【課題】反応槽内でフッ素含有化合物処理温度に達しない温度領域を有効に活用して効率よく処理する排ガスの処理方法と処理剤を提供する。
【解決手段】フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法において、該排ガス１０の流れに沿って上流側にＣａ（ＯＨ）_２、Ｍｇ（ＯＨ）_２又はこれらの焼成品の1種以上を含有するアルカリ剤６を充填し、その下流側にＡｌ（ＯＨ）_３とＣａ（ＯＨ）_２の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるＰＦＣ処理剤７を充填した反応槽１に下向流で通すものであり、前記ＰＦＣ処理剤７は平均粒子径（メディアン径）５５μｍ以上１６０μｍ以下のＡｌ（ＯＨ）_３と、Ｃａ（ＯＨ）_２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を成形して乾燥し、４３０℃よりも高く８９０℃以下の温度範囲で、焼成して得たものであり、前記反応槽１は、５００℃以上に加温されるのがよい。 （もっと読む）

ガス流に含まれるアンモニアを回収するためのプロセスについて記載する。このプロセスは、以下の：（ａ）アンモニアを含有するガス流を、７．０未満のｐＨを有する水性洗浄液（５ａ）による洗浄（Ｓ）に供し、精製されたガス流（６）とアンモニア塩を含有する水溶液（７）とが生成される工程と、（ｂ）工程（ａ）に由来するアンモニウム塩を含有する水溶液を、疎水性微孔性膜を使用した温度５０〜２５０℃及び圧力５０ＫＰａ〜４ＭＰａ（絶対圧）での蒸留プロセス（ＭＤ）に供し、再生された洗浄液（１６）と、ＮＨ_３及びＨ_２Ｏを含むガス流（１８）とが生成される工程と、（ｃ）再生された洗浄液を工程（ａ）に再循環させる工程とを含む。上記のプロセスを行うための装置についても記載する。 （もっと読む）

【課題】 排ガス中のフッ素含有化合物を効率よく分解することができ、耐久性に優れた処理剤及び排ガスの処理方法を提供する。
【解決手段】 平均粒子径（メディアン径）５５μｍ以上１６０μｍ以下のＡｌ（ＯＨ）_３とＣａ（ＯＨ）_２とのモル比が３：７〜５：５である混合物を、かさ密度が９５０ｇ／Ｌ以上に混練成形後に乾燥した成形物を、焼成して形成するか、又は、Ａｌ（ＯＨ）_３とＣａ（ＯＨ）_２の混合物を焼成して得られた複合酸化物を主成分とする処理剤を、０．６８ｋｇ／Ｌ以上の充填密度で充填したことを特徴とする排ガス中のフッ素含有化合物処理剤、及び、該剤をフッ素含有化合物を含む排ガスと、５５０℃〜８５０℃の温度で接触させる排ガス処理方法としたものである。 （もっと読む）

【課題】ガス浄化装置への組み込みを容易にする、コンパクトな活性炭の賦活再生炉（賦活再生方法）を提供することを目的とし、さらにこの活性炭賦活再生炉を利用し、排ガス中の化学物質の除去率を長期にわたり高レベルに維持することができるガス浄化方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】吸着能力が低下した活性炭Ｋを供給するための活性炭供給部２１と、供給した活性炭が重力で流下する移動層を形成し、該移動層において活性炭Ｋと水蒸気Ｖとを加熱下で向流的に接触させ、水性ガス化反応を起こすことにより活性炭Ｋを再生するための活性炭再生部２２と、再生した活性炭を冷却するための冷却部２６と、冷却した活性炭を排出するための活性炭排出部２７とを備える活性炭賦活再生炉を用いる。向流的に接触させる水蒸気の流量Ｗ_Ｖ（ｋｇ／ｈ）と活性炭の流量Ｗ_Ｋ（ｋｇ／ｈ）との重量比（Ｗ_Ｖ／Ｗ_Ｋ）は、０．０５〜１．０に設定することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低濃度ＰＣＢのみを対象としていることに着目し、燃焼室でのＰＣＢの分解を主目的とせず、ＰＣＢを液体中に含まれている状態から排ガスに移行させることを主目的として、低濃度ＰＣＢを含有する絶縁油を内燃機関内で焼却処理し、その際に排出する低濃度ＰＣＢを含有する排ガスを加熱処理することによって、低濃度ＰＣＢを分解する方法を提供する。
【解決手段】低濃度ＰＣＢを含有する絶縁油２を内燃機関１内に噴射して焼却処理した後に、内燃機関１から排出された排ガスを８５０℃以上の温度に保持された二次燃焼室５に導入して２秒以上滞留することにより、上記排ガス中に含まれる低濃度ＰＣＢを分解することを特徴とする低濃度ＰＣＢの無害化処理方法。 （もっと読む）

