【課題】情報を表示するための電圧が印加される電極を有する情報表示媒体において、大型化した場合でも、表示する情報に制約を生じさせることなく取り扱いを容易にする。
【解決手段】複数の単位電極１２がマトリックス状に配列された基板１１と、基板１１上に積層され、単位電極１２に印加される電圧に応じて情報を表示する情報表示層２０とを有し、基板１１が、単位電極１２の外形に沿った凹凸を境界として複数に分割されている。 （もっと読む）

【課題】プラスチック支持体を用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】プラスチック支持体上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ
上に形成された接着層と、前記接着層上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成され
た薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に形成された発光素子とを有する。また
は、プラスチック支持体と、前記プラスチック支持体に対向する対向基板と、前記プラス
チック支持体と前記対向基板との間に保持された液晶とを有し、前記プラスチック支持体
上に形成されたカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上に形成された接着層と、前記接
着層上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された薄膜トランジスタとを有する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】ＴＦＴ基板１上のアノード電極２Ｒ〜２Ｂ上に対応色の有機ＥＬ層３Ｒ〜３Ｂを形成して有機ＥＬ表示装置を製造する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、ＴＦＴ基板１上に可視光を透過する樹脂製のマスク用部材４を被着するステップと、ＴＦＴ基板１上のＲ対応アノード電極２Ｒ上にレーザ光Ｌを照射し、当該アノード電極２Ｒ上のマスク用部材４に画素に対応した形状の開口５を設けてマスク６を形成するステップと、ＴＦＴ基板１上のＲ対応アノード電極２Ｒ上にマスク６の開口５を介してＲ有機ＥＬ層３Ｒを成膜形成するステップと、マスク６を剥離するステップと、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】駆動回路等を制御するための駆動制御信号の信号線を基板の所定部位に配設することで、基板面の有効利用と、駆動制御信号への外的影響を防止ないし抑制することが可能な表示装置、及びそれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】基板２０上に、バンク層２２１と該バンク層２２１により区画形成された凹状区画領域２２３とを所定のマトリクスパターンで配列するとともに、表示部たる画素部１１０に、表示に寄与する実画素部１１１と、表示に寄与しないダミー画素部１１２とを構成する。さらに基板２０上には、走査線を導通する走査信号の出力制御を行う走査線駆動回路８０と、該走査線駆動回路８０を駆動させるための駆動制御信号が導通する駆動制御信号導通部３２０とが設けられ、基板２０を平面視した場合に、駆動制御信号導通部３２０が、少なくともダミー画素部１１２のバンク層２２１と重畳配置する部分を含むように配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の一態様は、酸化物半導体を用いたデバイスにおいて高い移動度を達成し
、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】表面と略垂直な方向にｃ軸が配向する結晶領域を有する酸化物半導体層を形
成し、酸化物半導体層上に接する酸化物絶縁層を形成し、第３の加熱処理を行うことによ
り、酸化物半導体層に酸素を供給し、酸化物絶縁層上に、水素を含む窒化物絶縁層を形成
し、第４の加熱処理を行うことにより、少なくとも酸化物半導体層と酸化物絶縁層の界面
に水素を供給する。 （もっと読む）

【課題】安価で高精細なＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】 電流制御用ＴＦＴ１０４に接続された画素電極１０５を陰極とするＥＬ素
子を含む画素１０２が基板上に配列され、対向基板１１０には画素１０２の縁に対応した
位置に遮光膜１１２が、画素１０２に対応した位置にカラーフィルター１１３が形成され
る。この遮光膜１１２により画素の輪郭が明瞭なものとなり、高精細な画像表示が可能と
なる。また、本願発明のＥＬ表示装置は液晶表示装置の製造ラインの殆どを転用すること
ができるため、設備投資の負担が少なく、総合的な製造コストが低い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、曲面上に有機検出器を有する有機イメージング装置を対象としている。
【解決手段】本装置は、写真撮影、軽量カメラシステム、超高解像度イメージング、軽量“暗視”、ロボット視覚等のイメージング応用において使用可能である。可変レンズを備えた凹状のハウジングが提供される。可変レンズによって、視野及び焦点距離に幅が出る。本発明は、一定範囲の電磁放射を検出するように構成され得る。そして、コンピュータ、ディスプレイまたは他の処理用装置に対する入力が提供され、または、検出された放射が画像として表示される。 （もっと読む）

