【課題】有機ＥＬ素子自体、とくにその一部を構成する電子注入層が劣化しにくく、また、高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子と、第１のフィルムとを有する有機ＥＬ装置であって、前記電子注入層はイオン性ポリマーを含み、前記第１のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、前記ガスバリア層は、珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性に優れる液晶ポリエステルから構成される基材層と、水蒸気バリア層とを有し、水蒸気バリア性に優れる積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層を、下記式（１）で表される繰返し単位と、下記式（２）で表される繰返し単位と、下記式（３）で表される繰返し単位とを有し、２，６−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、４０モル％以上である液晶ポリエステルから構成し、その少なくとも一方の面上に、水蒸気バリア層を配置する。
−Ｏ−Ａｒ¹−ＣＯ− （１）
−ＣＯ−Ａｒ²−ＣＯ− （２）
−Ｏ−Ａｒ³−Ｏ− （３）
（Ａｒ¹は、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。Ａｒ²及びＡｒ³は、それぞれ独立に、２，６−ナフチレン基、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基又は４，４’−ビフェニリレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】性能の低下が少なく信頼性が高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】積層フィルム５の上に設けられた有機ＥＬ素子と、積層フィルム５に対向する積層フィルム６と、有機ＥＬ素子を囲み積層フィルム５，６を貼り合わせる封止材２０と、を有し、積層フィルム５，６の少なくとも一方が有する薄膜層の少なくとも１層は、炭素分布曲線が実質的に連続である条件、炭素分布曲線が少なくとも１つの極値を有する条件、及び炭素分布曲線における炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上である条件を全て満たし、封止材２０は、エポキシ樹脂を含む組成物である。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能な積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の積層フィルムは、基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該薄膜層の膜厚方向における該薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率との関係を示す炭素分布曲線において、（ｉ) 前記炭素分布曲線が極大値と極小値を有すること、（ｉｉ) 前記炭素分布曲線の極大値が５ａｔ％以下であること、（ｉｉｉ) 前記炭素分布曲線において少なくとも１つの１ａｔ％以上の極大値があることを全て満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子において高フレキシビリティと高ガスバリア性を両立する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子は、一対の電極間に配置された発光層と、片方の電極に対して発光層の反対側に配置され、１層以上の薄膜層を有するバリア膜と、を備える。薄膜層の少なくとも１層の炭素分布曲線は、実質的に連続であること、少なくとも１つの極値を有すること、及び炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が５ａｔ％以上であること、を全て満たし、かつ、バリア膜の片方の電極側の表面の粗度は、最大表面高さをＲｍａｘとしたときに、Ｒｍａｘ＜２００ｎｍであることを満たす。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子と、第１のフィルムと、有機ＥＬ素子から放射される光が出射する位置に配置される光取出し構造体とを有する有機ＥＬ装置であって、前記第１のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、前記ガスバリア層は、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置に関する。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性を備え、フィルムを屈曲させたときにもガスバリア性が低下しにくく、簡易な工程で短時間で形成することが可能なフィルムを備える有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】第１のフィルムと、有機ＥＬ素子と、前記第１のフィルムとの間に前記有機ＥＬ素子を介在させて、第１のフィルム上に配置され、前記第１のフィルムとともに前記有機ＥＬ素子を封止する第２のフィルムとを有する有機ＥＬ装置であって、前記第２のフィルムは、珪素、酸素及び炭素を含有するガスバリア層を有しており、珪素原子の量の比率（珪素の原子比）、酸素原子の量の比率（酸素の原子比）及び炭素原子の量の比率（炭素の原子比）と、前記膜厚方向における前記ガスバリア層の一方の表面からの距離との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が条件（ｉ）〜（ｉｉｉ）を満たす、有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能であり、かつ反りが軽減された積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材の両方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が特定の条件を満たすことを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】バリア性能と屈曲耐性を両立できる均一なフィルムを提供することにあり、また該フィルムを有機電子デバイス用基材等のバリア性を必要とする素子等に応用することにある。
【解決手段】樹脂基材上に少なくとも１層の有機層を有するバリア性フィルムにおいて、該有機層上に厚み５〜１５０ｎｍの第１のＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層が積層され、該ＳｉＯ_ｘ（ｘ＞２）層上にケイ素原子及び酸素原子を含有する無機層を少なくとも２層以上有することを特徴とするバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層をＳｉＮ等の封止膜で覆うことによって、外部からの水分の影響を防止する固体封止タイプの有機ＥＬ表示装置において、封止膜におけるピンホールの存在の有無を工場内の検査で検出することが出来る構成を実現する。
【解決手段】素子基板１００の上に有機ＥＬ素子２０が形成され、その上にピンホール検出層３０が形成され、その上に封止膜４０が形成されている。封止膜４０にピンホールが存在するとこの部分から水分が浸入し、有機ＥＬ層を劣化させる。製品が工場から出荷される前に、ピンホールの有無を検出するために、水分と反応して色が変化するピンホール検出層３０が封止膜４０と有機ＥＬ素子２０の間に配置されている。ピンホール検出層３０は、有機材料にアルカリ金属またはアルカリ土類金属がドープされた構成であり、蒸着によって形成される。 （もっと読む）