【課題】セメント製造設備における熱負荷を増加させることなく、最小の気体導入によって、抽気ガスに同伴したダストが抽気ダクト内に堆積・固化することを確実に防止することができるセメント焼成設備の排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】セメントキルン１の窯尻部２の排気ダクト２ｂに接続されて抽気ガスを抽気する抽気ダクト１０が単管によって形成され、かつ抽気ダクト１０内に開口して冷却用気体を抽気ダクト１０の周方向に吹き込むことにより、上記抽気ガスを冷却しつつ軸線方向に上記抽気ガスの旋回流を形成させる冷却気体導入ダクト２５と、冷却気体導入ダクト２５に上記冷却用気体を供給する給気手段とを有する冷却手段が設けられ、かつ抽気ダクト１０と排気ダクト２ｂとの接続部に、気体を抽気ダクト１０の周方向であって、かつ排気ダクト１ｂ側に吹き込む抽気ガスの撹拌手段２６ａ〜２６ｄを設けた。 （もっと読む）

【課題】運転を停止させることなく抽気ダクト内に抽気ガスに同伴したダストが堆積・固化することを確実に防止することができ、よってメンテナンスフリーの安定的な操業を実現することができるセメント焼成設備の排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】セメント原料を予熱するプレヒータ３の最下部またはセメントキルン１の窯尻部２の排気ダクト２ｂに接続されて抽気ガスを抽気する抽気ダクト１０内に、上記抽気ガスの下流側から排気ダクト２ｂ側に向けて抽気ダクト１０の内壁に沿う気体の旋回流を噴出させることにより抽気ダクト１０内に堆積する上記ダストを除去するダスト除去ノズル２５を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】セメントキルンから排出される燃焼排ガスから水銀を効率よく除去する。
【解決手段】セメントキルン排ガスに含まれるダストを集塵する集塵装置２と、集塵装置２で集塵されたダストを加熱する加熱装置３と、加熱装置３から排出されたダストを含む排ガスを固気分離するセラミックフィルタを備えた固気分離装置６と、固気分離装置６によって分離されたガスの気相側に存在する水銀を回収する水銀回収装置８とを備えるセメントキルン排ガスの処理装置１。加熱装置３は、ガスで直接ダストを加熱することができる。加熱装置３から排出された前記ダストを含む排ガスの温度を２５０℃以上８００℃以下とすることができる。集塵装置２によって集塵されたダストを分級する分級装置２２又は集塵されたダストを造粒する造粒装置３２を備え、加熱装置３は、分級装置２２で分級された微粉側ダスト側のダスト又は造粒装置３２によって得られた造粒物を加熱してもよい。 （もっと読む）

【課題】回収した微粉ダストのハンドリング性を高め、かつ有機質汚泥を焼却処理することに起因して発生する塩化水素も円滑に除去することが可能になるセメント焼成設備の排ガス処理方法および処理システムを提供する。
【解決手段】セメントキルン１の窯尻部２の排ガスの一部をプローブ２６から抽気ガスとして抽気する際に、セメント原料を分散させて抽気ガスの温度を９５０℃〜１１５０℃の範囲に保持し、この抽気ガスを塩素化合物の融点以下に冷却した後に、固気分離手段１２において分級粒度を１５μｍ〜３０μｍの範囲に調整とともに、固気分離手段の下流側から抜き出した抽気ガスをプローブ２６に循環供給して、それ以下の微粉ダストをダスト捕捉手段１３によって抽気ガスから除去することにより、ダスト捕捉手段において回収する微粉ダストの量を５０〜１５０ｇ／ｍ³Ｎの範囲に保持しつつ、捕集された微粉ダストの塩素濃度を５〜２０％の範囲にした。 （もっと読む）