【課題】３次元表示及び２次元表示を併存させることが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】両眼視差を作り出す遮光パネルがマトリクス状に配設された複数の光学フィルタ領域を有する。当該遮光パネルにおいては、当該複数の光学フィルタ領域毎に表示パネルが放出する光を透過させるか否かを選択することが可能である。よって、当該表示装置においては、部分的に両眼視差が作り出される領域を設けることが可能である。したがって、当該表示装置においては、３次元表示及び２次元表示を併存させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】配線間の寄生容量を十分に低減できる構成を備えた半導体装置を提供することを
課題の一とする。
【解決手段】金属薄膜の一部または全部を酸化させた第１の層と酸化物半導体層の積層を
用いるボトムゲート構造の薄膜トランジスタにおいて、ゲート電極層と重なる酸化物半導
体層の一部上に接するチャネル保護層となる酸化物絶縁層を形成し、その絶縁層の形成時
に酸化物半導体層の積層の周縁部（側面を含む）を覆う酸化物絶縁層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 電極としてＡｇ薄膜を用いた構成において、発光効率の高い有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 基板１０の上に、第１電極１１と有機化合物層１２と第２電極１５とを有し、第２電極１５側から光を出射する有機発光素子であって、第２電極１５は、基板１０側から第１層１３と、第１層１３に接する第２層１４と、を順に有し、第２層１４はＡｇを含む層であり、第１層１３はＡｇとＣｓとを含む層である。 （もっと読む）

【課題】半導体膜と電極又は配線との接触抵抗を低減し、かつ半導体膜と電極又は配線と
の被覆率を改善し、特性を向上させた半導体装置を得ることを課題とする。
【解決手段】基板上にゲート電極と、前記ゲート電極上にゲート絶縁膜と、前記ゲート絶
縁膜上に第１のソース電極又はドレイン電極と、前記第１のソース電極又はドレイン電極
上に島状半導体膜と、前記島状半導体膜及び前記第１のソース電極又はドレイン電極上に
第２のソース電極又はドレイン電極とを有し、前記第２のソース電極又はドレイン電極は
前記第１のソース電極又はドレイン電極と接触しており、前記第１のソース電極又はドレ
イン電極及び第２のソース電極又はドレイン電極が前記島状半導体膜を挟みこんでいる半
導体装置及びその作製方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】カレントミラー回路によって、複数の回路を電流駆動させる場合に、各回路の動作に対するばらつきを低減することができる電源回路を提供する。
【解決手段】ＦＥＴ１、２、３と、スイッチング素子であるスイッチ６〜９とで電源回路を構成している。ＦＥＴ１、２、３でカレントミラー回路を構成している。スイッチ６、７、８、９によって選択回路５０が構成される。選択回路５０は、スイッチ６〜９の切り替えにより、ミラー電流Ｉｂ２をオペアンプ４又はオペアンプ５のいずれかに供給し、さらに、ミラー電流Ｉｂ１をオペアンプ４又はオペアンプ５のいずれかに供給する。すなわち、ミラー電流Ｉｂ１とミラー電流Ｉｂ２とを入れ替えて交互に、オペアンプ４、５にそれぞれ供給する。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装
置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び
有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電
層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあ
わせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】新規のヘテロ環化合物及びそれを含んだ有機発光素子の提供。
【解決手段】下記化学式で例示されるヘテロ環化合物及びそれを含んだ有機膜を具備した有機発光素子。
（もっと読む）

