【課題】 乾燥後に残渣物が残らず、乾燥後に冷却工程を必要とせず、省電力、省スペースで基板等の乾燥を行える乾燥装置を提供する。
【解決手段】 被処理基板等Ｗの搬送方向の上流側に第１のリアクタＡを設けるとともに、その下流側に第２のリアクタＢを設ける。各リアクタＡ，Ｂは、反応ガスをプラズマ化して被処理基板等Ｗに供給する表面処理装置で構成され、上記第１のリアクタＡにはプラズマ化されることによって被処理基板等Ｗの表面改質を行う反応ガスを供給し、第２のリアクタＢにはプラズマ化されることによって水分子および有機物を解離可能な成分を含んだ反応ガスを供給する。これにより、第１のリアクタＡで被処理基板等Ｗの表面に付着した水分を改質して水滴の表面張力を弱め、第２のリアクタＢで水滴表面の水分子を解離させるとともに、有機物を分解して基板等を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物の端面と表面の水切り及び乾燥が充分に行えるコンパクトな乾燥装置を提供する。
【解決手段】 乾燥箱内でスプレーノズルを被洗浄物の搬送方向に直交する方向に直線的に移動させるリニア駆動装置を設け、スプレーノズルの吐出口を搬送方向に長く延びたスリットで構成する。乾燥箱の入口及び出口に、搬送方向に直交する方向に被洗浄物の幅だけ延びたスリットを有する一対のノズルを設け、ノズルの対向する面を、内縁の間隔が外縁の間隔よりも大きくなるように内縁から外縁にかけて傾斜させる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、乾燥時に乾燥流体だけを局部的に加熱するだけで、リンス液の表面張力の影響によりパターン倒れや素子の固着が発生しうる微細なパターンを形成した１００ｍｍ以上の大口径基板に対して効率良く短時間で均一に乾燥させることができる微細構造乾燥処理法及びその装置を提供することにある。
【解決手段】
高圧容器内にリンス液に浸漬又は濡れた状態の微細構造を有する基板を設置する工程と、前記高圧容器内に前記リンス液の比重と異なる比重の乾燥流体を導入して満たす導入工程と、前記乾燥流体によって満たした前記高圧容器を設定角度に傾斜させて前記流体と前記リンス液の比重差を利用して前記リンス液を選択的に前記高圧容器内より排出させるリンス液排出工程と、前記流体を局部的に臨界温度以上に加熱する工程と、前記流体を局部的に加熱しながら大気圧まで減圧する減圧工程とを有することを特徴とする微細構造乾燥処理法にある。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄後のＩＰＡ等の有機溶剤蒸気乾燥において、有機溶剤使用量の削減と乾燥処理時間の削減を両立し、かつ乾燥工程に起因する欠陥を削減する。
【解決手段】 基板５を乾燥処理する乾燥処理チャンバ７と、乾燥処理チャンバ内で基板を洗浄処理する洗浄槽６と、乾燥処理チャンバ容器の側壁と天井部を加熱する加熱手段８と、有機溶剤を蒸気化する手段と、蒸気化した有機溶剤を乾燥処理チャンバに送る送気管２２とを備えている。また、基板引き上げ後においては、チャンバ内圧を陽圧化する手段を備えている。また、基板上水分へ有機溶剤蒸気濃縮を促進する為、リンス時の純水温度を低下させることも有効である。 （もっと読む）

【課題】ベルトコンベアーを用いて被洗浄物の連続的な効率の良い減圧蒸気洗浄作業または被洗浄物の減圧乾燥作業を可能とする。
【解決手段】ベルトコンベアー１の上面に載置した被洗浄物１１を上面から被覆して密閉する上部被覆体１２を形成する。ベルトコンベアー１の下面に配置するとともにベルトコンベアー１に貫通形成した流通孔２６を介して上部被覆体１２と連通し、この上部被覆体１２と共に被洗浄物１１を気密的に密閉可能とする下部被覆体１０を形成する。上部被覆体１２または下部被覆体１０に溶剤回収機能を備えた減圧機構１３と、上部被覆体１２内に洗浄蒸気を供給する蒸気供給機構１６を接続する。そして、上部被覆体１２内に密閉収納した被洗浄物１１の減圧蒸気洗浄を可能とすると共に上部被覆体１２を、被洗浄物１１の出入が可能となるよう、ベルトコンベアー１の上面に対して上下動可能とする。 （もっと読む）

【課題】スティクションの発生を回避できる各自立型ナノ構造部を有する半導体ウェハーの作成方法および作成システムを提供する。
【解決手段】半導体ウェハー上にパターン化された層を形成する。上記半導体ウェハーを収容した処理チャンバーに、エッチング化成品を注入し、パターン化された層をエッチングして、自立型ナノ構造部を半導体ウェハー上に露出させる。エッチング化成品は、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体と、エッチング溶液とを含む。上記半導体ウェハーは、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体を処理チャンバーに浸漬させることにより洗浄される。上記半導体ウェハーは、超臨界状態または液体状態の二酸化炭素の流体を処理チャンバーから排気することにより乾燥される。 （もっと読む）

