレン骨格に代えた縮合多環化合物で示されるスピロ化合物でも良い。
(もっと読む)


【課題】安定した電気特性を持つ、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを有する、信頼性の高い半導体装置の作製方法の提供を目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体をチャネル形成領域に用いたトランジスタを有する半導体装置の作製において、酸化物半導体膜を形成した後、水分、ヒドロキシ基、または水素などを吸蔵或いは吸着することができる金属、金属化合物または合金を用いた導電膜を、絶縁膜を間に挟んで酸化物半導体膜と重なるように形成する。そして、該導電膜が露出した状態で加熱処理を行うことで、導電膜の表面や内部に吸着されている水分、酸素、水素などを取り除く活性化処理を行う。 (もっと読む)


【課題】画素塗り分け用マスクを用いずに補助配線層と第2電極との良好な電気的接続を確保することが可能な有機発光素子およびその製造方法ならびに表示装置を提供する。
【解決手段】有機発光素子は、例えば、基板上に、補助配線層、陽極としての第1電極、画素間絶縁膜15、発光層を含む有機層16、および陰極としての第2電極20をこの順に形成してなる。有機層16の補助配線層11bに対応する領域には、開口部16aが設けられると共に、補助配線層11b上には、複数の凸部14aを有する接続部14が形成されている。有機層16の開口部16aにおいて、接続部14により補助配線層11bと第2電極20とが電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】光反射率を変化させる表示装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】透過度を有するディスプレイの外光反射による明暗比低下防止と、透過度調節とのために、第1方向に光を放出する画素領域、及び画素領域に隣接し、外光を透過させる透過領域を含む画素に区画される第1基板と、第1基板に対向して配され、第1基板に区画された画素を密封する第2基板と、を含む表示素子;該表示素子に対して第1方向に配され、外光を所定方向に回転する円偏光に偏光し、該円偏光を通過させる光学フィルタ;該表示素子に対して第1方向の反対側に配され、外光の反射率を変換させる光反射率変換素子;を含む表示装置である。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の作製工程におけるプラズマダメージの影響を低減し、しきい値電圧のばらつきの抑制された均一な表示特性の半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタ上の平坦化層113と、平坦化層113の上面もしくは下面に設けられると共に平坦化層からの水分や脱ガス成分の拡散を抑制するバリア層112を備えた半導体装置であって、これら平坦化層113及びバリア層112の位置関係を工夫することにより平坦化層113に及ぶプラズマダメージを低減する上で有効なデバイス構成を用いる。また、画素電極158の構造として新規な構造との組み合わせにより、輝度の向上等の効果をも付与する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い発光装置を提供する。また、露出した電極を有しない、安全性の高い照明装置、又は表示装置を提供する。また、レイアウトの自由度が高い照明装置又は表示装置を提供する。また、当該発光装置又は表示装置が適用可能な発光システム又は表示システムを提供する。
【解決手段】有機EL素子が適用された発光装置に受電用の電極と整流回路を設け、送電用の電極と対向するように配置することにより、発光装置に交流電力が供給される。当該交流電力を整流回路により直流電力に整流し発光装置内の有機EL素子を駆動させればよい。 (もっと読む)


【課題】可撓性を有し、曲げ等の物理的変化に対して耐性を有する半導体装置および当該
半導体装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】可撓性を有する基板上に設けられた、半導体膜、半導体膜上にゲート絶縁膜
を介して設けられたゲート電極およびゲート電極を覆って設けられた層間絶縁膜とを有す
る複数のトランジスタと、複数のトランジスタの間に設けられた屈折部分とを有し、屈折
部分は、層間絶縁膜に設けられた開口部に層間絶縁膜より弾性率が低い物質が充填されて
設けられている。また、本発明では、開口部に充填する物質として他にも、層間絶縁膜よ
りガラス転移点が低い物質や塑性を有する物質を設けることができる。 (もっと読む)