【課題】安定した電気特性を持つ、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを有する、信
頼性の高い半導体装置の作製方法の提供を目的の一とする。
【解決手段】絶縁表面上において、ゲート絶縁膜を間に挟んでゲート電極上に酸化物半導
体膜を形成し、酸化物半導体膜上に、チタン、モリブデンまたはタングステンを含む第１
の導電膜を形成し、第１の導電膜上に、電気陰性度が水素より低い金属を含む第２の導電
膜を形成し、第１の導電膜及び第２の導電膜をエッチングすることでソース電極及びドレ
イン電極を形成し、酸化物半導体膜、ソース電極及びドレイン電極上に、酸化物半導体膜
と接する絶縁膜を形成する半導体装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】光透過率制御の可能な表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一面に光を放出する第１領域、及び第１領域と隣接して外光を透過する第２領域を含む画素を備える透明表示素子；透明表示素子の一面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第１偏光板；第１偏光板と透明表示素子の一面との間に配されて、外光の位相を遅延させて透過する第１リターダー；透明表示素子の一面の反対側である他面に対応する方向に配されて、外光を線形偏光させて透過する第２偏光板；第２偏光板と透明表示素子の他面との間に配されて、印加される電源により外光の波長を第１位相ないし第２位相の範囲で遅延させて透過する変換リターダー；を備える光透過率制御の可能な表示装置。 （もっと読む）

【課題】 電子装置における、デジタル階調と時間階調とを組み合わせた駆動方法において、高いデューティー比を確保し、かつアドレス期間よりも短いサステイン期間を有する場合にも正常に画像（映像）の表示が可能であり、かつ信号波形のなまりの影響を受けにくい新規の駆動方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 アドレス期間よりも短いサステイン期間を有するサブフレーム期間１０２において、サステイン期間１０４の終了後、次のサブフレーム期間のアドレス期間が開始されるまでの期間、強制的にクリア期間１０５を設けて、サステイン期間１０４の長さを、アドレス期間１０３の長さとは無関係に設定することを可能とする。この非表示期間は、保持容量線の電位を変えることにより行うため、陰極配線の電位を変えることで非表示期間を設ける方法と異なり、信号波形のなまりによる影響を受けない。 （もっと読む）

【課題】単純化された有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板本体上にゲート絶縁膜を形成する段階と、ゲート絶縁膜上に透明導電層及びゲート金属層を順次に形成する段階と、透明導電層及びゲート金属層を共にパターニングして透明導電層部及びゲート金属層部を含む複層構造を有する画素電極中間体、及び、ゲート電極を形成する段階と、画素電極中間体及びゲート電極上に層間絶縁膜を形成する段階と、層間絶縁膜に画素電極中間体の一部を露出する開口部を形成する段階と、層間絶縁膜上にデータ金属層を形成する段階と、データ金属層をパターニングしてソース電極及びドレイン電極を形成し、層間絶縁膜の開口部を通して露出された画素電極中間体のゲート金属層部を除去して画素電極を形成する段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高効率及び長寿命発光を実現する有機発光素子の提供。
【解決手段】下記一般式［１］に示されることを特徴とする有機化合物。


一般式［１］においてＲ_１乃至Ｒ_３は水素原子、置換あるいは無置換のアリール基又は置換あるいは無置換の複素環基からそれぞれ独立に選ばれる。ただし、Ｒ_１乃至Ｒ_３のうち少なくとも一つは前記アリール基又は前記複素環基である。前記複素環基はジベンゾフラニル基、ジベンゾチエニル基のいずれかである。 （もっと読む）

【課題】側壁スペーサを形成することなく、且つ、工程数を増やすことなく、自己整合的にＬＤＤ領域を少なくとも一つ備えたＴＦＴを提供する。また、同一基板上に、工程数を増やすことなく、様々なＴＦＴ、例えば、チャネル形成領域の片側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴと、チャネル形成領域の両側にＬＤＤ領域を有するＴＦＴとを形成する作製方法を提供する。
【解決手段】回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して膜厚の厚い領域と、該領域より膜厚の薄い領域を片側側部に有する非対称のレジストパターンを形成し、段差を有するゲート電極を形成し、ゲート電極の膜厚の薄い領域を通過させて前記半導体層に不純物元素を注入して、自己整合的にＬＤＤ領域を形成す
る。 （もっと読む）