【課題】セラミックス成形用粘土を成形して得られた生地成形体の乾燥時における収縮を制御して、製品の外観寸法を任意に調整可能なセラミックス成形用粘土及びその製造方法、並びにセラミックス成形用粘土を用いたセラミックス成形体の製造方法及びそれにより製造されたセラミックス成形体を提供する。
【解決手段】セラミックス粉体を含有する粘土組成物と、融点が２５℃以上１００℃未満、かつ、水に不溶又は難溶である飽和脂肪酸とを含み、しかも、飽和脂肪酸が、粘土組成物中の無機固形分１００質量％に対して０質量％を超え２．００質量％の割合で添加されている。 （もっと読む）

【課題】 窒素酸化物、金属水銀および塩素化物を含む排ガスを、アンモニアおよび脱硝触媒の存在下に脱硝処理する方法において、排ガスが高温で、かつ排ガス中のCl濃度が低い場合（10ppm以下）や、SO_２及びNH_３が存在していても、Hg酸化率の低下を抑制し、かつ高いHg酸化性能を達成すると同時に、SO_２酸化率も低く維持できる排ガス処理方法および触媒を提供する。
【解決手段】窒素酸化物、金属水銀および塩素化物を含む排ガスを、アンモニアおよび脱硝触媒の存在下に還元脱硝するとともに、金属水銀を塩化水銀に酸化する排ガス処理方法であって、前記触媒が酸化チタンに、モリブデンまたはタングステン、およびバナジウムの各酸化物、並びに銀化合物を担持した排ガス処理方法。 （もっと読む）

【課題】排ガス処理性能の低下及び二酸化硫黄の酸化を抑制できる排ガス処理触媒の再生方法を提供する。
【解決手段】表面に灰分が付着した排ガス処理触媒１１の再生方法であって、排ガス処理触媒１１の全重量に対して７０〜９５重量％の範囲で閾値サイズＳ（０．１０５〜１．０ｍｍの範囲内の任意のある値）超の粗片１２を生じさせるように排ガス処理触媒１１を粗粉砕する粗粉砕工程Ｓ１と、排ガス処理触媒１１の粗粉砕物を閾値サイズＳ超の粗片１２と閾値サイズＳ以下の細粉１３とに分離する分離工程Ｓ２と、分離された粗片１２を平均粒径０．１ｍｍ以下の微粉体とするように微粉砕する微粉砕工程Ｓ３と、微粉体を他の原料と混練りして排ガス処理触媒に成型加工する混練工程Ｓ４及び成型工程Ｓ５と、成型された原型を乾燥して焼成処理する乾燥工程Ｓ６及び焼成工程Ｓ７とを行うことにより、再生された排ガス処理触媒１４を得る。 （もっと読む）

本発明は、光触媒活性を有する顆粒体であって、建材中または建材上に光触媒活性を導入するための、光触媒活性化合物で被覆された無機粒子材料の粒子を含む顆粒体を対象とする。本発明はさらに、このような顆粒体の製造に関し、また、セメント、コンクリート、石膏および／または石灰石などの建材中もしくは建材上における、また水性塗料またはペイントにおけるその使用であって、このような材料上の微生物および環境汚染物質の蓄積および生長を低減し、したがって汚れの傾向を小さくする一方、色の鮮やかさを保持し、また空気の質を向上させるための使用に関する。 （もっと読む）

【課題】低コスト、省エネルギーでありながら触媒反応器に供給されるＶＯＣ含有ガスの温度むらを防ぎつつ、触媒反応器によって処理された処理ガスを熱源としてＶＯＣ含有ガスを加熱する加熱手段における閉塞や腐食を防ぐ。
【解決手段】ＶＯＣを含有するガスＡと空気加熱手段５によって加熱された空気Ｂとを混合して混合ガスＣとし、この混合ガスＣのうち一部の混合ガスＥをバイパス経路１１に分岐させるとともに、残りの混合ガスＤを混合ガス加熱手段１０によって加熱し、この加熱された残りの混合ガスＤとバイパス経路１１を経て分岐した一部の混合ガスＥとを混合して触媒反応器１６により触媒に反応させて処理し、この触媒反応器１６によって処理された処理ガスＧを混合ガス加熱手段１０に供給する。 （もっと読む）

