【課題】発光装置において、封止層を構成する１層または複数層の薄膜を位置精度の低い形成方法で形成しても狭額縁化を実現することができるようにする。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に配列され、発光層を挟む陽極８１および陰極を有する複数のＯＬＥＤ５０と、基板１０上に形成され、複数のＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）５０の陽極と陰極とを互いに絶縁する絶縁膜１８と、基板１０上に形成され、絶縁膜１８の外側に位置する周辺壁２０と、基板１０上に形成され、複数のＯＬＥＤ５０および絶縁膜１８を覆う封止層とを備える。封止層は、１層または複数層の薄膜で構成され、絶縁膜１８と周辺壁２０との間には、封止層を構成する薄膜のうち最大の膜厚が最も厚い薄膜（有機緩衝膜２２またはガスバリア層２４）の端が位置する。 （もっと読む）

【課題】 表面からだけでなく、端面からの酸素及び水蒸気の浸入も防ぐことができ、且つ透明性を兼ね備えたガスバリア性積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 第１の透明ガスバリア性フィルムと、該第１の透明ガスバリア性フィルム上に積層された接着性樹脂層と、該接着性樹脂層上に積層された第２の透明ガスバリア性フィルムと、熱融着層とをこの順に有する積層体であって、該接着性樹脂層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなる層であり、そして該熱融着層がオレフィン系ホットメルト樹脂組成物からなる層であることを特徴とする積層体を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】低いプロセス温度で形成でき、高い水蒸気バリア性と高い光透過性とを備え、かつ、プラスチック基板等のフレキシブルな有機材料からなる基板の封止に使用できる、ＳｉＮｘ膜のバリア膜を提供する。
【解決手段】
表面波プラズマＣＶＤ装置を用いて、窒素Ｎと珪素Ｓｉの原子比率を表す比率Ｎ／（Ｓｉ＋Ｎ）が０．６０から０．６５の間である窒化珪素（ＳｉＮ_ｘ）からなるバリヤ膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に配された表示部と、表示部と対向し、金属膜及び複合部材を備える密封部と、基板と密封部との間に表示部と離隔されるように配され、基板と密封基板とを接合するシーリング部と、を備え、複合部材は、樹脂マトリックス及び複数の炭素ファイバを含有し、金属膜は、複合部材より基板にさらに近く配される表示装置である。 （もっと読む）

【課題】樹脂層で有機ＥＬデバイス上の素子分離膜や異物による凹凸を覆うことにより凹凸をなくし、樹脂層上の無機保護層の不連続部分の発生を防ぎ、高信頼性の有機ＥＬ表示装置を提供する。更に樹脂層上への異物の付着を抑制することにより前記樹脂層上の無機保護層の不連続部分の発生を防ぎ、高信頼性の有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】素子基板と、第一電極層と、有機化合物層と、第二電極層と、素子分離膜と、を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、第二電極層上及び素子分離膜上に樹脂を配する工程と、板状部材を樹脂に当接させた状態で、圧着して樹脂を硬化することにより、板状部材の表面形状を樹脂層に転写する工程と、板状部材を樹脂層から剥離する工程と、樹脂層上に無機保護層を形成する工程と、をこの順で実施することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来技術と比較して、高い水蒸気バリア性を有するシリコン含有封止膜を提供する。
【解決手段】ポリシラザン膜の主面にプラズマ照射を行うことにより形成された変性領域を備え、変性領域は、ケイ素原子と窒素原子とを含み、またはケイ素原子と窒素原子と酸素原子とを含み、変性領域において、原子組成が徐々に変化している、シリコン含有封止膜。 （もっと読む）

【課題】樹脂保護膜の形成領域内における基板の表面形状を概ね均一として、樹脂保護膜をむらなく均一に印刷でき、画素領域境界部の外観形状が良好で、画質の低下及び封止性能の低下も抑制することができる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】画素領域内における樹脂保護膜１０の形成領域Ａに有機ＥＬ表示素子を分離する素子分離膜６を形成すると共に、画素領域外における樹脂保護膜１０の形成領域Ｂに外リブ１２を形成し、素子分離膜６及び外リブ１２の上には、その一部が上方へ突出した凸部８を形成し、基板面から凸部８の頂部までの高さを全て同じ高さに設定している。 （もっと読む）