【課題】 排気対策が容易で、イニシャルコスト及びランニングコストの削減が可能な乾燥対象物処理システム及びその方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る乾燥対象物処理システムは、乾燥対象物を常圧下で乾燥処理するための常圧乾燥機１１と、常圧乾燥機１１からの蒸発物を気液分離処理するための気液分離装置１７と、気液分離装置１７から排出された気体のうちの大部分を常圧乾燥機１１に戻すための排気循環設備２０と、気液分離装置１７から排出された気体の残りの部分を排気処理するための排気処理設備２１とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の種別に応じて排気気流の流れ方を調整することができる基板乾燥装置、基板処理システム、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを課題としている。
【解決手段】 成膜材料を溶媒に溶解した成膜溶液が塗着された基板Ｗを減圧乾燥する基板乾燥装置３であって、基板Ｗを気密に収容する処理室６０と、処理室６０に分散させるようにして形成した複数の排気口６６と、複数の排気口６６を介して処理室６０内の雰囲気を排気する排気手段８９と、複数の排気口６６と排気手段８９とを接続する排気流路９１，９２，９３と、複数の排気口６６に対応して排気流路９１，９２，９３に介設され、複数の排気口６６からの排気気流の流量をそれぞれ調節する複数の流量調節手段１００と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 連続的に走行しているウェブの塗膜を熱エネルギーを使用することなく、高速乾燥、高精度乾燥することの可能な乾燥方法及び装置を提供する。
【解決手段】 塗布により液状の塗膜を形成したウェブ２を、その塗膜側を上側として水平に且つ連続的に、乾燥装置本体３内に形成している複数の乾燥室９、１０、１１内に通し、その乾燥室を減圧状態に保持しておくことで、塗膜に負圧を作用させ、加熱することなく塗膜の溶媒を蒸発させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄された球状体の表面の水分を簡単に満遍なく拭き取ることができる球状体の拭き取り装置を提供することである。
【解決手段】吸水性のスポンジシート１を敷いた移送通路２の上方に、所定の間隔を開けて搬送ベルト３を平行に配設し、移送通路２の供給端に供給される洗浄された中空ボールＡを、上方の搬送ベルト３に当接して転動させながら下方の移送通路２のスポンジシート１に転接させて排出端へ移送し、中空ボールＡの表面の水分を転接されるスポンジシート１に吸収して拭き取ることにより、洗浄された中空ボールＡの表面の水分を簡単に満遍なく拭き取ることができるようにした。 （もっと読む）

本発明は、真空ライン１８に連結されたチャンバ１０内で行われる凍結乾燥処理中の脱水運転を監視するための装置に関する。この装置は、チャンバ１０内に含まれる気体を分析するための手段を備え、この手段は、プラズマを発生するように構成された発生器と結合された気体と接触しているプラズマ源３を含む、気体をイオン化するためのシステム１、及び、プラズマにより放出される放射スペクトルの発生を分析する装置２２に連結されたプラズマ発生区域の近くに配置された放射線センサ２０を含む、イオン化された気体を分析するためのシステムを含む。このプラズマ源は誘導結合によって生成されることが好ましく、放射スペクトルを分析する装置は発光分析装置である。
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【課題】 支持板とチャンバーの底面との距離を極めて小さく設定した場合においても、排気口からの排気を効率的に実行することが可能な減圧乾燥装置を提供すること。
【解決手段】 減圧乾燥装置は、蓋部１１と、パッキング１２と、基部１３とから成るチャンバ１０と、このチャンバ１０における基部１３に立設された支持ピン１５と、複数の昇降ピン２１が立設された平面視において矩形状の支持板２２とを備える。支持板２２の下面には、排気口３１と対向する位置から支持板２２の端縁に至る位置まで、空気の流通路５０が形成されている。この空気の流通路５０は、各排気口３１と対向する位置から支持板２２における角部に至る位置までの間に形成された、矩形状の座グリ部から構成される。 （もっと読む）

【課題】被処理物を減圧乾燥する工程を含むにもかかわらず、処理全体が、連続式処理とされた、被処理物の処理方法とする。
【解決手段】供給路１１を通して供給された被処理物Ｄ１を、減圧乾燥し、排出路１２を通して排出する。この際、供給路１１及び排出路１２が、圧縮された被処理物Ｄ１，Ｄ２で密にされて、マテリアルシールされるように、被処理物Ｄ１，Ｄ２を連続供給及び連続排出する。 （もっと読む）