ガス流からの微粒子状物質の排出を減少させるための方法およびシステムを提供する。主題のシステムは、ガス流中の微粒子状物質の排出量を減少させる触媒を含む。主題のシステムの実施形態はまた、ガス流中の微粒子状物質前駆体の排出量も減少させる。いくつかの場合では、主題のシステムおよび方法は、ガス流中の微粒子状物質および微粒子状物質前駆体の減少を促進する吸着剤を含む。主題の方法およびシステムは、ガス流からの微粒子状物質の排出を減少させることが所望される様々な用途において、使用を見出す。
（もっと読む）

【課題】炭酸ガスの効率的な分解反応を導くことができると共に、生成する黒鉛の有効な利用を実現して炭酸ガスの実質的で効果的な排出削減を図る。
【解決手段】
炭酸ガスを分解する方法において、高温の炭酸ガス含有ガスに対し、その炭酸ガス中の酸素原子と反応する還元物質と、炭酸ガスの分解反応を促進する分解反応物質とが共存する状態に保持することによって、該炭酸ガスの分解と共に、分解反応物質上には炭素を付着させて該物質の還元を行う炭酸ガスの分解方法。 （もっと読む）

【課題】セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスの一部を抽気して塩素等を除去するにあたり、広い設置場所を必要とせず、装置及び運転コストを低く抑えるとともに、セメント焼成系統の熱効率の低下を抑制する。
【解決手段】セメントキルン２６の窯尻２３から最下段サイクロン２２に至るまでのキルン排ガス流路に穿設され、キルン排ガス流路からキルン排ガスを抽気する抽気孔２３ａと、抽気孔に連通し、抽気孔から抽気された抽気ガスＧ２が通過する筒部１４と、筒部を通過する抽気ガスを冷却する冷却部１６と、筒部の内部に付着した付着物を除去する付着物除去部２０とを備える処理装置１０等。筒部から排出された抽気ガスを、最下段サイクロンから最上段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路に戻すルートを備えることができる。 （もっと読む）

【課題】 従来から課題となっている主として担体充填槽に送入される空気である処理対象悪臭ガスの温湿度の低下によって生物脱臭装置の性能が低下することを解決するものであり、生物脱臭装置の性能を高いレベルで安定化させる方法及び装置を提供することにある。
【解決手段】温湿濃度調整装置４は、担体充填槽５前段の配管を利用した構造となっている。具体的には、下方に処理対象悪臭ガスの入気口と上方に処理対象悪臭ガスの排気口を有して鉛直方向に延びるガス配管にあって、ガス配管内に設けられた螺旋状の気液接触部１７とガス配管の下側に設けられた循環水槽１５と循環水槽１５の液体の温度調整のために設けられた熱源１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】セメントキルンから排出される燃焼排ガスから水銀を効率よく除去する。
【解決手段】セメントキルンの排ガスに含まれるダストを集塵する集塵装置２と、集塵ダストを、セメント焼成設備に付設された塩素バイパスの排ガスＧ４を用いて加熱し、揮発した水銀を回収する水銀回収装置１９とを備えるセメントキルン排ガスの処理装置１等。水銀の揮発にあたり新たな熱源を必要としない。３００℃以上７００℃以下の含塵ガスを固気分離する固気分離装置を通過したガスで集塵ダストを加熱することができ、集塵ダストを加熱した後の塩素バイパスの排ガスに、塩素ガス又は塩化水素を注入する注入装置１３を備えてもよい。塩素ガス又は塩化水素を注入することによって、塩素バイパスの排ガス中の塩化水素とも併せて、ダスト中の金属水銀の塩化水銀への転化を促進させることができる。 （もっと読む）

【課題】 簡易な方法により化学吸収液の二酸化炭素ローディングを高くしてガス吸収工程と再生工程との間を循環させる化学吸収液の循環量を少なくすることが可能な二酸化炭素の分離回収方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも２つの槽１１ａ〜１１ｃに貯められた化学吸収液に対して被処理ガスＧｆを気泡状に放散して気液接触させることにより被処理ガスＧｆに含まれる二酸化炭素を分離回収する方法であって、化学吸収液を抜出槽１１ｃから抜出して再生した後に受入槽１１ａに受入れながら、受入槽１１ａから抜出槽１１ｃに至る少なくとも２つの槽１１ａ〜１１ｃに亘って化学吸収液を順次移送させると共に、被処理ガスＧｆを分割して少なくとも２つの槽１１ａ〜１１ｃに貯められた化学吸収液にそれぞれ供給する。 （もっと読む）