【課題】酸化触媒装置のＮＯ_２吸着状態を推定して、選択還元型ＮＯｘ触媒装置に流入するＮＯｘのＮＯ：ＮＯ_２の比をできるだけ、１：１に近づけて、必要なアンモニア系溶液の量を添加して、アンモニアの不足や過剰供給による問題を回避できるＮＯｘ浄化システムの制御方法およびＮＯｘ浄化システムを提供する。
【解決手段】上流側から順に酸化触媒装置１２と選択還元型ＮＯｘ触媒装置１４を備えて排気ガス中のＮＯｘを還元するＮＯｘ浄化システムの制御方法及びＮＯｘ浄化システム１において、酸化触媒装置１２におけるＮＯ_２吸着量Ｖｎの増減を推定し、この推定したＮＯ_２吸着量Ｖｎの増減に基づいて、酸化触媒装置１２をバイパスする排気ガス流量Ｖｇｂを調整する。 （もっと読む）

【課題】排気ガスの処理効率を高めた内燃機関の排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】
排気系に設けられ、排気ガス中のＮＯxを選択還元する装置(A)と、選択還元装置の上流側に設けられた尿素を分解してアンモニアをＮＯx還元用ガスとして供給する装置(B)とからなる排ガス処理装置であって、装置(B)にハニカム状触媒または膜状触媒を有し、該ハ
ニカム状触媒または膜状触媒が導電性を有するハニカム基材または網状支持体に金属酸化物微粒子が付着した触媒であり、金属酸化物微粒子がNa、Mg、Ca、Ba、La、Ce、Ti、Zr、V、Cr、Mo、W、Mn、Zn、Al、Si、P、Sb、Cu、Fe、Ru、Co、Reからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物からなることを特徴とする排ガス処理装置。 （もっと読む）

【課題】照度が低い日常的な室内環境等においても、実用的な光触媒性能を示す可視光応答型光触媒粉末を提供する。
【解決手段】可視光応答型光触媒粉末は酸化タングステン粉末または酸化タングステン複合材粉末を具備する。初期濃度１０ｐｐｍのアセトアルデヒドガスを流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をＡ、光照射から１５分以上経過し、安定したときのガス濃度をＢとし、ガス濃度Ａとガス濃度Ｂから［（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００］に基づいて算出した値をガス分解率（％）とする。可視光応答型光触媒粉末に波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が６０００ｌｘの可視光を照射した際のガス分解率（Ｇ１）に対し、同一試料量の可視光応答型光触媒粉末に波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が２５００ｌｘの可視光を照射した際のガス分解率（Ｇ２）の比（Ｇ２／Ｇ１）が７４％以上である。 （もっと読む）

【課題】 排ガス処理において、水銀除去効率を高く維持しつつ、腐食性の高い水銀ハロゲン化剤の添加量を低減させる。
【解決手段】 ＮＯ_x、ＳＯ_x及び水銀を含むボイラ燃焼排ガスに水銀ハロゲン化剤４０及びアンモニア３０を加えて、ＣＯ、ＨＣ酸化触媒５０に接触させ、その後固体触媒の存在下で還元脱硝６０するとともに金属水銀をハロゲン化水銀に酸化し、次いでアルカリ吸収液により湿式脱硫１００するとともにハロゲン化水銀を除去する。 （もっと読む）

【課題】照度が低い日常的な室内環境等においても、良好な光触媒性能を得ることが可能な可視光応答型光触媒粉末を提供する。
【解決手段】可視光応答型光触媒粉末は酸化タングステン粉末または酸化タングステン複合材粉末を具備する。流通式装置に０．２ｇの試料を入れた状態で、初期濃度１０ｐｐｍのアセトアルデヒドガスを１４０ｍＬ／ｍｉｎで流して測定したガス濃度において、光照射前のガス濃度をＡ、光照射から１５分以上経過し、かつ安定したときのガス濃度をＢとし、ガス濃度Ａとガス濃度Ｂから［式：（Ａ−Ｂ）／Ａ×１００］に基づいて算出した値をガス分解率（％）としたとき、可視光応答型光触媒粉末は波長が３８０ｎｍ以上のみの光で照度が２００ｌｘの可視光を照射した際に５％以上のガス分解率を有する。 （もっと読む）

