【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスおよび酸素ガスを含む混合ガスを用い、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂基板からの脱ガスによるガスバリア性の劣化を抑制し、高いガスバリア性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、亜酸化物無機層と無機層とを含む積層体であり、前記樹脂基板上に、前記亜酸化物無機層と前記無機層とがこの順に積層されており、前記亜酸化物無機層が、スパッタリング法により形成される層であり、前記無
機層が、蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、酸素、窒素および炭素から選ばれる少なくとも１種とを含む層であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】挟額縁化を実現可能な有機ＥＬ装置の製造方法および電子機器を提供すること。
【解決手段】第１基板２０Ａ上に設けられた発光素子を封止する封止膜を形成する封止膜形成工程を有する有機ＥＬ装置の製造方法であって、マザー基板Ｗ上に複数の前記第１基板２０Ａがマトリックス状にレイアウトされると共に、第１基板２０Ａの実装端子部４０を有する辺２５が向い合せにレイアウトされ、前記封止膜形成工程では、実装端子部４０を有する辺２５の反対側の辺２８が互いに向い合うようにレイアウトされた部分においては、前記封止膜を構成するガスバリア層１９を少なくとも二つの第１基板２０Ａにまたがって形成すること特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。これによって、実装端子部４０の反対側の辺において額縁領域を狭くすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗布ムラが抑えられ安定した膜厚の着色層を有する有機ＥＬ装置の製造方法、およびこの有機ＥＬ装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】本適用例の有機ＥＬ装置の製造方法は、複数の発光素子と、複数の発光素子を覆うガスバリア層と、を有する素子基板に対して、ブラックマトリクスの前駆体を形成する工程と、ブラックマトリクスの前駆体に発光素子に対応した開口部を形成する工程（ステップＳ５）と、少なくとも開口部に着色層を形成する工程（ステップＳ６）と、透明保護基板に充填層を形成する工程（ステップＳ７）と、素子基板と透明保護基板とを貼り合わせる工程（ステップＳ８）と、透明保護基板をマスクとして、少なくとも外部接続用端子が露出するようにブラックマトリクスを除去する工程（ステップＳ９）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア層を、高温に加熱せずとも、層形成時の窒化および酸化を精密に制御することで効率よく製造することが可能な、透明ガスバリア層の製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により透明ガスバリア層を製造する透明ガスバリア層の製造方法であって、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲット１７を用い、反応性ガスとして窒素ガスを用い、前記反応性ガスがさらに酸素ガスおよび水素ガスを含み、前記反応性ガスにおいて、前記窒素ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が１〜１０体積％であり、前記窒素ガスに対する前記水素ガスの混合比率が０．１〜３０体積％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 積層数が少なくてもガスバリア性に優れ、かつ、高い透明性を有する透明ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上にガスバリア性を有する透明ガスバリア層が形成された透明ガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、亜酸化物無機層と炭素含有無機層とを含む積層体であり、前記樹脂基板上に、前記亜酸化物無機層と前記炭素含有無機層とがこの順に積層されており、前記炭素含有無機層が、炭化金属および炭化半金属から選択される少なくとも１種の炭化物を含むターゲットを用いたスパッタリング法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方と、炭素と、窒素とを含む層であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンスパネルの本来の性能を低下させることなく、製造工程で混入した異物に対し段差被覆性、水蒸気透過率、成膜速度を向上させる条件でパッシベーション膜を成膜することにより、成膜時間を短縮し、かつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも第一電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、第二電極、パッシベーション層を基板上に備えた有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記パッシベーション層は３層以上から構成され、パッシベーション層最下層の被覆率が６０％以上かつ水蒸気透過率が０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、パッシベーション層中段層の被覆率が７０％以上、パッシベーション層最上層の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、各層それぞれが異なる開口のマスクでパターニング成膜されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重量や厚みを小さくすることが可能な表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】素子用基板の表示領域に設けられた複数の有機ＥＬ素子と、複数の有機ＥＬ素子を被覆するシリコン窒化膜と、シリコン窒化膜の上面側に設けられたカラーフィルタと、カラーフィルタの上面に設けられた可撓性フィルムとを備えた表示装置。 （もっと読む）