【課題】揮発性有機化合物を含む処理ガスの量の変動に対応することができる揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステムを提供する。
【解決手段】揮発性有機化合物処理用コージェネレーションシステムＳは、前記揮発性有機化合物を含む処理ガスを受け入れるチャンバー３と、このチャンバー３内に設けられ、チャンバー３内の圧力を検知する圧力センサー３２と、チャンバー３から導かれた前記処理ガス中の前記揮発性有機化合物を吸着剤で吸着し、該吸着剤に吸着した前記揮発性有機化合物を離脱させて前記揮発性有機化合物を濃縮する濃縮装置７と、圧力センサー３２により検出されるチャンバー３内の圧力が所定圧に保つよう、第１の送風手段１０、１１、１２の送風量を制御する送風制御手段１３とを備えているものである。 （もっと読む）

【課題】「高価な下流側ＮＯｘセンサ」に代わる「安価な下流側空燃比センサ」を添加剤の供給量制御に使用可能とすることにより、より安価な「ＳＣＲ触媒を用いた排気浄化装置」を提供すること。
【解決手段】本排気浄化装置は、ＳＣＲ触媒４４、ＳＣＲ触媒の上流に尿素水を供給する尿素水噴射弁５５、及び、ＳＣＲ触媒の下流に配設された下流側空燃比センサ（拡散抵抗層を備えた酸素濃度センサ）６６を有する。本装置は、所定条件が成立したとき、尿素水噴射弁からの尿素水の噴射を停止し、その状態における下流側空燃比センサの出力値を第１出力値として取得する。本装置は、尿素水噴射弁から尿素水が噴射されているときの下流側空燃比センサの出力値を第２出力値として取得する。そして、第１出力値と第２出力値との差ΔＡＦに基づいて、ＳＣＲ触媒から流出しているアンモニアの濃度を取得する。 （もっと読む）

【課題】被処理ガスの吸着熱による除去剤の発熱の抑制、および処理後の固形廃棄物の発生の低減が可能で、低濃度の本ハロゲン系ガスを含む被処理ガスにも用いることができ、本ハロゲン系ガスの除去効率により優れた除去方法、および除去剤を提供する。また、該除去方法を用いた半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン系ガスを含有する被処理ガスと、造粒物からなる除去剤とを接触させて前記ハロゲン系ガスを除去する方法であって、前記造粒物が、アルカリ金属の炭酸水素塩および／または炭酸塩と、炭素質材料と、アルカリ土類金属の水酸化物と、アルカリ土類金属のハロゲン化物の水和物とを含有するハロゲン系ガスの除去方法。また、前記造粒物からなる除去剤。また、前記除去方法を利用した半導体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 複雑で設備コストのかかる構成を要することなく、触媒を脱硝触媒装置から取り外すことなく、現場で効率のよい触媒の加熱再生を可能にすること。
【解決手段】 脱硝触媒装置１の導入流路Ｌｃと供出流路Ｌｄとを閉鎖するダンパＶｃおよびＶｄと、該導入流路Ｌｃと供出流路Ｌｄに接続する再生ガス流路Ｌｒと、再生ガス流路Ｌｒに設けられたヒータ４およびファン５によって循環系を形成するとともに、薬剤導入部２に接続される処理ガス流路Ｌｓと、これに繋がる集塵装置３に接続されるバイパス流路Ｌｔと、バイパス流路Ｌｔに設けられたアンモニア除去装置６によって再生ガス処理系が構成され、循環系内において循環しながら加熱された再生ガスの一部を取出し、処理ガス流路Ｌｓを介して再生ガス処理系に導入し、中和処理および除塵処理を行い、さらにアンモニア除去処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の酸性ガス吸収除去剤は、長期間の使用で除去性能が徐々に低下するため再生が必要であるが、再生による強度低下抑制と再生時間の短縮化が課題であった。
【解決手段】硫酸カルシウムと水酸化カルシウムと活性炭の主成分にセルロースエーテルを少量混合した混練成型硬化物を、ナトリウムまたはカリウムの水酸化物または炭酸塩の水溶液に浸漬して得た酸性ガス吸収除去剤において、長期間使用後、該吸収除去剤を亜硫酸塩水溶液で洗浄することにより、再生時間を短くすることができ、更には酸性ガス吸収除去剤の再生による強度低下を抑制することができる。 （もっと読む）