【課題】
ボイラ等から排出される窒素酸化物を効率よく浄化する窒素酸化物浄化触媒を提供する。
【解決手段】
少なくとも二種類の金属を含む窒素酸化物浄化用触媒であって、第一の活性成分と第二の活性成分から成り、第一の活性成分は、一酸化窒素（ＮＯ）の吸着力が強く、かつ酸素分子（Ｏ₂）の吸着力が弱い成分であり、第二の活性成分は酸素分子（Ｏ₂）の吸着力が強く、かつ一酸化窒素（ＮＯ）の酸素（Ｏ）原子と活性成分と酸素原子との結合を作りやすい成分に選定したことと、第一の活性成分と第二の活性成分が結合を作らず、一定距離で隔たれていることと、第一の活性成分同士、及び第二の活性成分同士は、それぞれ結合を作っていることにある。 （もっと読む）

【課題】 排ガス処理において、水銀酸化効率を高く維持しつつ、腐食性の高い水銀塩素化剤の添加量を低減させることのできる排ガス処理触媒を提供する。
【解決手段】 アンモニアを還元剤として接触的に排ガス中の窒素酸化物を除去するとともに、ハロゲンを酸化剤として水銀を酸化する排ガス処理触媒において、ＴｉＯ_２を担体として、該担体上にＶ，Ｗ及びＭｏからなる群より選ばれる少なくとも１種類の酸化物を活性成分として担持し、かつ周期表第Ｖ族に属する元素を含む化合物から選ばれる少なくとも１種類を助触媒成分として担持することとした。 （もっと読む）

【課題】光吸収効率が著しく向上し光触媒活性に優れ、しかもその調製法も簡便な半導体光触媒を提供する。
【解決手段】少なくとも光を閉じこめる二次構造を有する半導体光触媒であって、当該二次構造は、半導体光触媒前駆体溶液の過酸化物の存在下での加熱分解により形成されたものである半導体光触媒。過酸化物が過酸化水素である上記半導体光触媒。半導体光触媒がチタン、タングステン、ビスマス、モリブデン、ニッケル、バナジウム、鉄及びインジウムの少なくとも一つの元素を含む半導体光触媒。 （もっと読む）

【課題】三元触媒として十分に高い触媒活性を発揮しながらＨ_２Ｓの排出量を十分に低減させることが可能な排ガス浄化装置を提供すること。
【解決手段】第一の触媒基材と、前記第一の触媒基材に担持された第一の金属酸化物担体と、前記第一の金属酸化物担体に担持された第一の貴金属とを備え、ＣＯ_２昇温脱離測定による触媒１ＬあたりのＣＯ_２の脱離量を基準とした触媒１Ｌあたりの塩基点量が３．０〜２０ｍｍｏｌ／Ｌ−ｃａｔであるという条件を満たし、且つガス流路の上流側に配置される第一の触媒、及び、
第二の触媒基材と、前記第二の触媒基材に担持された第二の金属酸化物担体と、前記第二の金属酸化物担体に担持された第二の貴金属とを備え、ＣＯ_２昇温脱離測定による触媒１ＬあたりのＣＯ_２の脱離量を基準とした触媒１Ｌあたりの塩基点量が２．０ｍｍｏｌ／Ｌ−ｃａｔ以下であるという条件を満たし、且つ前記ガス流路の下流側に配置される第二の触媒、
を備えることを特徴とする排ガス浄化装置。 （もっと読む）