【課題】バリア性が向上したバリア層を提供する。
【解決手段】水分、酸素、他のガス、溶媒及び揮発性有機化合物の透過性を防ぐことができるバリア層１０２であって、バリア層１０２は、全ての方向に波状表面プロファイルを含み、非波状表面、直線及び鋭いエッジが存在しない。さらに、表面プロファイルは、熱応力、メカニカル応力、及び隣接した基板又は層の変形によって生じる負荷の少なくとも１つに応答して屈曲する。これにより、バリア層１０２がバリア層１０２の表面に沿った面プロファイルでの全ての方向で伸縮し、バリア層の割れを防止することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】可撓性表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性表示装置の製造方法は、キャリア基板上に抵抗を有する導電物質を含む発熱部を形成する段階と、発熱部上に可撓性基板を形成する段階と、可撓性基板上に薄膜トランジスタを含む駆動回路部を形成する段階と、駆動回路部上に発光素子および封止部材を形成する段階と、発熱部に電圧を印加してジュール熱を発生させることによって可撓性基板に直接熱を加えて発熱部から可撓性基板を分離する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】薄型化が可能であり、かつ、水分の浸入を充分に防止することができる有機光デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に配置された有機薄膜素子を封止してなる有機光デバイスの製造方法であって、基板上に配置された有機薄膜素子を無機保護層Ａで被覆する工程１と、前記無機保護層Ａで被覆された有機薄膜素子を含む領域を覆うように、カチオン重合性化合物と光カチオン重合開始剤又は熱カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性樹脂組成物を塗工し、光照射又は加熱して前記カチオン重合性樹脂組成物を硬化させて有機保護層を形成する工程２と、前記樹脂保護層上及び樹脂保護層の外周部を覆うように無機保護層Ｂで被覆する工程３とを有する有機光デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の温度が１００℃以下の低温環境下において、基板上にシリコン窒化膜を適切に成膜し、当該シリコン窒化膜の膜特性を向上させる。
【解決手段】ガラス基板Ｇ上にアノード層２０、発光層２１、カソード層２２、シリコン窒化膜２３を順次成膜して、有機ＥＬデバイスＡを製造する。シリコン窒化膜２３は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を１００℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を２０Ｐａ〜６０Ｐａに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 （もっと読む）

【課題】固体封止構造または膜封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンスデバイスにおいて、封止層にダメージを与えることなく短絡箇所の修復を行うことが可能な有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、 少なくとも一方が金属層からなる第１および第２電極と、前記第１および第２電極の間に設けられた有機材料からなる有機機能層と、前記金属層を覆うバッファ層と、前記バッファ層を覆い且つ層内に複数の空隙を有する空隙含有層と、前記第１および第２電極、前記有機機能層、前記バッファ層および前記空隙含有層を含む積層構造体を被覆する封止層と、を含む。前記バッファ層は、前記金属層を構成する金属の融点よりも低い温度で気化する材料であって前記封止層と同一の材料を含む。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬを用いた発光デバイスは水分によって劣化することが知られている。そのため、透湿を防ぐ封止の技術が重要となっている。
【解決手段】放熱性が高くかつ可とう性を有する支持基板（ステンレス鋼、ジュラルミンなど）上に有機ＥＬを用いた発光デバイスを有する発光装置を作製し、該発光装置を透光性が高くかつ非透湿性である積層体、または透光性が高くかつ非透湿性である厚さが２０μｍ以上１００μｍ以下のガラスを用いて封止する。 （もっと読む）

