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Fターム[3K107EE48]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 表示装置 (18,722) | 封止構造 (5,870) | 保護層、保護膜 (2,506) | 無機物 (672)

Fターム[3K107EE48]に分類される特許

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【課題】積層数が少なくても高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムを提供する。また、高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムを同一真空槽内において同一形成プロセスで効率よく製造することができる透明ガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、無機層と炭素含有層とを積層した積層透明ガスバリア層であり、
前記無機層が、アーク放電プラズマを用いた蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、酸素および窒素の少なくとも一方とを含む層であり、
前記炭素含有層が、アーク放電プラズマを用いた蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と炭素とを含む層であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機ELデバイスにおいて、電極取出し部を簡易に形成することができ、効率的に製造することができるものとする。
【解決手段】有機ELデバイス1は、陰極層21及び平滑化層22を有する第1の基板2と、陰極層21上に形成された有機層3と、透光性を有する第2の基板6と、第2の基板6上に形成された陽極層4とを備える。第2の基板6の周縁部の有機層3の形成されていない領域に対応する部分に陽極層4が延設される。延設された陽極層4と対向する第1の基板2が、第2の基板6とは反対側に折り返されて、陰極取出し部40bを構成すると共に、延設された陽極層4が第1の基板2から露出して、陽極取出し部40aを構成する。この構成によれば、延設された陽極層4に対向する第1の基板2を折り返すことにより、陽極取出し部40a及び陰極取出し部40bを簡易に形成することができ、デバイスを効率的に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア層と保護層との密着性に優れるとともに、生産性の高いガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基材12と、その少なくとも一方の面に設けたガスバリア層14と、ガスバリア層上に設けた保護層16とを備えたガスバリアフィルム10において、前記保護層を、(A)芳香環含有ウレタン(メタ)アクリレート、(B)カルボキシル基含有(メタ)アクリレート、及び(C)多官能(メタ)アクリレートを含有するエネルギー線硬化型樹脂組成物を用いて形成する。 (もっと読む)


【課題】良好なガスバリア性及び耐久性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法、及びガスバリア性フィルムを用いた装置を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム10(10A)は、基材1と、基材1上に設けられた有機層2と、有機層2上に設けられた無機層3とを有し、シリコンを有する基が共有結合をしているアクリル系樹脂が有機層2に含有され、無機層3と接する有機層2の面に上記シリコンが0.1原子%以上存在する。 (もっと読む)


【課題】高精細な発光装置を提供する。
【解決手段】第1の電極11の一方の端部と第2の電極12の一方の端部を覆う絶縁物領域と、第1の電極11および絶縁物領域の上に形成された第1の発光層17と、第2の電極12および絶縁物領域の上に形成された第2の発光層18と、が設けられた第1の基板と、第1の基板と対向し、カラーフィルタが設けられた第2の基板と、を有し、絶縁物領域および第1の電極の上で第1の発光層と第2の発光層が重なっており、カラーフィルタは、第1の発光層17と対向して設けられた第1の着色層31bと、第2の着色層31cと、第1の着色層31bと第2の着色層31cの間に、絶縁物領域および第1の電極11の上で第1の発光層17と第2の発光層18が重なっている領域と対向して設けられた遮光部31aとを有する。 (もっと読む)


【課題】耐候性に優れる有機EL用基板を提供する。
【解決手段】液晶ポリエステル層の裏側に、白色顔料含有層が設けられてなる有機EL用基板とする。前記液晶ポリエステル層は、下記式(1)で表される繰返し単位と、下記式(2)で表される繰返し単位と、下記式(3)で表される繰返し単位とを有し、2,6−ナフチレン基を含む繰返し単位の含有量が、全繰返し単位の合計量に対して、40モル%以上である液晶ポリエステルから構成される層であることが好ましい。
−O−Ar1−CO− (1)
−CO−Ar2−CO− (2)
−O−Ar3−O− (3)
(Ar1は、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。Ar2及びAr3は、それぞれ独立に、2,6−ナフチレン基、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基又は4,4’−ビフェニリレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】処理ガスを大量に活性化させ、かつ失活させずに供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Wを支持する基板支持体3と、触媒板5と、触媒板5に接触させて活性化させる第1処理ガスを供給する第1処理ガス供給部70aと、触媒板5を誘導加熱する誘導加熱コイル6とを備え、基板支持体3は、触媒板5の一面側に配され、誘導加熱コイル6は、触媒板5の他面側に配され、触媒板5は、処理室1を、誘導加熱コイル6側の第1空間及び基板支持体3側の第2空間に隔てる。 (もっと読む)


