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Fターム[4C204BB05]の内容

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Fターム[4C204BB05]に分類される特許

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【課題】高い屈折率を有しかつ紫外域の吸収や蛍光の問題がなく透明性に優れた重合可能な新規なジ(メタ)アクリレート化合物を提供することである。
【解決手段】高い屈折率を有し、かつ250nm以上の高波長側にUV吸収を持たない透明な化合物であり、ラジカル重合性基を持つ重合可能な化合物であり、その重合物は高屈折光学材料として用いることができる、工業的に有用な9,10−エタノアントラセン骨格を有するジ(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】新規なアントラセン誘導体とそれを用いた発光素子、発光装置、電子機器を提供。
【解決手段】色純度の良い青色発光とキャリア輸送性を有する、一般式(G11)および一般式(G21)で表されるアントラセン誘導体とそれを用いた発光素子、発光装置、電子機器。
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本発明は、一般式(I)または(II)の1つ以上の化合物により電磁線の吸収度を変化させる方法であって、前記化合物を波長300〜750nmの電磁線で照射する方法に関する。さらに本発明は、紙または鉱油などの材料を標識するための一般式(I)または(II)の化合物の使用および変色させるための一般式(I)または(II)の化合物の使用に関する。また、本発明は、レーザー溶接、熱管理における光開始剤、ラジカル捕捉剤としての、または酸素を検出するための一般式(I)または(II)の化合物の使用に関する。本発明は、ある材料の電磁線の吸収または透過を制御する方法に関し、一般式(I)または(II)の1つ以上の化合物を前記材料と接触させ、前記化合物を波長300〜750nmの電磁線で照射する。最後に、本発明は、一般式(I)の特定の化合物に関する。
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【課題】効率(消費電力)に優れ、かつ耐久性に優れる発光素子の提供。
【解決手段】一対の電極間に発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、有機層のいずれかに特定構造で表される化合物の少なくとも一種を含有し、発光層にイリジウム錯体系燐光発光材料の少なくとも一種を含有することを特徴とする有機電界発光素子。 (もっと読む)


【課題】光電変換効率が高く、高耐久性の化合物(色素)、及びそれを用いた光電変換素子、太陽電池の提供。
【解決手段】式1で表されることを特徴とする化合物。


(Ar〜Arは各々アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環状構造を形成してもよい。Ar、Arは各々アリール基又は複素環基を表し、互いに連結して環状構造を形成してもよい。f、gはf+g≧2の整数;Xは酸性基を有する有機残基;R、RはH、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アルケニル基、アミノ基、シアノ基または複素環基を表す。eは1〜5の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】塗布法によって平滑な薄膜を形成できるとともに、結晶化の進行を抑えることのできる有機エレクトロニクス用材料を提供すること。
【解決手段】カルバゾール基を有する低分子化合物及び成膜性向上材を含む混合物からなる有機エレクトロニクス用材料。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高い発光輝度を示し、かつ半減寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス素子及びそれを用いた表示装置を提供することにある。
【解決手段】下記記一般式(3)で表される化合物を含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
一般式(3)
−(A
〔式中、−Aは下記一般式(4)で表され、同一でも異なっていても良い。
【化1】
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【課題】9−アリールアントラセンから簡便な操作で9−アリール−10−ヨードアントラセンを効率的に合成する方法を提供する事を課題とする。
【解決手段】アミド基の構造を有し、前記アミド基の窒素とヨウ素とが直接結合している構造を有する物質であるヨウ素化剤と、酸と、9−アリールアントラセンを混合することで、9−アリールアントラセンの10位に1ステップでヨウ素を導入し、9−アリール−10−ヨードアントラセンを合成することができる。 (もっと読む)


【課題】発光効率に優れ、寿命が画期的に改善された有機電界発光素子の材料として有用な新規化合物の提供。
【解決手段】下記化学式1で表されるアントラセン化合物であり、例えば、下記化合物3の化合物である。有機電界発光素子は、化合物Eのアリールアミン誘導体等をドーパントとした発光層5とする。


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【課題】発光物質からの発光が、発光物質自体の濃度に起因して消光してしまうことを防ぐことがを目的とする。
【解決手段】電極間に発光層を有し、前記発光層は発光物質とホストとを含み、前記発光物質は、新規物質であり、前記ホストは、前記発光物質よりも大きいイオン化ポテンシャル及び前記発光物質よりも大きいエネルギーギャップを有する物質である。なお、エネルギーギャップとはLUMO準位とHOMO準位との間のエネルギーギャップをいう。 (もっと読む)