【課題】複雑な構造を要することなく、小型且つ高品位な有機EL装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例のトップエミッション型の有機EL装置100は、基体としての基板10上に配置された、光反射性を有する反射層3Eと、反射層3E上に絶縁層としての第3層間絶縁膜4Hを介して画素毎に配置された、光透過性を有する第1電極としての陽極3Aと、陽極3A上に配置された、少なくとも発光層を含む有機機能層4Jと、有機機能層4J上に配置された、光反射性および光透過性を有する陰極2Gと、反射層3Eと陰極2Gとの間に形成された、有機機能層4Jからの光を共振させる光共振器4Nとを備えると共に、反射層3Eと絶縁層4Hと陽極3Aとにより構成された保持容量2Cを有する。このような構成は、ボトムエミッション型の有機EL装置にも適用可能である。 (もっと読む)


【課題】電源用配線のためのプロセス・材料・線幅・膜厚の変更などによる抵抗低減に限度がある場合でも、輝度ムラの少ない有機ELディスプレイ等の面発光表示装置を安価に提供する。
【解決手段】複数の画素回路のそれぞれに接続している複数の電源線と、複数の電源線のそれぞれの端部が所定の間隔で接続されており、電源端子(23)を有する電源バス(22)と、を備えており、電源バス(22)は、その長さ方向に沿って電源端子(23)から前記端部の方向へと延びる複数のスリット(61)を有しており、前記複数のスリット(61)の全部又は一部は、電源バス(22)内でその周囲が閉じられた形状である、面発光表示装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタに含まれる不純物による汚染の問題を解決する。
【解決手段】薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に接続されるソース電極及
びドレイン電極と、薄膜トランジスタ、ソース電極及びドレイン電極上の第1の絶縁膜と
、第1の絶縁膜上のカラーフィルタと、カラーフィルタ上の第2の絶縁膜と、第2の絶縁
膜上の画素電極とを有し、第1の絶縁膜は窒化シリコンを有し、カラーフィルタは第1の
開口部を有し、第2の絶縁膜は第2の開口部を有し、第2の開口部は第1の開口部の内側
に設けられ、画素電極は、第1の開口部及び第2の開口部を介してソース電極及びドレイ
ン電極の一方に電気的に接続され、カラーフィルタは、画素電極、ソース電極及びドレイ
ン電極に接触しない。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタの作製工程において、酸化物半導体層、ソース電極層、ドレイン電極層、ゲート絶縁膜、ゲート電極層、酸化アルミニウム膜を順に作成した後、酸化物半導体層および酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、水素原子を含む不純物が除去され、かつ、化学量論比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体層を形成する。また、酸化アルミニウム膜を形成することにより、該トランジスタを有する半導体装置や電子機器の作製工程での熱処理でも大気から水や水素が酸化物半導体層に侵入し、拡散することを防止することができ、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 (もっと読む)