【課題】有機EL装置の発光部位への水分等の侵入を防止することができる有機EL装置を開発する
【解決手段】
基板2上に第1電極層3と、有機発光層5と、第2電極層6が積層されて積層体を形成し、前記積層体が封止部材8で封止された有機EL装置1において、封止部材8は絶縁性接着部材9で接着されており、絶縁性接着部材9の外側一部又は全部をバリア層65が覆っている構成とし、有機EL装置の発光部位への水分等の侵入を防止する。 (もっと読む)


【課題】外部からの水分浸入を防ぎ、十分な発光特性や発光寿命が得られる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としてのEL表示装置1は、基体上に、第1の配線と、第一電極と、前記第一電極に対応する開口を有する隔壁と、前記第一電極上に設けられた有機機能層と、前記隔壁および前記有機機能層上に設けられた第二電極と、前記第二電極と前記第1の配線とを電気的に接続する接続部と、前記第二電極上に設けられた緩衝層と、前記緩衝層上に設けられたガスバリア層と、を備え、前記第二電極は、前記隔壁を覆う第1の領域と、前記接続部に設けられた第2の領域と、を有し、前記緩衝層は、前記第1の領域を覆う第1の緩衝層と、前記第2の領域を覆う第2の緩衝層と、を有し、前記第1の緩衝層と前記第2の緩衝層とは互いに接触していない。 (もっと読む)


【課題】 下部電極から蒸着マスクまでの距離を短くして、蒸着物質の回り込みによる混色を防止する。
【解決手段】 発光領域に対応して設けられた平坦化膜と、平坦化膜を覆い、発光領域の周囲の平坦化膜が形成されていない領域の一部に延長して形成された下部電極と、下部電極の表面に形成された発光材料を含む有機膜と、有機膜を覆う上部電極とを有し、
発光領域の周囲の平坦化膜が形成されていない領域に、下部電極の端部を覆う隔壁が設けられていることを特徴とする表示装置。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子およびこれを用いた光源装置の外部量子効率を向上させる。
【解決手段】第二の基板の第二の電極が存在する側の表面に第一の光取出し層が形成され、第二の基板の第二の電極が存在しない側の表面に第二の光取出し層が形成され、第一の光取出し層には微粒子およびバインダが含まれ、第二の光取出し層には微粒子およびバインダが含まれ、第一の光取出し層に含まれる微粒子の平均粒子径は0.05μm以上2μm以下であり、第二の光取出し層に含まれる微粒子の平均粒子径は1μm以上10μm以下であり、発光層の発光点と第一の電極との間の光学長L1が(式1)を満たす有機発光装置。(式1)(2m−155/180)λ0/4/cos35°≦L1≦(2m−155/180)λ0/4/cos50°(λ0は発光層の発光中心波長、mは1以上の整数) (もっと読む)


【課題】本発明では、高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造す
ることができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、画素領域における画素電極層上、及び画素電極層周辺を覆う隔壁
として機能する絶縁層上に、スペーサを有する。このスペーサによって、発光材料を画素
電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやた
わみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクに
よる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う
、高信頼性な表示装置を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】防湿性の向上を図り、光取り出し効率と信頼性に優れた有機EL素子を提供する。
【解決手段】反射性電極2と半透明性電極7との間に、発光層4を含む有機化合物層を配置し、さらに、半透明性電極7の光出射側に、蒸着膜であるバッファ層8と、バッファ層8に接し、CVD法で形成され、バッファ層8と屈折率が異なる第1の無機保護層9と、第1の無機保護層9に接して、CVD法で形成され、第1の無機保護層9と屈折率が異なる第2の無機保護層10と、が順次積層されている。 (もっと読む)