【課題】 基板面上に均一な厚さの膜を形成することができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】 載置台１２と上下動可能な蓋体１４によって、基板Ｐを収容し気密に閉鎖可能なチャンバ１０を形成する。載置台１２の底部には、排気管２４を設け、チャンバ１０内を減圧可能にする。また、載置台１２には、基板Ｐを保持するステージＳが載置されており、ステージＳの周囲には、基板Ｐの表面位置の近傍であって、基板Ｐの表面位置と略同一の高さ又は基板Ｐの表面位置よりも低い位置に、基板Ｐの縁部に沿って延びるスリット形状の開口部が形成された排気口４０ａ、４０ｂが形成されている。チャンバ１０内の雰囲気は、各排気口に形成された開口部及び排気管２４を介して吸引ポンプ２６により吸引され、各排気口において同一の排気速度で排気される。 （もっと読む）

【課題】溶剤系塗布膜や溶剤系フィルム等の被乾燥物を乾燥する場合でも、乾燥速度をリアルタイムに制御することができるので、乾燥ムラを防止できる。
【解決手段】揮発性の有機溶剤を溶媒の主成分として含むウエブ状の被乾燥物１２を乾燥する際に、被乾燥物１２を該被乾燥物１２のウエブ長手方向に移動させながら被乾燥物１２にレーザー照射手段１４からレーザー光を照射して乾燥すると共に、被乾燥物１２から揮発する揮発分中に含まれる有機溶剤濃度を測定手段１１で測定し、測定した測定値と予め設定した設定値とのズレがなくなるようにレーザー照射手段１４のレーザー出力をフィードバック制御する。 （もっと読む）

【課題】山形県庄内地区で栽培されている通称ズイキ芋（里芋）を主原料とした特殊焼酎の製造において、原料備蓄を容易にし、小型設備でかつ短期間で製造可能とする。
【解決手段】主原料のズイキ芋等を真空冷凍乾燥して粉末とし、該原料を使用して従来の焼酎製造法に順じ、焼酎を製造する。 （もっと読む）

【課題】乾燥条件の調整及び切り換えを瞬時に行うことができるので、乾燥不良品の発生を大幅に低減できると共に、ロット切り換えにおいて切り換え時間ロスがなくなるので、生産性を向上できる。
【解決手段】ウエブ状の被乾燥物１２に、レーザー照射手段１４からレーザー光を照射すると共に、該被乾燥物１２の乾燥状態を評価する残留水分量や被乾燥物１２の表面温度を測定手段１１で測定し、その測定値と予め設定した設定値とのズレがなくなるように、レーザー照射手段４のレーザー出力をフィードバック制御するように構成する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜全面のうちの厚膜塗布され易い耳部の乾燥を十分に行うことができるので、未乾燥な塗布液で後工程が汚染されることがない。
【解決手段】連続走行する帯状の支持体２４上に塗布液が塗布された塗布膜１２を乾燥する塗布膜１２の乾燥方法において、塗布膜全面１２のうちの少なくとも厚膜塗布され易い耳部１２Ａの乾燥については、レーザー照射手段１４からレーザー光を照射して乾燥する。この場合、レーザー乾燥後の耳部１２Ａの膜厚を測定し、測定した測定値と予め設定した目標値とのズレがなくなるように、レーザー照射手段のレーザー出力をフィードバック制御するとよい。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造としてランニングコストを低減しながら、しかも短時間で傘に付着している水分を確実に除去する。
【解決手段】傘の脱水装置は、傘３０を挿入する開口部１０を備える傘受容器１と、この傘受容器１の内面に配設されて、傘３０の表面に付着する水を吸収する吸収材２と、吸収材２に吸収された水を吸引する吸引機３とを備える。吸収材２は、吸水性とクッション性とを有する。傘の脱水装置は、吸引機３を吸引状態として、吸収材２の内側面に傘３０の生地３１を密着させて吸収材２の体積を減少させると共に、吸収材２に含まれる水分を吸引機３で吸引して排出し、吸引機３を吸引停止状態として、吸収材２を元の体積に復元させて、傘３０の生地３１の表面に付着する水を吸収する。 （もっと読む）

【課題】 塗装から乾燥までの所要時間を短縮することができる水性塗料の塗布乾燥方法及び装置を提供する。
【解決手段】 ディスクロータ１はローラコンベア２によって予熱用高周波誘導加熱コイル４まで搬送され、予熱用高周波誘導加熱コイル４で局部的に７０乃至１００℃に予熱される。予熱されたディスクローラ１は、後流の塗装ロボット５によって被塗装面が塗装される。塗装後のディスクローラ１は養生のためのセッティング工程を経て乾燥加熱用高周波誘導加熱コイル７まで搬送され、ここで加熱され、塗膜が乾燥する。塗膜が形成されたディスクローラ１は製品１５として回収される。 （もっと読む）