【課題】表示装置における発光層からの光を、平坦化膜、層間絶縁膜、トランジスタのゲート絶縁膜等の絶縁膜を介して取り出す際、光が各絶縁膜を通過する毎に、その絶縁膜の表面の微妙な凹凸により、乱反射が起こる。これにより、不要光が発生し、画素の輪郭が不明瞭となったり、トランジスタの特性が劣化する等の問題が生じていた。
【解決手段】本発明に係る表示装置は、基板上に設けられたトランジスタと、前記トランジスタ上に設けられた遮光性を有する絶縁膜と、前記遮光性を有する絶縁膜上に設けられた発光素子とを有し、前記遮光性を有する絶縁膜には、前記発光素子からの光を通過させる開口部が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】検査精度の向上、および検査回路自体の検査およびリペアが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に配置された複数のゲート線102と、前記基板上に複数のゲート線102と交差する方向に配置された複数のソース線103と、m(mは2以上の整数)本のソース線103ごとにブロック化されたデータ線ブロックBごとに設けられた端子141と、データ線ブロックBごとに設けられ、m本のソース線103のうちから選択される少なくとも1本のソース線103と端子141とを導通させる第1選択回路121と、n(nは2以上の整数)個のデータ線ブロックBごとに設けられた端子142と、n個のデータ線ブロックBごとに設けられ、m×n本のソース線103のうちから選択される少なくとも1本のソース線103と端子142とを導通させる第2選択回路122と、を具備する。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタの帯電の影響により有機EL素子の特性が変化するのを低減することの可能な発光パネル、ならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】基板41上に、画素回路12に含まれる書込トランジスタTwsが設けられている。書込トランジスタTwsは、ゲート31A、ソース31B、ドレイン31Cおよびチャネル31Dを有する。ソース31Bは、コンタクト37Dを介してソース引出電極31Fに接続されており、ドレイン31Cは、コンタクト37Cを介してドレイン引出電極31Eに接続されている。ドレイン引出電極31Eおよびソース引出電極31Fの表面には、絶縁層を介して導電層45が設けられている。チャネル31Dは、導電層45を介してカラーフィルタ46と向き合っている。 (もっと読む)


【課題】アクティブマトリクス駆動方式の画像表示装置において、書き込み期間不足や配線レイアウトの問題を回避しながら、良好な動画画質と高精細化を実現するための技術を提供する。
【解決手段】各画素回路は、容量と、画像信号の値に対応する電荷を前記容量に充電するための書込スイッチと、前記容量に保持された電荷に基づくゲート電圧に応じて、電気光学素子を駆動する駆動トランジスタと、前記容量を放電させることで前記電気光学素子の発光を停止する停止スイッチと、を有している。少なくとも2行分の画素回路の停止スイッチが、共通の停止制御線に接続されており、前記共通の停止制御線を介して与えられる停止制御信号に従って各々の電気光学素子の発光を停止する。 (もっと読む)


【課題】表示像と透過像をくっきりと知覚できる透明ディスプレイパネルを提供すること。
【解決手段】本発明は、セル毎に発光部と前記発光部の発光を制御する制御部、2つの透明電極部とを設けたディスプレイパネルにおいて、前記発光部を含んだ透過部の形状は縦、横の長辺はともに200μm以上〜1200μm以下である透明ディスプレイパネルである。この構成により、高解像の表示像、また良好に知覚できる表示像と透過像を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】蒸発源のノズル付近に蒸着物が堆積し、蒸着精度が低下することを防止することが出来る真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】蒸発源3から蒸着物質を蒸発させ、メタルマスク4を介して有機EL表示装置用基板1の上に有機薄膜2を蒸着する。蒸発源3には、ノズルが線状に配置され、線状のノズルから蒸気15が噴射される。蒸発源を上下させることによって、基板1全面に蒸着を行うことが出来る。蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。これによってノズルの径が小さくなったり、目づまりが生じたりすることを防止する。 (もっと読む)


【課題】EL素子の寿命を延ばすことが可能なEL表示装置。
【解決手段】第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及び有機EL素子をそれぞれ含む複数の画素を有する表示装置であって、表示装置は有機EL素子の発光する時間を制御することで階調表示を行い、有機EL素子は画素電極と対向電極とをそれぞれ有しており、有機EL素子には、一定期間ごとに逆の極性のEL駆動電圧がかかる。 (もっと読む)


【課題】大型基板上に膜厚が均一で有機EL上部電極用のアルミ金属薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】セラミック製の坩堝を用いてアルミの這い上がりを防止し、同一方向に所定の角度で傾いた蒸発源3−1を少なくとも2つ以上、縦方向に並べた蒸発源列3−2を横方向に操作して蒸着する機構を用いることにより、大型化した縦置き基板1−1に対して、有機EL上部電極用金属薄膜を高速成膜し、長時間の連続成膜をすることを可能にする。 (もっと読む)


261 - 280 / 3,965