【課題】発光素子の劣化を極力抑えるための構造を提供すると共に、各画素に必要とされる容量素子(コンデンサ)を十分に確保するための構造を提供する
【解決手段】トランジスタ上に、第1パッシベーション膜、第2の金属層、平坦化膜、バリア膜及び第3の金属層の順に積層され、平坦化膜に設けられた第1開口部の側面がバリア膜に覆われ、第1開口部の内側に第2開口部を有し、かつ、第3の金属層は前記第1開口部及び第2開口部を介して前記半導体に接続され、トランジスタの半導体、ゲート絶縁膜、ゲート電極、第1パッシベーション膜及び前記第2の金属層で積層形成された容量素子を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性能、折り曲げ耐性、断裁加工適性に優れたガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】
基材の少なくとも一方の面に蒸着法で形成された第1のバリア層を有し、該第1のバリア層上に、ポリシラザン含有液を塗布してポリシラザン層を形成した後、該ポリシラザン層を真空紫外光により第2のバリア層を形成したガスバリア性フィルムにおいて、該第1バリア層はXRD解析においてハロー図形を示し、そのピークのθ値から算出される原子間距離の平均値が6.5Å以下であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】表示装置内に残存する水分の拡散を防止するだけでなく、パネル外部からの水や酸素の浸入を防止する表示装置を提供する。
【解決手段】支持基板上に有機EL素子を配列形成してなる表示領域と、当該表示領域の周囲における支持基板上に有機EL素子の駆動回路を設けてなる周辺領域とを備え、対向基板により封止樹脂を介して有機EL素子を封止してなる表示装置において、駆動回路が形成された支持基板上の周辺領域には配線が設けられている。支持基板上には更に、絶縁膜と、この絶縁膜を分断する分離溝が設けられている。対向基板上には、分離溝に対向する位置に突出部が設けられており、突出部は、分離溝内に挿入されている。 (もっと読む)


【課題】色変換発光シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一面に複数の凹凸構造が形成された光学シートと、光学シートの他面に形成された伝導性膜と、伝導性膜の上面に形成され、バインダ樹脂及び色変換発光物質を含有するナノファイバ及びナノビーズの混合物を含む色変換発光層と、色変換発光層の上面に形成され、有機高分子保護層及び無機薄膜保護層の積層構造を有する保護層と、を含む色変換発光シート及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】水分や不純物による劣化を抑制できる有機光デバイスを提供する。
【解決手段】支持体と、支持体上に設けられた機能層と、機能層上に設けられた有機化合物を含む発光体とを有し、機能層は、ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を有し、支持体及び機能層は、波長が400nm以上700nm以下の領域で透光性を有する有機光デバイスを提供する。ガリウム又はアルミニウムと、亜鉛と、酸素とを含む絶縁膜を保護膜として用いることで、有機化合物や金属材料への水分や不純物の侵入を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】枚葉状基材、帯状の樹脂フィルム基材を使用して、乾式法又は湿式法で形成した電極を使用し有機エレクトロニクスパネルを作製しても、シヨートやリーク電流の発生を抑えられ機能低下の少ない有機エレクトロニクスパネルの製造方法の提供。
【解決手段】基材の上に、第1電極と、第2電極と、封止層と、前記第1電極と前記第2電極との間に有機物層を含む少なくとも1層の有機機能層とを有する有機エレクトロニクスパネルの製造方法において、前記有機機能層は第1有機機能層を有し、前記第1有機機能層を帯状の樹脂フィルムの上に形成する第1有機機能層形成工程と、前記帯状の樹脂フィルムの上に形成された前記第1有機機能層の上に、前記第1電極を形成する第1電極形成工程を有することを特徴とする有機エレクトロニクスパネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、隣の画素に光が出射することによる損失を低減して光取り出し効率を向上させることが可能な有機EL表示装置用対向基板および有機EL表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、有機EL素子を有する有機EL素子基板に対向するように配置される有機EL表示装置用対向基板であって、透明基板と、上記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁とを有し、上記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有することを特徴とする有機EL表示装置用対向基板を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


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