【課題】保護膜除去領域境界部に剥がれが生じずに保護膜を除去でき、保護膜の防湿性を低下させることなく、有機発光装置の表示性能を長期間に亘って高品質に維持できる有機発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】保護膜１０から外部接続端子９を露出させて外部回路１３と電気接続する構造を有する有機発光装置の製造方法であって、保護膜１０と有機化合物層７ｂとの吸水率の差を利用して、外部接続端子９上に設けられている保護膜１０を除去する保護膜１０の除去工程と、外部接続端子９と外部回路１３を電気接続する実装工程と、保護膜除去領域境界部を被覆するカバー層１５の形成工程と、をこの順で含む。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の製造方法において、孔や溝などの欠陥がない封止膜形成に要する時間を短くして、製造コスト上昇を抑えることが可能な封止膜形成方法を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリング法により基板上に封止性能を有す窒化膜を形成しつつ、同時に基板に負のＲＦ電圧（バイアス）を印加することで、基材に異物が付着した場合においても、孔や溝などの欠陥を生じることなく、短時間での封止膜形成が可能になる。 （もっと読む）

【課題】不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。
【解決手段】半導体材料に代表されるターゲット材と、前記ターゲット材と同じ材質の溶射物に被覆された部品を具備するスパッタリング装置を用いて、希ガスを含む雰囲気中で高周波電力を印加して、前記ターゲット材を用いて半導体層の成膜を行う発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成されたディスプレイ部と、ディスプレイ部と前記ディスプレイ部周辺の非発光領域とを覆い、中央部からエッジ部に行くほど密度及び厚さが増大する封止膜と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。これにより、側面方向の水分や酸素の浸透を防止して有機発光ディスプレイ装置の寿命を延長させうる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光装置の製造方法は、基板１０を用意する工程と、基板１０上にバリア層２０を形成する工程とを含み、バリア層２０を形成する工程は、基板１０上にバリア層側第１無機膜２１を形成する工程と、バリア層側第１無機膜２１上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第１有機膜２２を形成する工程と、バリア層側第１有機膜２２上にバリア層側第２無機膜２３を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 有機保護膜と無機保護膜との積層からなる封止構造の表示装置の製造方法において、有機保護膜をウェットプロセスで形成する場合、プロセス誤差によって、表示装置の額縁幅を十分に低減することができない。
【解決手段】 表示装置の表示領域の外周に沿って、前記表示領域の外周と交差する方向に、複数の溝が設けられた領域と、前記溝が設けられた領域の外周に溝の設けられていない領域とを設ける。 （もっと読む）

本発明は、一平面に延在する導電性構造を備えた電気光学デバイス用の電極（１０）に関する。この構造は、前記平面における長さがＬおよび幅寸法がＤである複数の細長い要素（１２）から成る格子を備える。この導電性構造は、半径が少なくとも２Ｄである内接円と半径がＬの最大３倍である外接円とを有する接触フィールド（１４）を１つ以上さらに備える。これらの接触フィールド（１４）が占める面積は、細長い要素（１２）から成る格子が占める面積の最大２０％である。本発明は、この電極を備えた電気光学デバイスにさらに関する。 （もっと読む）

【課題】 保護層形成時の高エネルギーによるダメージが低減された、寿命特性がよい有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】 第１の電極２と、発光層４を有する複数の層からなる有機化合物層と、５ｎｍ以上２０ｎｍ以下の金属薄膜からなる第２の電極７と、スパッタリング法あるいはプラズマＣＶＤ法で形成される保護層９を順に有し、発光層４の第１の電極７側の界面と第２の電極７の発光層４側の界面との距離が５５ｎｍ以上９０ｎｍ以下であって、第２の電極７と保護層９との間には、蒸着法で形成されるバッファ層８がある。 （もっと読む）

【課題】紫外線および水分から有機発光層を従来より一層保護することができる有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る有機発光表示装置は、第１基板１００と、前記第１基板１００上に位置する第１電極７１０と、前記第１電極７１０上に位置する有機発光層７２０と、前記有機発光層７２０上に位置する第２電極７３０と、前記有機発光層７２０を覆うように前記第２電極７３０上に位置して、外部から前記有機発光層７２０に照射される紫外線を遮断する紫外線遮断物質を含むキャッピング層５００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】水分または酸素の浸透に対する抵抗性を効果的に向上させた封止薄膜を含む有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態による有機発光表示装置は、基板本体、前記基板本体上に形成された有機発光素子、前記基板本体上に形成されて前記有機発光素子をカバーし、０度より大きく５０度以下の接触角を有する親水性表面を含む親水性高分子膜、そして前記親水性高分子膜の前記親水性表面上に形成された無機保護膜を含む。 （もっと読む）

【課題】光効率を向上させた有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】有機発光表示装置１０１は、基板本体１１１と、前記基板本体の上に形成された有機発光素子７０と、前記有機発光素子の上に形成されたキャッピングレイヤ５００とを含む。前記キャッピングレイヤは、互いに異なる屈折率を有する複層膜を含む。前記キャッピングレイヤは、一つ以上の高屈折膜５１０と、前記高屈折膜の屈折率よりも低い屈折率を有する一つ以上の低屈折膜５２０とが交互的に積層される。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、量産性も高い有機ＥＬ素子の封止膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に画素電極を形成する画素電極形成工程と、前記画素電極の上に有機層を形成する有機層形成工程と、前記有機層の上に対向電極を形成する対向電極形成工程と、前記対向電極の上に封止膜を形成する封止膜形成工程と、を含み、前記封止膜形成工程は、金属酸化物または窒化物または酸窒化物を成膜する工程と金属を成膜する工程と、成膜した基板側に電界を印加することで酸素または窒素を含むガスで真空容器内でプラズマ放電する工程と、プラズマ放電により成膜した金属をエッチバックと酸化または窒化または酸窒化する工程と、を含むことで解決できる。 （もっと読む）