【課題】 温度が６０℃で湿度が９０％（ＲＨ）という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第１の耐候性コート層、蒸着層、及び、第２の耐候性コート層を、この順に設けた第１のガスバリア性フィルム積層体と、該第１のガスバリア性フィルム積層体と同一の構成を有する第２のガスバリア性フィルム積層体とを、それぞれの第２の耐候性コート層がフッ素樹脂系接着剤を介して対向するように積層したことを特徴とする耐湿熱性ガスバリアフィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】基板・封止材間の剥離を抑制する。
【解決手段】有機ＥＬ表示素子１０は、発光素子６１を含む積層体２２を有し表面が凹凸になっているＴＦＴ基板２０と、積層体２２を封止するための封止材４０と、ＴＦＴ基板２０の表面に対向し、封止材４０を介してＴＦＴ基板２０と貼り合わせられる封止基板３０と、を備える。封止基板３０は、ＴＦＴ基板２０の表面に対向する側の面に凹凸部３２を有し、ＴＦＴ基板２０の凹凸の少なくとも一部と封止基板３０の凹凸部３２の少なくとも一部とは、封止材４０に接着している。封止基板３０に形成された凹凸部３２によって、封止材４０との接着面積は大きくなり、接着力も大きくなる。 （もっと読む）

【課題】基材の一の面に微粒子層を設けると共に、基材の他の面に設けたバリア層の干渉によるスペクトル変調、色度の面位置依存性、及び色度の角度依存性を抑制でき、かつ光取り出し効率を高めることができる有機電界発光用基板及び該有機電界発光用基板を有する有機電界発光装置の提供。
【解決手段】厚みむらが１０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下であるバリア層と、微粒子を含有する微粒子層とを少なくとも有する有機電界発光用基板である。該バリア層が、有機材料からなる有機層と、無機材料からなる無機層とを交互に積層した多層構造を有する態様、前記微粒子の平均粒径が０．５μｍ〜１０μｍである態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】樹脂層と無機膜とを積層して形成される発光装置において、樹脂層のエッジ部における無機膜の被覆性を向上させることのできる発光装置の製造方法及び発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置の製造方法は、有機ＥＬ素子を備える基板１００上に有機ＥＬ素子を覆うように樹脂層１３５を形成する工程と、樹脂層１３５の端部にテーパ部２００を形成する工程と、樹脂層１３５上に無機膜４８を形成する工程と、を備える。樹脂層１３５にテーパ部２００を形成し、これに沿って無機膜４８を形成することによって、無機膜４８に断裂が生じることを防ぎ、無機膜４８を均一かつ所望の厚みで形成することができる。このため、封止性が高く耐久性に優れる発光装置８００が得られる。 （もっと読む）

【課題】発光素子を被覆する保護膜を比較的容易に形成すること。
【解決手段】基板１０に設けたＥＬ素子８（発光領域Ｒ）をパッシベーション膜１４で覆い、そのパッシベーション膜１４とともにＥＬ素子８（発光領域Ｒ）を、封止基板２２と基板１０の間に封止材１５によって全固体封止してなるＥＬパネル１において、より少ないスパッタ電力で成膜可能なＡｌ_４ＢａＯ_７−δ薄膜をパッシベーション膜１４に適用することによって、パッシベーション膜１４を形成し、そのパッシベーション膜１４でＥＬ素子８を良好に被覆して保護するようにした。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、長時間の駆動や屋外での駆動環境によっても粘着剤層が劣化せず、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスを提供すること。
【解決手段】基材の少なくとも片面にガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、前記粘着剤層が、第１成分として重量平均分子量３０万〜５０万のポリイソブチレン系樹脂（Ａ）、第２成分として重量平均分子量１０００〜２５万のポリブテン樹脂（Ｂ）、第３成分としてヒンダードアミン系光安定剤（Ｃ）及び／又はヒンダードフェノール系酸化防止剤（Ｄ）を含み、ポリイソブチレン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、ポリブテン樹脂（Ｂ）を１０〜１００質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。 （もっと読む）

【課題】視野角特性を維持しつつ、光の利用効率を高めた有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】１画素１８毎に、有機ＥＬ素子の発光面側に、レンズ部１６ａと平坦部１６ｂとを有するレンズアレイ１６を配置し、発光層からの発光光１９の一部をレンズ部１６ａにて集光する。 （もっと読む）

【課題】 凸形状の枠体を設け、印刷版を用いて枠体よりも内側に形成された樹脂保護層と、無機保護膜とによって封止される有機ＥＬ表示装置の製造方法において、印刷の際に印刷版と枠体との接触により印刷版から枠体に異物が転写され、異物が封止不良の原因となる。
【解決手段】 枠体の周囲に、枠体とは離間して、枠体よりも高い接触防止部を形成し、印刷版と接触防止部とを接触させることにより印刷版と枠体との接触を防止し、印刷版から枠体への異物の転写を抑制する。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を示す高密度の非晶質窒化珪素膜を簡便な方法で提供すること。
【解決手段】高周波放電を利用したプラズマＣＶＤ法において、シランガスと、水素ガスと、アンモニアガスまたは窒素ガスの少なくとも一方とを含む混合ガスを用いて、電極間距離を５０〜１００ｍｍとし、シランガスに対する水素ガスの流量比（Ｈ₂／ＳｉＨ₄）を０．５〜３．０として非晶質窒化珪素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイの表示リペア部を容易に修正することが可能であり、ＥＬ発光特性が低下することなく、また、薄型固体封止をしても長期間に亘って封止性能を維持することが可能な有機ＥＬ素子と、この有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２上に、第一電極層４、有機発光媒体層６、第二電極層８、第一パッシベーション層１０、第二パッシベーション層１４、封止層１６が順に積層された有機ＥＬ素子１であって、有機発光媒体層６の一部を除去して形成されたリペア部Ｒと、第一パッシベーション層１０と第二パッシベーション層１４との間に形成され、且つ各層の積層方向から見て少なくともリペア部Ｒと重なる有機層１２を備える。 （もっと読む）