【課題】可視光照射によって光触媒活性と超親水性を発現する光触媒およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光触媒は、可視光照射により光触媒活性および超親水性を発現する光触媒であって、ニオブあるいはタングステンと窒素をドープした酸化チタンであることを特徴とする光触媒である。その製造方法は、（ａ）硫酸チタンと、ニオブまたはタングステンから選ばれたドーパント金属の水溶性化合物を含む水溶液を用意する工程、（ｂ）該水溶液へアンモニア水を添加し、ドーパント金属化合物の加水分解生成物を含んでいる酸化チタン水和物の沈澱を析出させる工程、（ｃ）析出した沈澱を濾過し、乾燥する工程、および（ｄ）乾燥した沈澱を空気中で２００〜７００℃の温度で焼成する工程、を含んでいる、可視光下で高い光触媒活性を示す酸化チタン光触媒の製造方法である。 （もっと読む）

排ガスの希釈を必要とすることなく、３００℃〜７００℃超の運転温度で燃焼排ガス中の窒素酸化物を還元するための安定な高温触媒を生産するプロセス。ゼオライト材料が、ゼオライトを部分的に脱アルミニウム化してほぼ定常状態とするのに十分であるがその化学構造を完全に崩壊させるには十分ではない温度及び継続時間で、蒸気処理される。鉄がゼオライト材料に添加される。ゼオライト材料は、そのゼオライト材料を安定化するのに十分な温度、湿度及び継続時間で焼成される。蒸気処理ステップ、焼成ステップ及び他のステップの範囲、順序及び継続時間についての例及び詳細が提供される。 （もっと読む）

【課題】ＮＯ、ＮＯ_２、Ｎ_２Ｏを含む窒素酸化物（ＮＯｘ）を含有する排気ガスをアンモニア又は尿素などの還元剤を噴射して触媒反応を通じてＮ_２とＨ_２Ｏに転換する技術の中で排気ガスを浄化するための触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）擬ベーマイト、蒸留水、及びｐＨ調節剤を混合して均一に解膠（peptizing）させて無機バインダーを得る段階；（ｂ）ゼオライト、前記無機バインダー、有機バインダー、及び蒸留水を混合した後、混練（kneading）して練りを得る段階；（ｃ）前記練りを規則的な構造の貫通気孔を有する押出体で押出する段階；及び（ｄ）前記押出体を乾燥した後、熱処理する段階；とを含めて製造される窒素酸化物低減用ハニカム型触媒の製造方法を提供する。 （もっと読む）

少なくとも４０％の多孔率を有してなり、押出しタイプの選択式触媒還元（ＳＣＲ）触媒から形成されてなる、ウォールフローフィルターモノリス基材。 （もっと読む）

【課題】排ガス中に含まれる窒素酸化物を、低温からの広い温度領域で効率良く浄化することができる排ガス浄化装置を提供する。
【解決手段】周期的なリッチ又はリーン条件で燃料を供給して燃焼させる内燃機関１５の排ガス浄化に用いられる排ガス浄化装置１０において、水素及び一酸化炭素を含む改質ガスを生成する改質手段１１と、パラジウムを含有することにより、低温で窒素酸化物を酸化吸着するとともに水素及び一酸化炭素を酸化可能な低温酸化手段１２と、リーン条件で窒素酸化物を吸着するとともに吸着した窒素酸化物をリッチ条件で放出し、放出された窒素酸化物を流路内に存在する水素及び一酸化炭素で浄化する浄化手段１３と、を備え、これら改質手段１１、低温酸化手段１２、及び浄化手段１３のレイアウトに工夫を凝らすことにより、排ガス中に含まれる窒素酸化物を、低温からの広い温度領域で浄化することができる。 （もっと読む）

【課題】紫外光が照射されない環境下であっても、可視光線を照射することによって高い
光触媒作用を示す酸化タングステン光触媒体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化タングステン光触媒体は、酸化タングステン粒子の表面に一次
粒子径が３ｎｍ以上〜２０ｎｍ以下のＰｔ粒子が、酸化タングステン粒子１００重量部あ
たり０．０３〜５重量部担持されてなるものであり、好ましくは酸化タングステン粒子の
凝集粒子径の累積粒度分布の微粒側から累積５０％の粒径をＤ５０としたとき、Ｄ５０が
０．０１μｍ〜５μｍであり、一次粒子径が５ｎｍ〜１５０ｎｍである。 （もっと読む）