【課題】第一保護層が防湿性を有すると共に、有機材料からなる第二保護層の形成時における濡れ性、密着性を高め、かつ硬化収縮を起こさず、有機発光素子への水分や酸素の浸入を防止できる有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光素子が複数配列された画素エリア１９を覆う保護積層体を備える有機発光装置２０であって、保護積層体は、少なくとも、無機材料からなる第一保護層１２と、有機材料からなる第二保護層１３と、無機材料からなる第三保護層１４と、からなる積層薄膜であり、第一保護層１２は、水酸基を含まない無機膜１２１と、水酸基を含まない無機膜１２１表面に形成された、水酸基を含む無機膜１２２と、を有し、第二保護層１３は、シランカップリング剤を含む有機材料で形成されている。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境下における経時的なガスバリア性能の低下が抑制されたガスバリア積層体、並びに高温高湿の環境下においても経時的な性能の低下が少ない面光源装置を提供する。
【解決手段】基材フィルムと、前記基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた無機バリア層とを備えるガスバリア積層体であって、前記基材フィルムが、脂環式オレフィン樹脂からなる二軸延伸フィルムであり、且つ、前記基材フィルムの、波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションＲｔｈ、及びフィルム厚さｄがＲｅ／ｄ＜０．００３、Ｒｔｈ／ｄ＞０．００１の関係を満たすフィルムである、ガスバリア積層体；並びに前記ガスバリア積層体を備える面光源装置。 （もっと読む）

【課題】無機層の間に有機層が形成されているバリア性積層体であって、有機層と上下の無機層との密着性が良好であり、且つ曲げ耐性も良好で水蒸気透過率も低いバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）シランカップリング剤を含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、前記第２の有機層の上にプラズマ製膜法によって第２の無機層を形成する工程とを含むことを特徴とするバリア性積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】無機層の上に有機層を設けた態様のバリア性積層体であって、有機層と無機層の密着性と曲げ耐性が良好であり、最外層の有機層の表面の平滑性が良好であるバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、（Ｂ）重合性化合物および（Ｃ）シランカップリング剤を含む第１の有機層用組成物を第１の無機層の上に適用し、硬化させる第１の有機層形成工程と、前記第１の有機層の上、または前記第１の有機層の上に設けた１層もしくは２層以上の有機層の上に、（Ｄ）重合性化合物および（Ｅ）芳香族基を有する（メタ）アクリレートを含む第２の有機層用組成物を適用し、硬化させる第２の有機層形成工程と、を含むことを特徴とする有機無機積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】バリア性、密着性、耐屈曲性および耐傷性に優れたガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材フィルムと、有機層と、該有機層の表面に設けられた無機層とを有し、無機層の下層の有機層の厚さが、０．３μｍ〜１０μｍの範囲であり、無機層の下層の有機層の硬度が、ナノインデンテーション法で０．０３〜０．５ＧＰａであり、かつ、無機層の下層の有機層の厚さをａとし、該有機層の表面の無機層の厚さをｂとしたとき、ａ／ｂ＞１０であることを特徴とする、ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】溶剤ダメージによる支持体の品質劣化を防止でき、無機膜成膜中の支持体からの脱ガスの発生を抑制することができ、これにより、高品質の無機膜を成膜することができる機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】裏面側に耐溶剤性を有するラミネートフィルムを貼り付けた自己支持性を有する長尺の支持体１２を送り出し、支持体１２を搬送しながら、その表面側に溶剤を含む塗布液を塗布し、前記塗布液を乾燥、硬化させて有機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４２にして巻き取る。フィルムロール４２を真空成膜装置２４内に装填し、フィルムロール４２から連続的に耐溶剤性を有するラミネートフィルムを貼り付けた支持体１２を送り出す。支持体１２を搬送しながら、支持体１２の有機膜上に無機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４８に巻き取る （もっと読む）