【課題】波長変換部材が放熱部材に接合してなる波長変換素子であって、当該波長変換素子を使用した光源の軽量化を図るとともに、使用時に波長変換部材が放熱部材から剥離しにくい波長変換素子を提供する。
【解決手段】無機材料からなる波長変換部材と、Ａｌおよびセラミックスを含む複合材料からなる放熱部材とを有することを特徴とする波長変換素子。セラミックスが、ＳｉＣおよびＡｌＮのいずれか１種以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、折り曲げ耐性、平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムの製造方法及び水蒸気バリアーフィルム、その水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上に少なくとも２層の水蒸気バリアー層３（例えば、第１の水蒸気バリアー層と第２の水蒸気バリアー層）を備え、その水蒸気バリアー層３の間に、加水分解性化合物を含有する加水分解層４を少なくとも１層備える水蒸気バリアーフィルム１０によって、水蒸気バリアー性とともに、折り曲げ耐性、平滑性の向上を図った。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ層への水分や気体の混入を防ぎ、有機ＥＬ層の劣化を抑制すること、及び有機ＥＬ層の劣化を抑制することで、当該有機ＥＬ層を用いた照明装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】基板上に設けられた有機ＥＬ発光性の有機化合物を含む層と、当該有機ＥＬ発光性の有機化合物を含む層を覆う第１のバリア層と、当該第１のバリア層上に設けられた第２のバリア層と、当該第１のバリア層及び当該第２のバリア層との間に設けられたシール材と、当該第１のバリア層、当該第２のバリア層、及び当該シール材に囲まれ、乾燥剤を含む第１の樹脂層と、当該第２のバリア層上に設けられ、当該第２のバリア層と接する面に第１の凹凸構造を有し、大気と接する面に第２の凹凸構造を有する樹脂基板とを有し、当該第２の凹凸構造の凹凸の高低差は、当該第１の凹凸構造より大きい照明装置に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板フィルムとバリアコーテイングを含むバリア構造物の提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、少なくとも一つの可撓性プラスチック基板フィルムと、
前記可撓性プラスチック基板フィルムの一つの表面上に配置されたバリアコーティングと、
を含むバリア構造物であって、
前記バリアコーティングは、周期表のＩＶＢ、ＶＢ、ＶＩＢ、ＩＩＩＡ、およびＩＶＡ族から選択された元素の酸化物若しくは窒化物、またはそれらの元素の組合せの酸化物若しくは窒化物である少なくとも一つの厚さ２ｎｍ〜１００ｎｍを有する厚膜層であり、前記バリアコーティングは、非晶質であり、且つ特徴のないミクロ構造を有していること特徴とするバリア構造物である。 （もっと読む）

【課題】デバイス内の水分および酸素の量が長期間にわたって十分に低く抑えられ、長寿命で信頼性の高い有機ＥＬデバイスを提供する。
【解決手段】本発明にかかる有機ＥＬデバイス１００は、第１基板１０および第２基板２０の間に設けられた有機ＥＬ素子３０と、有機ＥＬ素子３０を覆うように設けられたバリア膜４０と、吸収膜５０と、を備え、吸収膜５０が下記一般式（１）で表される化合物を含有する。
（Ｒ^１）_ｎＭ …（１）
（式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、環式アルキル基、アリール基、アルコキシル基、カルボキシル基およびアミノ基から選択される１種であって、複数存在するＲ^１は同一または異なってもよい。ｎは２または３であり、Ｍの原子価に等しい。Ｍは２価または３価の金属原子であり、少なくとも１つのＣ−Ｍ結合を有する。） （もっと読む）

【課題】 ガスバリア層が単層であってもガスバリア性に優れ、かつ高い透明性を有しているガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂基板上に透明ガスバリア層が形成されたガスバリアフィルムであって、前記透明ガスバリア層が、アーク放電プラズマを用いた蒸着法により形成され、かつ、金属および半金属の少なくとも一方、酸素、炭素、および、窒素を含み、前記樹脂基板において、ガラス転移点が１３０℃以上３００℃以下の範囲であり、かつ、１５０℃で０．５時間における熱収縮率が０％を超え０．５％以下の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）