本発明は、基板（１）を有し、第１の透明な電極（２）、エレクトロルミネッセンス積層構造（３）及び第２の電極（４）の順に前記基板上に積層されるエレクトロルミネッセンス装置を提供する。更に、エレクトロルミネッセンス装置は、前記第２の電極の下に及び／又は前記第２の電極の上部に位置し、前記第２の電極の硬度より高い硬度を有する、少なくとも１つの付加的な硬い層（５）を更に有する。そのようなエレクトロルミネッセンス装置の製造方法も同様に提供する。
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【課題】表示デバイスや照明デバイスの表面保護フィルム等に要求される各種の特性を満足するとともに、可撓性を有し、さらに屈曲に対する耐クラック性を有する複合フィルムとその用途を提供する。
【解決手段】ガラス繊維の基材に透明樹脂が保持されている２枚の透明基板と、厚み５０μｍ以下の１枚のガラス板とを備え、ガラス板の両面のそれぞれに透明基板が積層されており、直径が１５ｃｍの円筒の外周面に６０秒間巻いて設置した場合にクラックが発生しないものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分な素子の保護性能を備えた上で光取り出し効率の高い無機保護層を有し、耐水性や耐酸性、機械的強度に優れた有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】無機保護層８の膜厚ｄが、無機保護層８の屈折率をｎ、有機エレクトロルミネッセンス素子のから取り出される光のスペクトルの最大ピーク波長をλ、自然数をｍとした時、
［｛（２ｍ＋１）／４｝−（１／８）］λ＜ｎｄ＜［｛（２ｍ＋１）／４｝＋（１／８）］λ
を満たしている。 （もっと読む）

【課題】外部からの水分や酸素などの浸透を防止し、大型表示装置への適用が容易であり、量産性に優れた有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極、ゲート電極と絶縁された活性層、ゲート電極と絶縁され、活性層にコンタクトされるソース及びドレイン電極、及びソース電極及びドレイン電極と活性層との間に介在された絶縁層を備える薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタに電気的に連結された有機発光素子と、を備え、絶縁層は、活性層に接する第１絶縁層と、第１絶縁層上に金属酸化物で形成された第２絶縁層と、を備える有機発光表示装置及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することが可能な有機ＥＬ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板と１０１、絶縁基板１０１の上方に配置された有機ＥＬ素子ＯＬＥＤと、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤの上に配置され、窒素及びケイ素が主成分の非酸化物系セラミックスである無機材料によって形成された第１保護膜１１５Ａと、第１保護膜１１５Ａの上に積層され、有機材料を原料として形成された酸素及びケイ素が主成分である無機材料によって形成された第２保護膜１１５Ｂと、第２保護膜１１５Ｂの上に積層され、窒素及びケイ素が主成分の非酸化物系セラミックスである無機材料によって形成された第３保護膜１１５Ｃと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 特に水蒸気透過量を従来技術のものと比較して少なくでき、電子デバイスのバリア層として最適なガスバリア層構造体を提供する。
【解決手段】 電子デバイス構造にてガスバリア性能を発揮する本発明のガスバリア層構造体６は、不動態化金属の層６１と、この不動態化金属の酸化物層６２とを順次積層して構成される。不動態化金属は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ及びＴａの中から選択されたもの、または、これらの二種以上の合金である。 （もっと読む）

【課題】ガスバリアフィルムの巻き癖を、そのガスバリア能を劣化させることなく、短時間で直す方法の提供。
【解決手段】熱可塑性樹脂から構成される支持体と、少なくとも一層の有機層および少なくとも一層の無機層を含むガスバリア層とを有し、かつ、前記支持体側を内側にした巻き癖を有するガスバリアフィルムの巻き癖を直す方法であって、前記ガスバリアフィルムを支持体側の面から加熱して支持体の温度をＴｇ〜Ｔｇ＋４０℃に制御する工程と、前記支持体の温度がＴｇに到達してから１秒以内に、前記ガスバリアフィルムのガスバリア層の一部を膜面中央部非接触ローラーに接触させながらローラー周方向に搬送する工程を含むことを特徴とするガスバリアフィルムの巻き癖を直す方法（但し、Ｔｇは前記支持体のガラス転移温度を表す。）。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡便な工程で電極およびバリア層を形成することができ、さらには電極およびバリア層の密着性を高めることができる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、基板上に形成された第１電極層と、上記第１電極層上に形成され、少なくとも有機発光層を含むＥＬ層と、上記ＥＬ層上に形成された第２電極層と、上記第２電極層上に形成されたバリア層とを有する有機ＥＬ素子であって、上記第２電極層に含まれる金属元素と上記バリア層に含まれる金属元素とが同一であり、上記バリア層の抵抗率が上記第２電極層の抵抗率よりも大きいことを特徴とする有機ＥＬ素子を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）