本発明はフッ素誘導体及び有機電子素子に関するものであり、前記化合物は発光層において母材として、及び/又は、正孔輸送物質として、及び/又は、電子遮蔽又は励起子遮蔽物質として、及び/又は、電子輸送物質として使用される。 (もっと読む)


【課題】ポジ型感光性樹脂組成物に光活性剤として用いた場合に、高感度、高解像度を示し、保存安定性の良好な、ハロゲン元素を含まないナフトキノンジアジド化合物の提供。
【解決手段】ナフトキノンジアジド化合物は、一般式(1):


{式中、R及びR2は、互いに独立に、1価の有機基(水素は除く)であり、Q及びQは、互いに独立であり、かつ、Q及びQの内の少なくとも1つは、スルホニル基を有するナフトキノンジアジド基であり、そしてXは、ハロゲン元素を含まない2価の基又は単結合である。}である。 (もっと読む)


【課題】効率(消費電力)に優れ、かつ耐久性に優れる発光素子の提供。
【解決手段】一対の電極間に発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、有機層のいずれかに下記一般式(I)で表される化合物の少なくとも一種を含有し、発光層に4座配位子を有する白金錯体燐光発光材料の少なくとも一種を含有することを特徴とする有機電界発光素子。
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【課題】 耐久性及び発光効率が良好な発光素子を提供すること。
【解決手段】 一対の電極間に発光層を含む少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子であって、一対の電極間の少なくとも一層に、下記一般式[1]で表されるインドール化合物を含有することを特徴とする有機電界発光素子。
一般式[1]:


[ここでInd101は置換もしくは無置換のインドール環を表し、L101は連結基を表す。Ind101とL101はInd101の2位もしくは3位で連結している。n101は2以上の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】高輝度、高効率、低電圧駆動、長寿命、耐熱性などの優れた特性を示す有機EL素子用材料および、それを用いた有機EL素子の提供。
【解決手段】下記一般式[1]で示される有機EL素子用材料。一般式[1]


(式中、R1は置換若しくは無置換の芳香族基、または複素環基を表す。R2は置換若しくは無置換の縮合多環基、または複素環基を表す。R3およびR4は、それぞれ独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、または芳香族基を表す。)該有機EL素子用材料は、機EL素子の発光層の発光材料あるいはホスト材料として用いられる。 (もっと読む)


【課題】
光透過性に優れた近赤外光の発光を誘導する発光化学化合物を見出し、その発光化合物を用いたスーパーオキシドアニオンの高感度分析方法を提供すること。
【解決手段】
イミダゾ[1,2-a]ピラジン-3-オン類とインドシアニン類が共有結合した近赤外光を発する発光化合物を製造する。この化合物をスーパーオキシドアニオン発光分析用試薬の有効成分として用い、スーパーオキシドアニオンを近赤外光として検出することによって上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】高輝度、低電圧駆動、長寿命、耐熱性等優れた特性を示す有機EL素子用材料の提供。
【解決手段】フェナントレン骨格の2及び7位に下記の置換基を有する有機EL素子用材料。


(式中Y1ないしY5はH、または置換基を表す。但し、Y1およびY2の少なくとも一つは、H以外のアルキル基、置換アミノ基芳香族基、複素環基等の置換基である。) (もっと読む)


【課題】有機EL素子用材料に有用で、蒸着および塗布による製膜可能な、高いTgを示す化合物の提供。
【解決手段】一般式[1]で表されるカルバゾリル基を有する化合物。一般式[1]


(式中、Aはカルバゾリル基を表し、R1〜R9は水素原子、または、置換基を表す。) (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】シアニン色素およびスチリル色素からなる群から選択された化合物であるフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される、新規なフォトレジスト用化合物、上記フォトレジスト用化合物を用いたフォトレジスト液、および上記フォトレジスト液を使用して、所望の表面をエッチングするエッチング方法の提供。
【解決手段】メロシアニン色素骨格を有するフォトレジスト用化合物。前記フォトレジスト用化合物を含むフォトレジスト液。前記フォトレジスト液を使用する被加工表面のエッチング方法。 (もっと読む)


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