【課題】防湿性を維持しながら可撓性を向上させ、さらに、生産性も向上させる。
【解決手段】有機発光装置１Ａは、可撓性を有する基材２と、基材２上に設けられた有機発光素子４と、有機発光素子４を覆う保護膜５とを備え、保護膜５は、有機発光素子４上に設けられ有機発光素子４を覆う第１の無機層５ａと、第１の無機層５ａ上に設けられ有機ポリマーを含み可撓性を有する可撓層５ｂと、可撓層５ｂ上に設けられ可撓層５ｂを覆う第２の無機層５ｃとを具備している。 （もっと読む）

【課題】水分による劣化を抑制することが可能とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置された有機半導体素子と、前記有機半導体素子を被覆するとともにシリコン（Ｓｉ）及び窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第１保護層と、前記第１保護層の上方に配置されるとともに前記第１保護層よりも透湿度が高い材料によって形成された第２保護層と、前記第２保護層の上に積層されるとともにシリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）、及び、窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第３保護層と、前記第３保護層の上に積層されるとともに前記第３保護層よりも透湿度が高い材料によって形成された第４保護層と、前記第４保護層よりも上方であって且つ最外層をなしシリコン（Ｓｉ）及び窒素（Ｎ）を主成分とする材料によって形成された第５保護層と、を有する保護膜と、を備えたことを特徴とする有機半導体装置。 （もっと読む）

【課題】極めて高いバリア性能、ＵＶカット性、密着性に優れるバリア性フィルムを提供し、それを用いた有機光電変換素子や有機ＥＬ素子の様な有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルムとして、樹脂基板の両面上にガスバリア層が、それぞれ、紫外線カット層と、酸化珪素層および酸化窒化珪素層から選ばれる少なくとも１種の層とをこの順に設けてあることを特徴とするガスバリア性フィルム及び有機電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】電極の機械的強度および耐候性を向上させることが可能な発光装置および照明装置を提供する。
【解決手段】光透過部１１ａと電気接続部１１ｂを有し、少なくとも電気接続部の表面を粗面Ｒ１に形成した透光性を有する基板１１と；少なくとも基板の光透過部および電気接続部の粗面に形成される一方の電極１２と；基板の光透過部に対向し前記一方の電極に形成される発光層１３と；発光層および電気接続部の粗面に形成される他方の電極１４と；少なくとも発光層を覆うように形成される封止層１５と；を具備する発光装置１０を構成する。 （もっと読む）

【課題】原子層堆積方法および原子層堆積装置は、従来のような防湿性を維持しつつ、内部応力の小さな薄膜を形成する。
【解決手段】基板に薄膜を形成するとき、基板が配置された、減圧した成膜空間内に、原料ガスを一定期間供給する。この後、原料ガスの前記成膜空間への供給後、原料ガスの成分を吸着した基板に向けて、前記成膜空間内に反応ガスを供給し、プラズマ生成素子を用いて反応ガスを活性化させることにより、基板に吸着された原料ガスの成分と反応ガスの成分を反応させて、基板に所定の薄膜を形成させる。上記原料ガスの供給と反応ガスの供給を繰り返し行うことにより、所定の厚さの薄膜を基板に形成する。このとき、上記原料ガスの供給と反応ガスの供給の繰り返し回数が増えるに従って、段階的にあるいは連続的にプラズマ生成素子への供給電力を増加させる。 （もっと読む）

【課題】十分な発光特性や発光寿命が得られ、非発光領域の発生を抑制できる有機ＥＬ装置の製造方法、有機ＥＬ装置、及び電子機器を提供する。
【解決手段】基板２０上に、複数の第１電極と、第１電極の形成位置に対応して配置される発光機能層と、発光機能層を覆う第２電極と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、第２電極を覆うと共に緩衝層２１０を形成する緩衝層形成工程と、当該緩衝層２１０を覆うガスバリア層３０を形成する工程とを含み、緩衝層形成工程は、モノマー／オリゴマー材料と硬化剤とを有する塗布材料を、真空雰囲気下において溶媒を用いずに塗布する塗布工程と、塗布材料を硬化させて緩衝層を形成する熱硬化工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）